Gedelegeerde Verordening (EU) nr. 1382/2014 van de Commissie van 22 oktober 2014 tot wijziging van Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer, de overbrenging, de tussenhandel en de doorvoer van producten voor tweeërlei gebruik

In forceVersion 2014-10-22from 2014-12-31

Grade B

mapped from publisher markup. A grade says how a document's structure was obtained, not how reliable the law is.

Ask Gelex about this law

Address https://gelex.eu/eli/EU/act/2014/1382@2014-10-22/nl

Contents

Preamble
1. Artikel 1
2. Artikel 2
ANNEX
BIJLAGE
BIJLAGE I Lijst bedoeld in artikel 3 van deze Verordening
LIJST VAN PRODUCTEN VOOR TWEEËRLEI GEBRUIK
a.
1. a.
b.
c.
d.
e.
f.
CATEGORIE 0 NUCLEAIRE GOEDEREN
0A a.
0B Technische noot:
0B a.
7. a.
13. a.
14. a.
5. a.
6. a.
0C a.
CATEGORIE 1 SPECIALE MATERIALEN EN AANVERWANTE APPARATUUR
1A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot:
1A a.
1. a.
4. a.
1A Technische noten: 1.2. a.
1A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.
1A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: a.
1B Technische noot: 1.2. Technische noot:
1B a.
1B Technische noot: 1.2. a.
a.
b.
c.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: 1.2.3.
1C Technische noot: a.
a.
b.
c.
1. Technische noot:
1. a.
d.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. a.
1. a.
2. a.
3. a.
4. a.
5. a.
1. Technische noot:
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: a.
1. Technische noot:
2. Technische noot:
3. a.
1. a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot:
4. a.
1. a.
2. a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. a.
a.
b.
c.
d.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. d.
1. a.
2. a.
a.
b.
a. 1C011 a.Technische noot:
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: a.
a.
b.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: a.
1. Technische noot:
2. a. Technische noot:
3. a.
4. a.
5. Technische noot:
5. a.
6. a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1:
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: a.
1. a.
2. a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.
1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.
4. a.
6. Technische noot:
5. a.
1E a.
1. a.
3. a.
CATEGORIE 2 MATERIAALBEWERKING
2A Technische noot:
2A a.
2. a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2.
2B Technische noten: 1.2. a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5. a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. a.
a.
b.
1. a.
2. a.
4. a.
c.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten:
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: a.
1. a.
2. a.
1. Technische noot:
1. a.
2. a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.
1. a.
a.
b.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a. Technische noot:
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: Technische noten: 1.2. a.
2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.
1. a.
2. a.
3. a.
a.
b.
c.
d.
e.
f.
g.
h.
i.
2. a.
1. a.
2D a.
2E Tabel 1.2.3.A.B.B.1.B.2.B.3.B.4.C.D.E.F.G. Afzettingstechnieken
2E a.
1. a.
2. a.
a.
b.
c.
d.
e.
f.
g.
CATEGORIE 3 ELEKTRONICA
3A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2.
3A a.
1. a.
2. a.
5. Technische noten: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. 3A001 a. 5.Technische noten: 1.2.3.4.
5. a.
5. Technische noten: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. b.
2. a.
6. a.
7. 3A001 a. 7.Technische noten: 1.2.3.
7. a.
10. a.
11. a.
12. Technische noot:
13. Technische noot:
13. a.
4. a.
3. a.
4. a.
3. Technische noot:
8. a.
9. Technische noten: 1.2.
9. a.
10. Technische noot:
1. Technische noot:
1. Technische noten: 1.2.3.4.
4. Technische noot:
5. Technische noten: 1.2.
6. Technische noot:
3. Technische noot:
3A Technische noten: 1.2. a.
1. a.
2. a.
3A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.
3A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.
3B a.
1. a.
3. a.
3C a.
3D Technische noot:
3E a.
CATEGORIE 4 COMPUTERS
4A a.
4D a.
4E a.
Afkortingen in deze technische noot
Berekening van APP 1.2.3.4. Technische noot:
Berekening van APP 1.2.3.4.
CATEGORIE 5 TELECOMMUNICATIE EN INFORMATIEBEVEILIGING
DEEL 1 TELECOMMUNICATIE
5A1 Technische noot:
5A1 a.
1. a.
2. a.
3. a.
a.
b.
4. a.
5. Technische noten:
5. a.
6. Technische noten: 1.2.
a.
b.
c.
5B1 a.
2. a.

DE EUROPESE COMMISSIE,

Gezien het Verdrag betreffende de werking van de Europese Unie,

Gezien Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad van 5 mei 2009 tot instelling van een communautaire regeling voor controle op de uitvoer, de overbrenging, de tussenhandel en de doorvoer van producten voor tweeërlei gebruik en met name artikel 15, lid 3,

Overwegende hetgeen volgt:

(1) Krachtens Verordening (EG) nr. 428/2009 van de Raad moeten producten voor tweeërlei gebruik aan een doeltreffende controle worden onderworpen bij uitvoer uit of doorvoer door de Unie, of bij levering aan een derde land als gevolg van tussenhandeldiensten welke worden verleend door een tussenhandelaar die een ingezetene van de Unie is, of die in de Unie is gevestigd.

(2) De gemeenschappelijke lijst van producten voor tweeërlei gebruik die in de Europese Unie aan controle onderhevig zijn, is vastgesteld in bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009. Besluiten over de producten die aan controle zijn onderworpen, worden genomen in het kader van de Australiëgroep, het Missile Technology Control Regime, de Groep van nucleaire exportlanden, het Wassenaar Arrangement en het Verdrag inzake chemische wapens.

(3) De lijst van producten voor tweeërlei gebruik in bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 moet regelmatig worden bijgewerkt zodat aan de verplichtingen inzake internationale veiligheid wordt voldaan, de transparantie wordt gewaarborgd en het concurrentievermogen van de exporteurs wordt behouden. Om raadpleging door instanties voor uitvoercontrole en door marktdeelnemers te vergemakkelijken, dient een bijgewerkte en geconsolideerde versie van bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 te worden bekendgemaakt.

(4) Krachtens Verordening (EG) nr. 428/2009 is de Commissie bevoegd de lijst van producten voor tweeërlei gebruik in bijlage I door middel van gedelegeerde handelingen bij te werken overeenkomstig de desbetreffende verplichtingen en verbintenissen en alle wijzigingen daarin waarmee de lidstaten hebben ingestemd als partij bij de internationale regelingen inzake non-proliferatie en uitvoercontrole of door de bekrachtiging van desbetreffende internationale verdragen.

(5) Verordening (EG) nr. 428/2009 dient bijgevolg dienovereenkomstig te worden gewijzigd,

HEEFT DE VOLGENDE VERORDENING VASTGESTELD:

Artikel 1

Bijlage I bij Verordening (EG) nr. 428/2009 wordt vervangen door de bijlage bij deze verordening.

Artikel 2

Deze verordening treedt in werking op de dag na die van de bekendmaking ervan in het Publicatieblad van de Europese Unie.

Deze verordening is verbindend in al haar onderdelen en is rechtstreeks toepasselijk in elke lidstaat. Gedaan te Brussel, 22 oktober 2014. Voor de Commissie De voorzitter José Manuel Barroso

ANNEX

BIJLAGE

BIJLAGE I Lijst bedoeld in artikel 3 van deze Verordening

LIJST VAN PRODUCTEN VOOR TWEEËRLEI GEBRUIK

Deze lijst is een technische implementatie van internationaal overeengekomen vergunningsregelingen voor goederen voor tweeërlei gebruik, waaronder het Wassenaar Arrangement, het Missile Technology Control Regime (MTCR), de Groep van Nucleaire Exportlanden, de Australiëgroep en het Verdrag inzake chemische wapens (Chemical Weapons Convention - CWC).

ALGEMENE OPMERKINGEN BIJ BIJLAGE I 1.2.3.4.

Voor de controle op de uitvoer van goederen die zijn ontworpen of aangepast voor militair gebruik zij verwezen naar de desbetreffende lijst(en) van aan vergunningsplicht onderworpen militaire goederen van de afzonderlijke lidstaten. Verwijzingen in deze bijlage naar de Lijst militaire goederen hebben betrekking op deze lijsten. De doelstelling van de controles op de uitvoer van de goederen, vermeld in deze bijlage, mag niet worden omzeild door de uitvoer van niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen (met inbegrip van fabrieken) die één of meer aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen bevatten, als deze onderdelen het voornaamste element van de goederen vormen en gemakkelijk kunnen worden verwijderd of voor andere doeleinden worden aangewend. N.B.: Bij de beoordeling van de vraag of de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element dienen te worden aangemerkt, dienen factoren als hoeveelheid, waarde en technologische knowhow alsmede andere bijzondere omstandigheden op grond waarvan de aan vergunningsplicht onderworpen onderdelen als voornaamste element van de geleverde goederen kunnen worden aangemerkt, een rol te spelen. Met goederen worden in deze bijlage zowel nieuwe als gebruikte goederen bedoeld. In sommige gevallen zijn stoffen vermeld met naam en CAS-nummer. Onder de lijst vallen stoffen met dezelfde structuurformule (inclusief hydraten), ongeacht naam of CAS-nummer. De CAS-nummers zijn vermeld om een bepaalde stof of een bepaald mengsel gemakkelijker te kunnen identificeren, ongeacht de nomenclatuur. CAS-nummers kunnen niet als eenduidige identificatienummers gebruikt worden, omdat sommige vormen van de op de lijst vermelde stoffen andere CAS-nummers hebben, en ook mengsels die een op de lijst voorkomende stof bevatten, andere CAS-nummers kunnen hebben.

NUCLEAIRE TECHNOLOGIE-NOOT (NTN)

(Te lezen in samenhang met sectie E van categorie 0.) De technologie die rechtstreeks samenhangt met goederen die in categorie 0 vallen, valt onder de bepalingen van categorie 0. Technologie voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen. Het verlenen van een uitvoervergunning voor goederen houdt tevens in dat de uitvoer naar dezelfde eindgebruiker van de minimaal noodzakelijke technologie voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van de goederen is toegestaan. Vergunningsregelingen voor overdracht van technologie zijn niet van toepassing op informatie die voor iedereen beschikbaar is, en op fundamenteel wetenschappelijk onderzoek.

ALGEMENE TECHNOLOGIENOOT (ATN)

(Te lezen als onderdeel van sectie E van de categorieën 1 tot en met 9.) De uitvoer van technologie die noodzakelijk is voor de ontwikkeling, productie of het gebruik van in de categorieën 1 tot en met 9 bedoelde goederen is onderworpen aan de op de categorieën 1 tot en met 9 van toepassing zijnde bepalingen. Technologie die noodzakelijk is voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van aan vergunningsplicht onderworpen goederen is ook aan vergunningsplicht onderworpen als deze technologie wordt toegepast op niet aan vergunningsplicht onderworpen goederen. De vergunningsplicht geldt niet voor de minimaal noodzakelijke technologie voor installatie, bediening, onderhoud en reparatie van niet onder de vergunningsplicht vallende goederen of op de goederen waarvan de uitvoer is toegestaan. N.B.: Deze bepaling laat de embargostatus van de in 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a en 8E002.b bedoelde technologie onverlet. De vergunningsplicht voor de overdracht van technologie is niet van toepassing op informatie die voor iedereen beschikbaar is, op fundamenteel wetenschappelijk onderzoek en op de voor octrooiaanvragen noodzakelijke minimuminformatie.

ALGEMENE PROGRAMMATUURNOOT (APN)

(Deze noot heeft voorrang boven het bepaalde in sectie D van de categorieën 0 tot en met 9.) De categorieën 0 tot en met 9 van deze lijst zijn niet van toepassing op programmatuur die:

a.

algemeen voor het publiek verkrijgbaar is doordat de programmatuur: N.B.: Punt a. van de Algemene programmatuurnoot laat de embargostatus van de in categorie 5 - deel 2 (Informatiebeveiliging) bedoelde programmatuur onverlet.

1. via de detailhandel zonder beperkingen uit voorraad wordt verkocht via:

1. a.

winkelverkoop;

postorderverkoop;

elektronische transacties; of

telefonische verkoop; en

2. is ontworpen voor installatie door de gebruiker zonder wezenlijke ondersteuning van de leverancier;

b.

voor iedereen beschikbaar is; of

c.

de minimaal noodzakelijke objectcode voor de installatie, de exploitatie, het onderhoud (controle) of de reparatie van goederen waarvan de uitvoer is toegestaan. N.B.: Punt c. van de Algemene programmatuurnoot laat de embargostatus van de in categorie 5 - deel 2 (Informatiebeveiliging) bedoelde programmatuur onverlet.

REDACTIONELE CONVENTIES IN HET PUBLICATIEBLAD VAN DE EUROPESE UNIE

In overeenstemming met de regels uiteengezet in alinea 6.5 op pagina 108 van de Interinstitutionele schrijfwijzer (editie 2011), voor in het Nederlands gepubliceerde teksten in het Publicatieblad van de Europese Unie: In deze bijlage wordt de hierboven beschreven praktijk aangehouden.

worden decimalen van gehele getallen gescheiden door een komma (bv. 3,67 cm),

wordt een spatie gebruikt om duizenden in gehele getallen aan te geven (bv. 100000).

IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE ACRONIEMEN EN AFKORTINGEN

Een acroniem of afkorting, gebruikt als gedefinieerde term, is te vinden in Definities van in deze bijlage gebruikte termen. ACRONIEM OF AFKORTING BETEKENIS ABEC Annular Bearing Engineers Committee AGMA American Gear Manufacturers’ Association AHRS attitude and heading reference systems AISI American Iron and Steel Institute ALU arithmetic logic unit (logische rekeneenheid) ANSI American National Standards Institute ASTM the American Society for Testing and Materials ATC air traffic control (luchtverkeersleiding) AVLIS isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damplasers CAD computer-aided-design (computerondersteund ontwerpen) CAS Chemical Abstracts Service CDU control and display unit (besturings- en beeldeenheid) CEP circular error probability (50 %-trefkanscirkel) CNTD controlled nucleation thermal deposition (thermische ontleding met beheerste nucleatie) CRISLA chemische reactie door selectieve laseractivering van één of meer isotopen CVD chemical vapour deposition (chemische afzetting uit de dampfase) CW chemical warfare (chemische oorlogsvoering) CW (voor lasers) continuous wave (continugolf) DME Distance Measuring Equipment (Instrument voor het aangeven van afstand - DME). DS directionally solidified (gerichte stolling) EB-PVD electron beam physical vapour deposition (elektronenstraalverdampen) EBU European Broadcasting Union ECM electro-chemical machining ECR electron cyclotron resonance EDM electrical discharge machines (vonkmachines) EEPROMS electrically erasable programmable read only memory EIA Electronic Industries Association EMC elektromagnetische compatibiliteit ETSI European Telecommunications Standards Institute (Europees Instituut voor telecommunicatienormen) FFT Fast Fourier Transform (snelle Fourier-transformatie) GLONASS global navigation satellite system (wereldwijd satellietnavigatiesysteem) GPS global positioning system HBT heterobipolaire transistors HDDR high density digital recording (digitale registratie met hoge dichtheid) HEMT high electron mobility transistors (tansistors met hoge elektronenmobiliteit) ICAO International Civil Aviation Organization (Internationale Burgerluchtvaartorganisatie) IEC International Electrotechnical Commission (CEI - Internationale Elektrotechnische Commissie) IEEE Institute of Electrical and Electronic Engineers IFOV Instantaneous field of view (momenteel gezichtsveld) ILS instrument landing system IRIG inter-range instrumentation group ISA international standard atmosphere ISAR inverse synthetic aperture radar (radarmodus met omgekeerde kunstmatig ingestelde apertuur) ISO International Organization for Standardization (Internationale organisatie voor normalisatie) ITU International Telecommunication Union (Internationale Telecommunicatie Unie) JIS Japanse Industriestandaard JT Joule-Thomson LIDAR light detection and ranging (lichtdetectie- en afstandsbepaling) LRU line replaceable unit MAC message authentication code Mach verhouding van de snelheid van een voorwerp tot de geluidssnelheid (naar Ernst Mach) MLIS isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire lasers MLS microwave landing systems (microgolf-landingssystemen) MOCVD metal organic chemical vapour deposition (chemisch neerslaan van organometaaldamp) MRI magnetic resonance imaging (beeldvorming door middel van magnetische resonantie) MTBF mean-time-between-failures (gemiddeld storingsvrij interval) Mtops miljoenen technische bewerkingen per seconde MTTF mean-time-to-failure (gemiddeld interval vóór storing) NBC nucleair, biologisch en chemisch NDT non-destructive test (niet-destructief onderzoek) PAR precision approach radar (landingsradarapparatuur) PIN persoonlijk identificatienummer ppm parts per million (delen per miljoen) PSD power spectral density (constante spectrale vermogensdichtheid) QAM quadratureamplitude-modulation (kwadratuuramplitudemodulatie) RF radiofrequentie SACMA Suppliers of Advanced Composite Materials Association SAR synthetic aperture radar (radarmodus met kunstmatig ingestelde apertuur) SC single crystal (eenkristal) SLAR sidelooking airborne radar (zijwaarts stralende radarmodus in vliegtuigen) SMPTE Society of Motion Picture and Television Engineers SRA shop replaceable assembly (in de werkplaats vervangbaar moduul) SRAM static random access memory SRM SACMA Recommended Methods SSB single sideband (enkele zijband) SSR secondary surveillance radar TCSEC trusted computer system evaluation criteria TIR total indicated reading (totale meetklokuitslag) UV ultraviolet UTS ultimate tensile strength (eindtreksterkte) VOR very high frequency omni-directional range YAG yttrium/aluminium garnet

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN Technische noot: Technische noot: Noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot:

De definitie van termen tussen enkele aanhalingstekens (…) wordt gegeven in een technische noot bij de betrokken post. De definitie van de termen tussen dubbele aanhalingstekens (…) luidt als volgt: N.B.: Na elke gedefinieerde term wordt tussen haakjes verwezen naar de betrokken categorie(ën). Aangepast piekvermogen (4): een aangepaste pieksnelheid waarbij digitale computers drijvendekommaoptellingen en -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer uitvoeren, die wordt uitgedrukt in gewogen teraFLOPS (‹Weighted TeraFLOPS (WT)›), in eenheden van 1012 aangepaste drijvendekommabewerkingen per seconde. N.B.: Zie categorie 4, Technische noot. Aangepast voor gebruik in oorlogssituaties (1): iedere aanpassing of selectie (zoals een wijziging van de zuiverheid, houdbaarheid, virulentie, verspreidingskenmerken, of weerstand tegen UV-straling) die tot doel heeft de werkzaamheid te verhogen ten aanzien van menselijke of dierlijke slachtoffers, schade aan uitrusting of aan gewassen, en aantasting van het milieu. Actieve pixel (6 8): het kleinste (afzonderlijke) element van de halfgeleider-array dat nog een foto-elektrische overdrachtsfunctie vervult bij blootstelling aan elektromagnetische straling (licht). Actieve vluchtregelsystemen (7): actieve vluchtregelsystemen die ongewenste bewegingen of structurele belastingen van het vliegtuig of de raket voorkomen door de onafhankelijke verwerking van signalen van meerdere sensoren waarna preventieve commando’s voor automatische regeling worden gegeven. Aerodynamische vlakken met variabel profiel (7): deze worden verkregen door flappen aan de achterrand of aan de voorrand of door een naar beneden knikkende voorrand, welke tijdens de vlucht bestuurd kunnen worden. Afstembaar (6): het vermogen van een laser om binnen een gebied van verschillende laser-overgangen bij elke golflengte een continuvermogen op te wekken. Een laser die slechts kan werken op een beperkt aantal vaste golflengten ‹line selectable› wekt discrete golflengten op binnen één laser-overgang en wordt niet beschouwd als afstembaar. <Angle random walk> (7): de foutenontwikkeling bij hoekversnellingsmeting in tijd door witte ruis in de snelheid van de hoekbeweging. (IEEE STD 528-2001) APP (4): (Adjusted Peak Performance) Aangepast piekvermogen. Asymmetrisch algoritme (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie een andere wiskundige sleutel wordt gebruikt dan voor decryptie. N.B.: Voor sleutelbeheer worden gewoonlijk asymmetrische algoritmen gebruikt. Automatisch volgen van het doel (6): een verwerkingstechniek waarbij automatisch en onvertraagd een geëxtrapoleerde waarde van de meest waarschijnlijke positie van het doel wordt bepaald en als uitgangssignaal wordt afgegeven. Axiale slag (2): axiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil, gemeten in een vlak loodrecht op de stelplaat van de spil aan een punt dat grenst aan de omtrek van de stelplaat van de spil. (Referentie: ISO 230, deel 1 1986, paragraaf 5.63) Band (1): een materiaal dat bestaat uit in elkaar gevlochten of in één richting liggende monofilamenten, strengen, ‹rovings›, linten of garens, enz., gewoonlijk geïmpregneerd met hars. N.B.: streng: een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. Beeldverbetering (4): het verwerken van elders verkregen informatiedragende beelden met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bijvoorbeeld de snelle Fouriertransformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walshtransformatie (‹Walsh transform›)). Hieronder zijn niet begrepen algoritmen die slechts lineaire of draaiende omzettingen op een enkel beeld toepassen, zoals verschuivingen, extractie van specifieke kenmerken, registratie of het vals kleuren. Bias (gyroscopen) (7): het gemiddelde uitgangssignaal van een gyroscoop over een bepaalde tijd, gemeten onder gespecificeerde werkingsomstandigheden dat geen correlatie heeft met een aanzetrotatie of -versnelling. Bias wordt typisch uitgedrukt in graden per uur (g/u). (IEEE Std 528-2001). Bias (versnellingsmeters) (7): het gemiddelde uitgangssignaal van een versnellingsmeter over een bepaalde tijd, gemeten onder gespecificeerde werkingsomstandigheden dat geen correlatie heeft met een aanzetversnelling of -rotatie. Bias wordt uitgedrukt in g of in meter per secondekwadraat (m/s2). (IEEE Std 528-2001) (Micro g = 1 × 10-6 g). Binnenbekleding (9): de hechtlaag tussen de vaste stuwstof en de omhulling of isolerende bekleding. Doorgaans een op vloeibare polymeren gebaseerde dispersie van hittebestendige of isolerende materialen, bijvoorbeeld polybutadieen met hydroxy-eindgroep (HTPB) met koolstof als vulmateriaal of een andere polymeer waaraan hardingsmiddelen zijn toegevoegd, waarmee het inwendige van een omhulling wordt gespoten of bestreken. Brandstofcel (8): een elektrochemische inrichting die chemische energie rechtstreeks in gelijkstroom (DC) omzet door van een externe bron afkomstige brandstof te verbruiken. Broncode (of brontaal) (6 7 9): een geschikte expressie van één of meer processen, die door een programmeersysteem kan worden omgezet in een door apparatuur uitvoerbare vorm (objectcode (of doeltaal)). CEP (‹circle of equal probability›, 50 %-trefkanscirkel) (7) is een nauwkeurigheidsmaat; de straal van de cirkel met het doel in het middelpunt, bij een bepaald bereik, waarbinnen 50 % van de nuttige ladingen terechtkomen. Chemisch mengsel (1): een vast, vloeibaar of gasvormig product dat bestaat uit twee of meer bestanddelen die niet samen reageren onder de omstandigheden waarin het mengsel is opgeslagen. Chemische laser (6): een laser waarin de geëxciteerde stof wordt geproduceerd door de door een chemische reactie voortgebrachte energie. Civiele vliegtuigen (1 3 4 7): die types vliegtuigen die als zodanig zijn aangeduid in gepubliceerde overzichten van luchtwaardigheidsbewijzen van de civiele luchtvaartautoriteiten voor het vliegen van commerciële binnenlandse en buitenlandse lijnen of voor wettig civiel, privé of zakelijk gebruik. N.B.: Zie ook vliegtuigen. Communicatiekanaalbesturingseenheid (4): de fysieke verbinding die de stroom synchrone of asynchrone digitale informatie bestuurt. Deze bestaat uit een samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd teneinde toegang tot de communicatie te verschaffen. Compensatiesystemen (6): bestaan uit de primaire scalaire sensor, een of meer referentiesensoren (bv. vectormagnetometers), en programmatuur om de starlichaamrotatieruis van het platform te reduceren. Composiet (1 2 6 8 9): een matrix en één of meer toegevoegde fasen bestaande uit deeltjes, whiskers, vezels of iedere combinatie daarvan, aanwezig voor een specifiek doel of voor specifieke doelen. Contourbesturen (2): twee of meer numeriek bestuurde bewegingen volgens instructies die de eerstvolgende vereiste positie en de vereiste voedingssnelheden naar die positie specificeren. Deze snelheden worden in afhankelijkheid van elkaar gevarieerd, zodat een gewenste contour wordt verkregen (Referentie: ISO/DIS 2806-1980). Cryptografie (5): de tak van wetenschap die zich bezighoudt met de grondbeginselen, instrumenten en methoden voor het omzetten van gegevens teneinde de inhoud daarvan te verbergen, te voorkomen dat deze inhoud ongemerkt wordt gewijzigd of zonder toestemming wordt gebruikt. Cryptografie is beperkt tot het omzetten van gegevens met gebruikmaking van één of meer geheime parameters (bv. cryptovariabelen) of aanverwante sleutels. Noot: Tot cryptografie worden niet gerekend: technieken van vaste gegevenscomprimering of -codering. Een geheime parameter is een constante of sleutel die voor anderen geheim wordt gehouden of slechts binnen een groep bekend wordt gemaakt. Cryptografische activatie (5): een techniek om cryptografisch vermogen te activeren of mogelijk te maken, via een beveiligd mechanisme dat door de fabrikant van het product wordt toegepast en uniek is voor het product waarvoor of de klant voor wie het cryptografisch vermogen geactiveerd of mogelijk gemaakt wordt (bv. een vergunningssleutel op basis van een serienummer of een authentificatie-instrument zoals een digitaal ondertekend certificaat). Technieken en mechanismen voor cryptografische activatie kunnen de vorm aannemen van apparatuur, programmatuur of technologie. CW-laser (6): een laser die langer dan 0,25 seconden een nominaal constante energie voortbrengt. Deelnemende staat (7 9): een staat die deelneemt aan het Wassenaar Arrangement. (zie www.wassenaar.org) Diffusielassen (1 2 9): het in de vaste fase (‹solid-state›) met elkaar verbinden van tenminste twee aparte metalen tot één stuk met een bindingssterkte tenminste gelijk aan die van het zwakste materiaal waarbij het voornaamste mechanisme bestaat uit interdiffusie van atomen over het oppervlak heen. Digitale computer (4 5): een apparaat dat, in de vorm van één of meer discrete variabelen, alle volgende functies kan verrichten: N.B.: Onder veranderen van een opgeslagen reeks opdrachten wordt mede verstaan het vervangen van onuitwisbare geheugenelementen, doch hieronder valt niet het in fysieke zin wijzigen van bedrading of onderlinge verbindingen. Digitale elektronische motorregelsystemen welke volledig zelfstandig in de motorregeling kunnen ingrijpen (FADEC-systemen) (7 9) (‹full authority digital engine control systems›): digitale elektronische regelsystemen voor gasturbinemotoren die autonoom kunnen ingrijpen in de motorregeling over het hele werkbereik van de motor vanaf de gevraagde motorstart tot het gevraagde stilleggen van de motor, zowel in normale omstandigheden als in het geval van storingen. Digitale overbrengsnelheid (def): de totale bitsnelheid van de informatie die direct wordt overgebracht op ieder type medium. N.B.: Zie ook totale digitale overbrengsnelheid. Direct hydraulisch persen (2): een vervormingsproces waarbij gebruik wordt gemaakt van een flexibele, met vloeistof gevulde blaas die in direct contact staat met het werkstuk. Door de ITU toegewezen (3 5): toewijzing van de frequentiebanden overeenkomstig de huidige uitgave van het Radioreglement van de ITU voor primaire, toegelaten en secundaire diensten. N.B.: Extra en alternatieve toewijzingen vallen hier niet onder. Door opwerking verkregen (0 1): het toepassen van ieder procedé dat tot doel heeft het gehalte van het betrokken isotoop te doen toenemen. Driedimensionale geïntegreerde schakelingen (3): een verzameling met elkaar geïntegreerde halfgeleider-plaatjes of -matrijzen, met via’s die volledig door ten minste één matrijs heen gaan om onderlinge verbindingen tussen matrijzen te leggen. Effectieve gram (0 1) (van speciale splijtstoffen): Eindeffectors (2): grijpers, actieve gereedschapseenheden en alle andere gereedschappen die zijn verbonden met de grondplaat aan het uiteinde van de manipulatiearmen van een robot. N.B.: Een actieve gereedschapseenheid is een voorziening die beweegkracht of procesenergie op het werkstuk overbrengt of waarnemingen daarvan verzorgt. Elektronisch bestuurbare fase-gestuurde antennesystemen, opgebouwd uit een groot aantal identieke antennes (5 6): een antenne waarbij de bundel wordt gevormd door middel van fase-koppeling, d.w.z. de bundelrichting wordt gestuurd door de complexe opwekkingscoëfficiënten van de uitstralende elementen en de richting van die bundel kan in azimut of hellingshoek worden gewijzigd door toepassing van een elektrisch signaal bij zowel uitzending als ontvangst. Energetische materialen (1): stoffen of mengsels die chemisch reageren waarbij energie vrijkomt die noodzakelijk is voor de beoogde toepassing ervan. Springstoffen, pyrotechnische middelen en stuwstoffen zijn subklassen van energetische materialen. Equivalente dichtheid (6): de massa van een optisch element per optische oppervlakte-eenheid geprojecteerd op het optisch oppervlak. ‹Focal plane array› (6 8): een lineaire of tweedimensionale vlakke laag of combinatie van vlakke lagen met afzonderlijke detectorelementen, met of zonder uitlees-elektronica, die in het brandvlak worden geplaatst. N.B.: Stapels afzonderlijke detectorelementen of detectoren met twee, drie of vier elementen vallen hier niet onder, op voorwaarde dat in het element geen tijdvertraging en integratie plaatsvindt. Fractionele bandbreedte (3 5): de momentele bandbreedte gedeeld door de centrale frequentie, uitgedrukt in procenten. ‹Frequency hopping› (5): een vorm van spread spectrum waarbij de zendfrequentie van één enkel communicatiekanaal wordt verschoven in een willekeurige of pseudowillekeurige reeks discrete stappen. Frequentiemasker-trigger (3) voor signaalanalysatoren: een mechanisme waarbij de triggerfunctie een frequentiebereik als deelgroep van de acquisitiebandbreedte kan kiezen om op te worden geactiveerd, terwijl andere signalen die mogelijk binnen dezelfde acquisitiebandbreedte aanwezig zijn, genegeerd worden. Een frequentiemasker-trigger kan meer dan één onafhankelijke groep limieten bevatten. Frequentiesynthesizer (3): elke soort frequentiebron, ongeacht de feitelijk daarin toegepaste techniek, die een veelheid aan uitgangsfrequenties afgeeft, gelijktijdig of naar keuze, aan één of meer uitgangen, en die worden bepaald door, afgeleid van of beheerst door een geringer aantal standaard- (of basis)frequenties. Frequentiewisseltijd (3): de tijd (d.w.z. vertraging) welke benodigd is om van de oorspronkelijke gespecificeerde uitgangsfrequentie over te schakelen naar de uiteindelijke gespecificeerde uitgangsfrequentie, ± 0,05 %. Producten met een gespecificeerd frequentiebereik van minder dan ± 0,05 % ten opzichte van hun centrumfrequentie worden aangemerkt als producten waarmee geen frequentiewissel mogelijk is. Fundamenteel wetenschappelijk onderzoek (ATN NTN). Experimenteel of theoretisch werk dat hoofdzakelijk wordt gedaan om nieuwe kennis te verkrijgen over de fundamentele beginselen van verschijnselen of waarneembare feiten, en dat in eerste instantie niet is gericht op een bepaald praktisch doel of oogmerk. Garen (1): een bundel getwijnde strengen. N.B.: streng: een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. Gebruik (ATN NTN Alle): bediening, installatie (met inbegrip van installatie ter plaatse), onderhoud (controle), reparatie, revisie en opknappen. Geïnstrumenteerd bereik (6): het gespecificeerde ondubbelzinnige beeldbereik van een radar. Geïntegreerde schakeling van het filmtype (3): een reeks schakelelementen en metallieke doorverbindingen, die gevormd zijn door afzetting van een dikke of dunne laag op een isolerend substraat. N.B.: Een schakelelement is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. Geïsoleerde levende culturen (1): levende culturen met inbegrip van culturen waarvan de organismen zich in een ruststadium bevinden en levende culturen in gedroogde preparaten. Geleidingssysteem (7): systemen waarin de meting en berekening van de positie en snelheid van een voertuig (navigatie) worden gecombineerd met de berekening en verzending van opdrachten naar de vluchtregelsystemen van het voertuig om de baan te corrigeren. Gemiddeld uitgangsvermogen (6): de totale outputenergie van een laser in joules, gedeeld door de periode waarin een reeks opeenvolgende pulsen wordt uitgezonden, in seconden. Voor een reeks gelijkmatig verdeelde pulsen is het gelijk aan het totale uitgangsvermogen van de laser in een enkele puls, in joule, vermenigvuldigd met de pulsfrequentie van de laser, in Hertz. Geografisch gespreid (6): sensoren worden geacht geografisch gespreid te zijn wanneer elke sensor zich in alle richtingen op een afstand van meer dan 1500 m van iedere andere sensor bevindt. Mobiele sensoren worden altijd beschouwd als geografisch gespreid. Gepulseerde laser (6): een laser met een pulsduur korter dan of gelijk aan 0,25 seconden. Gyroscopen met draaimassa (7): gyroscopen die gebruikmaken van een continu roterende massa voor het waarnemen van de hoekbeweging. Halffabricaten (‹preforms›) voor koolstofvezels (1): een geordende verzameling vezels, met of zonder deklaag, bestemd om een raamwerk van een deel te vormen alvorens de matrix wordt ingebracht, teneinde een composiet te vormen. Heet isostatisch verdichten (2): een proces waarbij op een gietstuk bij een temperatuur van meer dan 375 K (102 °C) in een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) in alle richtingen gelijke druk wordt uitgeoefend, waardoor holten in het gietstuk worden verminderd of geëlimineerd. Herhaalbaarheid (7): de nauwkeurigheid van overeenstemming tussen herhaalde metingen van dezelfde variabele onder dezelfde gebruiksomstandigheden wanneer zich tussen metingen veranderingen in de omstandigheden of perioden zonder gebruik voordoen. (Referentie: IEEE STD 528-2001 (standaardafwijking van 1 sigma)) Hoekafwijking (2): het maximale verschil tussen de aangegeven hoekpositie en de feitelijke, zeer nauwkeurig gemeten hoekpositie nadat de houder van het werkstuk op de tafel uit zijn oorspronkelijke positie is weggedraaid. Hybride geïntegreerde schakeling (3): elke willekeurige combinatie van geïntegreerde schakelingen, schakelelementen of discrete onderdelen die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en met alle volgende eigenschappen: N.B. 1: Een schakelelement is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. N.B. 2: Een discreet onderdeel is een afzonderlijk omhuld schakelelement met eigen uitwendige aansluitingen. III-V-verbindingen (3 6): polykristallijne, binaire of complexe monokristallijne producten bestaande uit elementen uit de groepen IIIA en VA van het periodieke systeem van Mendelejev (galliumarsenide, galliumaluminiumarsenide, indiumfosfide, enz.). Immunotoxine (1): een samenvoeging van een celspecifieke monoklonale antistof en een toxine of een subeenheid van een toxine die zieke cellen selectief aantast. Inbraakprogrammatuur (4): ‹intrusion software›, programmatuur die speciaal is ontworpen of aangepast om opsporing door bewakingshulpmiddelen te voorkomen of om beschermende tegenmaatregelen van een computer of apparaat met netwerkcapaciteit te omzeilen en die een van de volgende functies verricht: Inbraakprogrammatuur omvat niet het volgende: Apparaten met netwerkcapaciteit omvatten mobiele apparaten en slimme meters. Bewakingshulpmiddelen: programmatuur of hardwareapparaten die het systeemgedrag of de processen die op een apparaat worden uitgevoerd, bewaken. Dit omvat antivirus (AV)-producten, producten voor eindpuntbeveiliging, producten voor persoonlijke veiligheid (PSP: Personal Security Products), inbraakdetectiesystemen (IDS: Intrusion Detection Systems), inbraakpreventiesystemen (IPS: Intrusion Prevention Systems) of firewalls. Beschermende tegenmaatregelen: technieken die zijn ontworpen om te zorgen voor de veilige uitvoering van programmacode, zoals preventie van gegevensuitvoering, Data Execution Prevention DEP), willekeurige adresruimte-indeling (ASLR: Address Space Layout Randomisation) of ‹sandboxing›. Inclusief alle compensaties (2): nadat alle uitvoerbare maatregelen waarover de fabrikant beschikt om alle systematische instelfouten voor het betrokken werktuigmachinemodel of alle meetfouten voor de betrokken coördinaten-meetmachine tot een minimum te beperken, bekeken zijn. Informatiebeveiliging (4 5): alle middelen en functies ter verzekering van de toegankelijkheid, geheimhouding of integriteit van gegevens of communicaties, zonder inbegrip van de middelen en functies die zijn bedoeld als beveiliging tegen storingen. Het begrip omvat o.a. cryptografie, cryptografische activatie, cryptanalyse, bescherming tegen confidentiële uitstralingen en computerbeveiliging. N.B.: Cryptanalyse: de analyse van een cryptografisch systeem of de in- en uitvoer daarvan om daaraan vertrouwelijke variabelen of gevoelige gegevens te ontlenen, met inbegrip van niet-gecodeerde tekst. Intrinsieke magnetische gradiëntmeter (6): één enkel waarnemingselement voor de gradiënt van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld. N.B.: Zie ook magnetische gradiëntmeter. Isolatie (9): de isolatie van de onderdelen van een raketmotor, d.w.z. omhulling, straalpijp, inlaten en afdichtingen van de omhulling, waaronder gevulkaniseerd of half-gevulkaniseerd samengesteld rubber plaatmateriaal dat een isolerend of hittebestendig materiaal omvat. Isolatie kan ook zijn aangebracht in de vorm van moffen of flappen om spanningen te ontlasten. Isostatische persen (2): apparatuur, geschikt voor het onder druk brengen van een gesloten holte door middel van een bepaalde stof (een gas, een vloeistof, vaste deeltjes, enz.) teneinde te bereiken dat binnen de holte op een werkstuk of materiaal gelijke druk in alle richtingen wordt uitgeoefend. Kantelspil (2): een spil met gereedschap die gedurende het bewerkingsproces de hoek van zijn hartlijn ten opzichte van een andere as kan wijzigen. Kernreactor (0): een volledige reactor die in staat is om een beheerste zichzelf onderhoudende kettingreactie van kernsplijting te handhaven. Een kernreactor omvat de delen in of rechtstreeks bevestigd aan het reactorvat, de uitrusting die het vermogensniveau in de kern regelt, alsmede de onderdelen die gewoonlijk het primaire koelmiddel van de reactorkern bevatten, daarmee in rechtstreeks contact komen of dit reguleren. Kritische temperatuur (1 3 5): de kritische temperatuur (ook wel overgangstemperatuur genoemd) van een bepaald supergeleidend materiaal is de temperatuur waarbij de gelijkstroomweerstand van het materiaal nul wordt. Kwantumcryptografie: (5) een groep technieken voor het opstellen van een gemeenschappelijke encryptiesleutel door meting van de kwantummechanische eigenschappen van een fysisch systeem (met inbegrip van de fysische eigenschappen die expliciet beheerst worden door kwantumoptica, de kwantumveldtheorie en de kwantumelektrodynamica). Laser (0 2 3 5 6 7 8 9): een samenstelling van componenten welke zowel in de ruimte als in de tijd coherent licht produceert dat is versterkt door de gestimuleerde emissie van straling. N.B.: Zie ook: Chemische laser, Super High Power Laser; Transfer laser. Lichter-dan-luchttoestellen (9): ballonnen of luchtschepen die voor het creëren van lift gebruikmaken van hete lucht of andere gassen die lichter zijn dan lucht, bijvoorbeeld helium of waterstof. Lineariteit (2) (gewoonlijk gemeten als niet-lineariteit): dit is de maximale positieve of negatieve afwijking van het feitelijke kenmerk (gemiddelde van naar boven en naar beneden gemeten waarden) van een rechte lijn die zo is geplaatst dat de maximale afwijkingen gelijk worden gemaakt en geminimaliseerd. Lint (1): een bundel monofilamenten, die gewoonlijk ongeveer parallel lopen. Lokaal netwerk (4 5): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande eigenschappen combineert: N.B.: Een datatoestel is een apparaat voor het zenden of ontvangen van reeksen digitale informatie. Luchtschip (9): een door een motor aangedreven luchtvaartuig dat in de lucht wordt gehouden door een massa aan gas (gewoonlijk helium, voordien waterstof) dat lichter is dan lucht. Luchtstroom-beheerste antitorsie of richtingsregelsystemen (7): systemen die gebruikmaken van lucht die over aerodynamische vlakken wordt geblazen om de door deze oppervlakken gegenereerde krachten te verhogen en te beheersen. Magnetische gradiëntmeters (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van de ruimtelijke variaties van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit verscheidene magnetometers en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van de gradiënt van het magnetisch veld. N.B.: Zie ook intrinsieke magnetische gradiëntmeter. Magnetometers (6): deze zijn ontworpen voor het opsporen van magnetische velden van bronnen buiten het instrument. Zij bestaan uit één enkel sensorelement voor het waarnemen van magnetische velden en bijbehorende elektronica waarvan de afleeswaarde een maat is van het magnetisch veld. Materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6 (0): koper, roestvast staal, aluminium, aluminiumoxide, aluminiumlegeringen, nikkel of legeringen met 60 of meer gewichtspercenten nikkel en gefluoreerde koolwaterstofpolymeren. Matrix (1 2 8 9): een in hoofdzaak continue fase die de ruimte tussen deeltjes, whiskers of vezels vult. Mechanisch legeren (1): een legeringsproces door middel van het binden, breken en opnieuw binden van elementaire of moederlegeringspoeders met behulp van mechanische krachten. Niet-metaaldeeltjes kunnen in de legering worden opgenomen door toevoeging van de geschikte poeders. Meetonzekerheid (2): de kenmerkende parameter die specificeert binnen welk bereik rond de uitvoerwaarde de juiste waarde van de te meten variabele ligt met een betrouwbaarheidsniveau van 95 procent. Deze omvat de ongecorrigeerde systematische afwijkingen, de ongecorrigeerde speling en de willekeurige afwijkingen. (Referentie: ISO 10360-2). Microcomputer-microschakeling (3): een monolithische geïntegreerde schakeling of multichip geïntegreerde schakeling met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een intern geheugen algemene opdrachten uit te voeren op basis van gegevens opgeslagen in het interne geheugen. N.B.: Het interne geheugen kan worden uitgebreid met een extra geheugen. Micro-organismen (1 2): bacteriën, virussen, mycoplasma’s, rickettsiae, chlamydiae of schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet. Microprocessor-microschakeling (3): een monolithische geïntegreerde schakeling of multichip geïntegreerde schakeling met een logische rekeneenheid (ALU), die in staat is om vanuit een extern geheugen een reeks algemene opdrachten uit te voeren. N.B. 1: De microprocessor-microschakeling bevat gewoonlijk geen toegankelijkheid van het interne geheugen voor de gebruiker, hoewel op de chip aanwezig geheugen kan worden gebruikt voor uitvoering van de logische functie. N.B. 2: Hieronder vallen tevens chip sets die zijn ontworpen om samen de functie van een microprocessor microschakeling te leveren. Momentele bandbreedte (3 5 7): de bandbreedte waarover het uitgangsvermogen binnen 3 dB constant blijft zonder bijstelling van andere werkparameters. Monofilament (1) of filament: de kleinste maat vezel, gewoonlijk enkele μms in diameter. Monolithische geïntegreerde schakeling (3): een combinatie van passieve en/of actieve schakelelementen welke: N.B.: Een schakelelement is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. Monospectrale beeldsensoren (6): deze zijn geschikt voor het vergaren van beeldgegevens van één afzonderlijke spectrumband. Multichip geïntegreerde schakeling (3): twee of meer monolithische geïntegreerde schakelingen, verbonden op een gemeenschappelijk substraat. Multispectrale beeldsensoren (6): deze zijn geschikt voor het gelijktijdig of serieel vergaren van beeldgegevens van twee of meer afzonderlijke spectrumbanden. Sensoren met meer dan twintig afzonderlijke spectrumbanden worden ook wel hyperspectrale beeldsensoren genoemd. Natuurlijk uraan (0): uraan met dezelfde isotopensamenstelling als in de natuur voorkomt. Nauwkeurigheid (2 6) (gewoonlijk uitgedrukt in mate van onnauwkeurigheid): de maximale positieve of negatieve afwijking van een aangegeven waarde ten opzichte van een erkende norm of zuivere waarde. Navigatiesystemen met als referentie een gegevensbestand (DBRN-systemen) (7): systemen die gebruikmaken van verschillende bronnen van eerder gemeten gegevens die aan een geografische referentie zijn toegewezen, welke zijn geïntegreerd om onder dynamische omstandigheden accurate navigatie-informatie te verstrekken. De gegevensbronnen omvatten bathymetrische kaarten, sterrenkaarten, zwaartekrachtkaarten, magnetische kaarten of 3-D digitale terreinkaarten. Netwerktoegangsbesturingseenheid (4): een fysieke verbinding met een gedistribueerd schakelnetwerk. Deze verbinding maakt gebruik van een gemeenschappelijk medium dat steeds met dezelfde digitale overbrengsnelheid werkt en voor de transmissie gebruikt maakt van ‹arbitration› (bijvoorbeeld ‹token› of ‹carrier sense›). (Dit houdt in dat het systeem zelf zorg draagt voor de toegang tot het medium, zodanig dat de apparaten elkaar niet hinderen, bv. door onderlinge toewijzing van toegang of door aftasten of het kanaal vrij is). Geheel onafhankelijk selecteert de eenheid aan haar geadresseerde gegevenspakketten of gegevensgroepen (bv. IEEE 802). Deze bestaat uit een samenstelling die in de computer- of telecommunicatieapparatuur kan worden geïntegreerd ten einde toegang tot de communicatie te verschaffen. Neurale computer (4): een rekentoestel dat is ontworpen of aangepast voor nabootsing van het gedrag van een neuron of een verzameling neuronen, d.w.z. een rekentoestel dat zich onderscheidt door het vermogen van zijn apparatuur om aan de hand van eerdere gegevens het gewicht en aantal van de onderlinge verbindingen van een grote hoeveelheid rekencomponenten te wijzigen. Noodzakelijk (ATN 1-9): met betrekking tot technologie wordt hieronder verstaan uitsluitend dat deel van de technologie dat in het bijzonder verantwoordelijk is voor het bereiken of te boven gaan van de onder embargo vallende prestatieniveaus, eigenschappen of functies. Verschillende producten kunnen dergelijke noodzakelijke technologie gemeen hebben. Numerieke besturing (2): de automatische besturing van een proces, uitgevoerd door een apparaat dat gebruik maakt van numerieke gegevens die gewoonlijk worden ingevoerd tijdens de voortgang van het proces. (Referentie ISO 2382). Objectcode (APN): een door apparatuur uitvoerbare vorm van een geschikte expressie van één of meer processen (broncode (brontaal)) die door een programmeersysteem is gecompileerd. Onafgewerkte substraten (3 6): monolithische verbindingen met afmetingen die geschikt zijn voor de productie van optische elementen zoals spiegels of optische vensters. Onbemande luchtvaartuigen (UAV) (9): luchtvaartuigen zonder menselijke aanwezigheid aan boord die kunnen opstijgen en zonder onderbreking gecontroleerde vluchten kunnen uitvoeren en navigatie kunnen aanhouden. Ontwikkeling (ATN NTN Alle). Dit bestrijkt alle fasen voorafgaand aan serieproductie, zoals ontwerp, ontwerponderzoek, ontwerpanalyse, ontwerpideeën, assemblage en testen van prototypen, proefproductieplannen, ontwerpgegevens, het vertalen van ontwerpgegevens in een product, ontwerp van configuraties, integratieontwerp, opmaak. Onvertraagde verwerking (‹real time processing›) (2 6 7): het verwerken van gegevens door een computersysteem dat afhankelijk van de beschikbare middelen een bepaalde prestatie levert binnen een gewaarborgde responsietijd als reactie op een externe gebeurtenis, ongeacht de belasting van het systeem. Optimalisering van de vliegroute (7): een procedure waarmee afwijkingen van een vierdimensionale gewenste vliegroute (tijd en ruimte) zo klein mogelijk worden gehouden door de prestaties of doeltreffendheid van de taken van een missie te maximaliseren. Optisch schakelen (5): bepaling van de route of schakelen van optische signalen zonder omzetting in elektrische signalen. Optisch sensor-array voor vluchtregeling (7): met elkaar verbonden optische sensoren waarbij laser-bundels worden gebruikt om real-time vluchtregelingsgegevens te verkrijgen, die aan boord worden verwerkt. Optische computer (4): een computer, ontworpen of aangepast voor het gebruik van licht voor de weergave van gegevens en waarvan de logische rekenelementen zijn gebaseerd op direct gekoppelde optische elementen. Optische geïntegreerde schakeling (3): een monolithische geïntegreerde schakeling of hybride geïntegreerde schakeling die één of meer delen bevat die zijn ontworpen om als een fotosensor of foto-emitter te werken of om één of meer optische of elektro-optische functies te vervullen. Optische versterking (5): een bij optische communicatie gebruikte versterkingstechniek die een versterking bewerkstelligt van optische signalen die zijn voortgebracht door een afzonderlijke optische bron, zonder omzetting in elektrische signalen, bijvoorbeeld door gebruik te maken van optische halfgeleiderversterkers, of luminescerende versterkers van glasvezels. Persoonlijk lokaal netwerk (5): een datacommunicatiesysteem dat alle onderstaande eigenschappen combineert: het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke of onderling verbonden datatoestellen in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en het is beperkt tot communicatie tussen toestellen in de onmiddellijke nabijheid van een persoon of toestelbeheerder (één kamer, een kantoor of voertuig en de ruimte in de directe omgeving daarvan). Een datatoestel is een apparaat voor het zenden of ontvangen van reeksen digitale informatie. Piekvermogen (6): het hoogste vermogensniveau dat tijdens de pulsduur wordt bereikt. Primaire vluchtregeling (7): een voorziening voor het regelen van de stabiliteit of de besturing van een vliegtuig waarbij gebruik wordt gemaakt van kracht-/moment-generatoren, d.w.z. aerodynamische stuurvlakken of koersbepaling door middel van stuwkrachtregeling. Productie (ATN NTN Alle): hieronder vallen alle productiestadia, zoals bouw, productietechniek, fabricage, integratie, assemblage (monteren), inspectie, testen, kwaliteitsborging. Productieapparatuur (1 7 9): gereedschap, mallen, kalibers, mandrellen, matrijzen, bevestigingsmiddelen, uitlijnmiddelen, testapparatuur, andere apparatuur en componenten daarvoor, beperkt tot datgene dat speciaal is ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling of voor een of meer fasen van de productie. Productiefaciliteiten (7 9): productieapparatuur en speciaal ontworpen programmatuur, samengesteld tot installaties voor de ontwikkeling of voor een of meer fasen van de productie. Programma (2 6): een reeks opdrachten voor het volbrengen van een handeling in een vorm, of om te zetten in een vorm, die voor de uitvoering door een elektronische computer geschikt is. Programmatuur (APN Alle): een verzameling van één of meer programma’s of microprogramma’s, vastgelegd op enig tastbaar medium. N.B.: Microprogramma: een reeks elementaire instructies die in een speciaal geheugen wordt bewaard en waarvan de uitvoering wordt gestart door de invoer van de bijbehorende verwijsopdracht in het instructieregister. Pulscompressie (6): codering en verwerking van een radarsignaalpuls met een lange duur tot een kortstondige puls, met behoud van de voordelen van een hoge pulsenergie. Pulsduur (6) (van een laser): de tijd tussen de halfvermogenspunten op de voor- en achterkant van één laser puls. Radar ‹frequency agility› (6): iedere techniek waarbij de draaggolffrequentie van een gepulseerde radarzender in een pseudo-willekeurige volgorde van puls tot puls of van de ene groep pulsen tot de volgende groep kan veranderen met een hoeveelheid gelijk aan of groter dan de bandbreedte van de puls. Radar ‹spread spectrum› (6): iedere modulatietechniek voor het spreiden van energie afkomstig van een signaal met een relatief smalle frequentieband over een veel bredere frequentieband, met gebruikmaking van willekeurige of pseudo-willekeurige codering. Raketten (1 3 6 7 9): complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een nuttige last van tenminste 500 kg kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km. Reactietijdconstante (6): de tijd vanaf het toepassen van een lichtprikkel totdat de stroomtoename een waarde heeft bereikt van 1-1/e maal de eindwaarde (d.w.z. 63 % van de eindwaarde). Resolutie (2): de kleinste stap van een meettoestel; op digitale instrumenten de minst significante bit. (Referentie: ANSI B-89.1.12). Robot (2 8): een manipulatiemechanisme, dat kan zijn van een type dat een continu pad aflegt of van een type dat van punt naar punt gaat, eventueel voorzien van sensoren, en dat alle volgende eigenschappen heeft: N.B.: Bovenstaande definitie slaat niet op de volgende toestellen: Rondloopnauwkeurigheid (‹run-out›) (2): radiale verplaatsing tijdens één omwenteling van de hoofdspil gemeten in een vlak loodrecht op de hartlijn van de spil aan een punt op het te testen uitwendige of inwendige omwentelingsoppervlak. (Referentie: ISO 230, deel 1-1986, paragraaf 5.61) Roterend verstuiven (1): een proces voor het verdelen van een stroom of een plas gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 μm of minder door middel van centrifugale kracht. Roving (1): een bundel (normaal 12-120) van ongeveer evenwijdige strengen. N.B.: streng: een bundel monofilamenten (normaal meer dan 200) die ongeveer parallel lopen. Ruimtevaartuig (7 9): actieve en passieve satellieten en ruimtesondes. Samengestelde draaitafel (2): een tafel waarop het werkstuk kan draaien en kantelen rond twee niet parallelle assen, die tegelijkertijd kunnen samenwerken voor contourbesturen. Samenstelling (2 3 4 5): een aantal elektronische componenten (bijvoorbeeld schakelelementen, discrete onderdelen, geïntegreerde schakelingen, enz.) die onderling verbonden zijn om één of meer specifieke functies te vervullen en die als een eenheid vervangbaar en gewoonlijk demonteerbaar zijn. N.B. 1: Een schakelelement is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. N.B. 2: Een discreet onderdeel is een afzonderlijk omhuld schakelelement met eigen uitwendige aansluitingen. Schaalfactor (gyroscoop of versnellingsmeter) (7): de verhouding tussen de uitvoerverandering en de te meten invoerverandering. De schaalfactor wordt gewoonlijk gegeven als de hellingshoek van de rechte lijn die volgens de kleinste kwadraten-methode past bij de invoer-uitvoergegevens, verkregen door cyclische variatie van de invoer over het ingangstraject. Schoepuiteindeversterking (9): een stationaire ring (vast of gesegmenteerd) aan de binnenkant van het turbinehuis van een motor of een onderdeel aan het buitenste schoepuiteinde van het turbineblad dat in hoofdzaak dient als gasafdichting tussen stationaire en roterende onderdelen. SHPL staat voor Super High Power Laser. Signaalanalysatoren (3): instrumenten, geschikt voor het meten en afbeelden van de basiseigenschappen van de individuele frequentiecomponenten van meervoudige-frequentiesignalen. Signaalverwerking (3 4 5 6): het verwerken van elders verkregen informatiedragende signalen met behulp van algoritmen, zoals tijdcompressie, filteren, extractie, selectie, correlatie, convolutie of transformatie tussen domeinen (bv. de snelle Fouriertransformatie (‹fast Fourier transform›) of de Walsh-transformatie (‹Walsh transform›)). Smeltbaar (1): in staat zijn om door verhitting, straling, katalyse, enz., te vernetten of verder te polymeriseren, dan wel zonder pyrolyse (verkoling) te smelten. Smeltextractie (1): een proces voor het snel stollen en extraheren van een lintvormig legeringsproduct door een kort segment van een ronddraaiend gekoeld blok in een bad met een gesmolten metaallegering te brengen. N.B.: Snel stollen is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1000 K/s. Speciale splijtstoffen (0): plutonium-239, uraan-233, uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233, en elk materiaal dat het voorgaande bevat. Specifieke modulus (0 1 9) Youngs modulus in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortelijk gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C)en een relatieve vochtigheid van (50 ± 5) %. Specifieke treksterkte (0 1 9): de breeksterkte in pascal, gelijk aan N/m2 gedeeld door het soortelijk gewicht in N/m3, gemeten bij een temperatuur van (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C) en een relatieve vochtigheid van (50 ± 5) %. Spinnen uit de smelt (1): een proces voor het snel stollen van een stroom gesmolten metaal die botst op een ronddraaiend gekoeld blok, waardoor een schilfer-, lint- of staafvormig product ontstaat. N.B.: Snel stollen is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1000 K/s. Spread spectrum (5): de techniek waarbij de energie in een communicatiekanaal met een relatief smalle band wordt gespreid over een veel breder energiespectrum. Spread spectrum radar (6): zie Radar ‹spread-spectrum›. Springstoffen (1): stoffen in vaste, vloeibare of gasvorm of mengsels van stoffen die moeten detoneren als primaire, aanjaag- of hoofdlading in koppen, bij sloopwerkzaamheden of bij andere toepassingen. Stabilisatietijd (‹settling time›) (3): de tijd die nodig is om binnen een halve bit van de uitgangseindwaarde te komen bij het schakelen tussen twee willekeurige niveaus van de omzetter. Stabiliteit (7): standaardafwijking (1 sigma) van de mate waarin een bepaalde parameter afwijkt van de ijkwaarde, gemeten bij stabiele temperatuuromstandigheden. Deze kan worden uitgedrukt als een functie van de tijd. Stapel- en continuvezelmateriaal (0 1 8). Dit omvat: Staten die (geen) partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens (1): staten waarvoor het Verdrag tot verbod van de ontwikkeling, de productie, de aanleg van voorraden en het gebruik van chemische wapens (niet) in werking is getreden. (Zie www.opcw.org) Stoffen voor oproerbeheersing (1): stoffen die, onder de verwachte gebruiksomstandigheden van het gebruik voor oproerbeheersing, bij mensen snel sensoriële irritatie of fysiek onvermogen veroorzaken, welke effecten echter korte tijd na beëindiging van de blootstelling verdwijnen. Traangas is een subklasse van stoffen voor oproerbeheersing. Stralingsgevoeligheid (6): stralingsgevoeligheid (mA/W) = 0,807 × (golflengte in nm) × kwantumefficiëntie (QE) QE wordt meestal in procenten uitgedrukt; voor deze formule wordt de QE uitgedrukt als een decimaal cijfer kleiner dan één, bijv. 78 % is 0,78. Subeenheid van toxine (1): een structureel en functioneel losstaand bestanddeel van een hele toxine. Substraat (3): een laag basismateriaal met of zonder een onderlinge verbindingsstructuur waarop of waarin discrete onderdelen of geïntegreerde schakelingen of beide aanwezig kunnen zijn. N.B. 1: Een discreet onderdeel is een afzonderlijk omhuld schakelelement met eigen uitwendige aansluitingen. N.B. 2: Een schakelelement is een enkelvoudig actief of passief functioneel deel van een elektronische schakeling, bijvoorbeeld één diode, één transistor, één weerstand, één condensator, enz. Super High Power Laser (SHPL) (6): een laser die geschikt is voor het afgeven van (het totaal of een gedeelte van) de uitgangsenergie van meer dan 1 kJ binnen 50 ms of met een gemiddeld of CW-(continugolf-)vermogen van meer dan 20 kW. Supergeleidend (1 3 5 6 8): materialen, d.w.z. metalen, legeringen of verbindingen waarvan de elektrische weerstand nul kan worden, d.w.z. dat zij een oneindige elektrische geleidbaarheid kunnen bereiken en zeer grote stromen kunnen geleiden zonder joule-opwarming. N.B.: De supergeleidende toestand van elk afzonderlijk materiaal wordt gekenmerkt door een kritische temperatuur, een kritisch magnetisch veld, dat een functie is van de temperatuur, en een kritische stroomdichtheid, die echter een functie is van zowel het magnetisch veld als de temperatuur. Superlegeringen (2 9): legeringen op basis van nikkel, kobalt of ijzer, met sterkten hoger dan de standaardwaarden volgens de AISI 300 bij temperaturen boven 922 K (649 °C) onder zware omgevings- en gebruiksomstandigheden. Superplastisch vormen (1 2): een vervormingsproces waarbij warmte wordt gebruikt om voor metalen die gewoonlijk weinig rek (minder dan 20 %) hebben bij de breeksterktegrens als bepaald bij kamertemperatuur door middel van een conventionele trekproef, tijdens het verwerken minstens tweemaal hogere rekwaarden te bereiken dan genoemde waarden. Symmetrisch algoritme (5): cryptografisch algoritme waarin voor encryptie dezelfde sleutel gebruikt wordt als voor decryptie. N.B.: Symmetrische algoritmen worden vaak voor vertrouwelijke gegevens gebruikt. Systeemsporen (6): verwerkt, gecorreleerd (samenvoeging van radardoelgegevens en vliegplanpositie) en met de laatste informatie bijgewerkt rapport dat ter beschikking staat van de verkeersleiders van het luchtverkeersleidingscentrum. ‹Systolic array›-computer (4): een computer waarbij de gegevensstroom en wijziging van de gegevens dynamisch kan worden bestuurd door de gebruiker op het niveau van de logische poort. Technologie (ATN NTN Alle): specifieke informatie die nodig is voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van een product. De informatie is in de vorm van technische gegevens of technische bijstand. N.B. 1: Technische bijstand kan zijn in de vorm van instructie, vaardigheden, opleiding, praktijkkennis, advies e.d. en kan gepaard gaan met de overdracht van technische gegevens. N.B. 2: Technische gegevens kunnen o.m. bestaan uit blauwdrukken, tekeningen, schema’s, modellen, formules, tabellen, technische ontwerpen en specificaties, handboeken en instructies, in geschreven vorm of vastgelegd op andere media of apparaten zoals schijf, magneetband, leesgeheugens (ROM’s). Tijdgebonden bandbreedte (‹real time bandwidth›) (3) (voor signaalanalysatoren): het grootste frequentiebereik waarvoor de analysator gegevens in het tijddomein doorlopend en geheel kan omzetten in resultaten in het frequentiedomein, met een Fourier- of andere discrete tijdtransformatie die ieder inkomend tijdstip verwerkt zonder hiaten of venstereffecten en die een vermindering van de gemeten amplitude van meer dan 3 dB onder de werkelijke signaalamplitude zou veroorzaken tijdens de uitvoer of weergave van de omgezette gegevens. Toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker (6): de mogelijkheid voor de gebruiker om programma’s in te voegen, te veranderen of te vervangen anders dan door middel van: Totale digitale overbrengsnelheid (5): het aantal bits, met inbegrip van regelcodering, organisatorische bits enz., dat per tijdseenheid wordt overgebracht tussen overeenkomstige apparatuur in een digitaal transmissiesysteem. N.B.: Zie ook digitale overbrengsnelheid. Totale stroomdichtheid (3): het totale aantal ampèrewikkelingen in de spoel (d.w.z. de som van het aantal wikkelingen vermenigvuldigd met de maximale stroom die door elke wikkeling wordt gevoerd), gedeeld door de totale doorsnede van de spoel (met inbegrip van de supergeleidende draden, de metalen matrix waarin de supergeleidende draden zijn ingebed, het omgevende materiaal, eventuele koelkanalen, enz.). Totale vluchtregeling (7): een geautomatiseerde regeling van de toestandsvariabelen en de vliegbaan van een vliegtuig om te voldoen aan de doelstellingen van een missie, waarbij wordt gereageerd op real-time veranderingen in de gegevens betreffende doelstellingen, gevaren en andere vliegtuigen. Toxinen (1 2): toxinen in de vorm van opzettelijk geïsoleerde preparaten of mengsels, ongeacht de wijze van bereiding, anders dan toxinen die als contaminant aanwezig zijn in andere materialen zoals pathologische monsters, gewassen, levensmiddelen of culturen van micro-organismen. Transfer laser (6): een laser waarbij het lasermedium wordt geëxciteerd door de overdracht van energie door middel van botsing van een niet-stralend atoom of molecuul op een atoom of molecuul dat laserstraling uitzendt. Uraan verrijkt in de isotopen 235 of 233 (0): uraan dat de isotopen 235 of 233 of beide bevat in een zodanige hoeveelheid, dat de verhouding tussen de som van de hoeveelheden van deze isotopen en de hoeveelheid van de isotoop 238 groter is dan de verhouding tussen de hoeveelheden van de isotoop 235 en de isotoop 238 in natuurlijk uraan (isotoopverhouding: 0,71 %). Vaccin (1): een medisch preparaat volgens een chemische formule waarvoor een vergunning is afgegeven of waarvoor een vergunning voor het in de handel brengen of voor klinische proeven is afgegeven door de regelgevende instanties van hetzij het land waar het wordt gefabriceerd, hetzij het land waar het wordt gebruikt, en dat strekt tot stimulering van een beschermende immuunrespons ter voorkoming van ziekten in de mens of het dier aan wie of waaraan het wordt toegediend. Vast (5): het coderings- of comprimeringsalgoritme kan geen parameters van buitenaf ontvangen (bv. cryptografische of sleutelvariabelen) noch gewijzigd worden door de gebruiker. Verarmd uraan (0): uraan met een gehalte aan het uraan-235-isotoop dat lager is dan in de natuur voorkomt. Vergruizing (1): een procedé voor het tot deeltjes verdelen van materiaal door stampen of malen. Verloopsnelheid (gyroscopen) (7): de component van de gyroscoopuitvoer die functioneel onafhankelijk is van de invoerrotatie. Wordt uitgedrukt als hoeksnelheid (IEEE STD 528-2001). Vermengd (<commingled>) (1): het mengen van filamenten van thermoplastische vezels en versterkingsvezels voor de productie van een vezelversterkings/-matrix-mengsel in totaalvezelvorm. Vermogensaanpassing (7): een zodanige aanpassing van het uitgezonden vermogen van het hoogtemetersignaal dat het ontvangen signaal op vliegtuig-hoogte altijd het minimale vermogen heeft dat nodig is om de hoogte te bepalen. Versplintering door snelle afkoeling (‹splat quenching›) (1): een proces voor het snel stollen van een gesmolten stroom metaal die botst op een gekoeld blok, waardoor flakes worden gevormd. N.B.: Snel stollen is het stollen van gesmolten materiaal bij een koelsnelheid van meer dan 1000 K/s. Verstuiving in gas (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaallegering tot druppeltjes met een diameter van 500 μm of minder door middel van een onder hoge druk staande gasstroom. Verstuiving in vacuüm (1): een proces voor het verdelen van een stroom gesmolten metaal tot druppeltjes met een diameter van 500 μm of minder door middel van de snelle uiteenzetting van een opgelost gas bij blootstelling aan een vacuüm. Vervormbare spiegels (6) (ook bekend als adaptieve optische spiegels): spiegels met: Vliegtuigen (1 7 9): luchtvaartuigen met vaste, draaibare of roterende (hefschroefvliegtuig) vleugel en verticaal opstijgende luchtvaartuigen (met kantelende rotor of vleugel). N.B.: Zie ook civiele vliegtuigen. Voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd(e) (3 6 7) (producten): producten die zijn ontworpen, vervaardigd en gekwalificeerd na geslaagde testen om te opereren op hoogten van meer dan 100 km boven het aardoppervlak. N.B.: De vaststelling door middel van testen dat een specifiek product voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd is, impliceert niet dat andere producten van dezelfde productie of modellenserie voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd zijn indien zij niet individueel getest zijn. Voor iedereen beschikbaar (ATN NTN APN): technologie of programmatuur die zonder beperkingen aan de verdere verspreiding daarvan beschikbaar zijn gesteld. (Auteursrechtelijke beperkingen hebben niet tot gevolg dat technologie of programmatuur niet langer voor iedereen beschikbaar is.) Voornaamste deel (4): zoals toegepast in categorie 4, een deel is een voornaamste deel wanneer de vervangingswaarde hoger is dan 35 % van de totale waarde van het systeem waarvan het deel uitmaakt. De waarde van een deel is de prijs die door de fabrikant of door degene die het systeem heeft geïntroduceerd voor het deel is betaald. De totale waarde is de normale internationale verkoopprijs bij verkoop aan een niet-gelieerde partij af fabriek of bij bevestiging van de verzending. Voortplantingsvertragingstijd van de basispoort (3): de waarde van de voortplantingsvertragingstijd die overeenkomt met die van de basispoort binnen een monolithische geïntegreerde schakeling. Deze kan voor een bepaalde familie van monolithische geïntegreerde schakelingen gespecificeerd zijn als de voortplantingsvertragingstijd per typerende poort binnen die familie of als de typerende voortplantingsvertragingstijd per poort binnen die familie. N.B. 1: De voortplantingsvertragingstijd van de basispoort moet niet worden verward met de in/uitgangsvertragingstijd van een complexe monolithische geïntegreerde schakeling. N.B. 2: Een familie bestaat uit alle geïntegreerde schakelingen waarop alle onderstaande elementen zijn toegepast als fabricagemethoden en -specificaties, met uitzondering van hun respectieve functies: Werkgeheugen (4): het primaire geheugen voor gegevens of opdrachten, dat voor de centrale verwerkingseenheid snel toegankelijk is. Het bestaat uit het interne geheugen van een digitale computer en elke hiërarchische uitbreiding daarvan, zoals ‹cache›-geheugens of niet-sequentieel toegankelijke geheugenuitbreidingen.

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN Technische noot: Technische noot:

a.

gegevens opnemen;

b.

gegevens of opdrachten in onuitwisbare of wijzigbare (beschrijfbare) geheugens opslaan;

c.

gegevens met behulp van een opgeslagen veranderbare reeks opdrachten verwerken; en

d.

gegevens afgeven.

a.

voor plutoniumisotopen en uraan-233: het gewicht van de isotoop in gram;

b.

voor uraan dat 1 % of meer verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met het kwadraat van de verrijking, uitgedrukt in decimalen als gewichtsverhouding;

c.

voor uraan dat minder dan 1 % verrijkt is in de isotoop uraan-235: het gewicht van het element in gram, vermenigvuldigd met 0,0001.

a.

met tenminste één niet-omhuld element;

b.

onderling verbonden met gebruikmaking van kenmerkende productiemethoden voor geïntegreerde schakelingen;

c.

als eenheid vervangbaar; en

d.

gewoonlijk niet demonteerbaar.

a.

het onttrekken van gegevens of informatie uit een computer of apparaat met netwerkcapaciteit of het wijzigen van systeem- of gebruikersgegevens; of

b.

het wijzigen het normale executiepad van een programma of proces om de uitvoering van buitenaf geleverde instructies mogelijk te maken.

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN Technische noot: Technische noot: Noten: 1.

a.

‹hypervisors›, ‹debuggers› of hulpmiddelen voor de reverse engineering van programmatuur (SRE);

b.

programmatuur voor het beheer van digitale rechten (DRM); of

c.

programmatuur die is ontworpen voor installatie door de fabrikanten, beheerders of gebruikers met het oog op goederenbewaking of -herstel.

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN Technische noot: Technische noot: Noten: 1.2. Technische noten: 1.2.

a.

het stelt een willekeurig aantal onafhankelijke datatoestellen in staat, rechtstreeks met elkaar in verbinding te staan; en

b.

het is beperkt tot een geografisch betrekkelijk klein gebied (bijvoorbeeld een kantoorgebouw, een fabriek, een universiteitscomplex of een magazijn).

a.

wordt gevormd door middel van diffusie, implanteren of opdampen in of op één enkel halfgeleidend stukje materiaal, een zogenaamde ‹chip›;

b.

wordt beschouwd als een ondeelbaar iets; en

c.

de functie(s) uitvoer(en) van een schakeling.

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN Technische noot: Technische noot: Noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot:

a.

multifunctioneel;

b.

geschikt voor het positioneren of oriënteren van materialen, onderdelen, gereedschappen of speciale elementen door middel van regelbare bewegingen in de driedimensionale ruimte;

c.

met drie of meer servomechanismen met open of gesloten lus, waarbij inbegrepen kunnen zijn stappenmotoren; en

d.

met toegankelijkheid van het programma voor de gebruiker door middel van de leer-en-terugspeelmethode (teach/playback) of door middel van een elektronische computer die een programmeerbare logische regeleenheid kan zijn (PLC), d.w.z. zonder mechanische interventie.

1. manipulatiemechanismen die alleen met de hand of met een mechanisme voor afstandsbediening te regelen zijn;

2. manipulatiemechanismen die in een vaste volgorde werken en geautomatiseerde bewegende toestellen zijn, die mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste aanslagen, zoals pennen of nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van trajecten of hoeken mag niet op mechanische, elektronische of elektrische wijze beïnvloedbaar zijn;

3. mechanisch geregelde manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma is mechanisch beperkt door vaste, maar verplaatsbare aanslagen, zoals pennen en nokken. De volgorde van de bewegingen en de keuze van de trajecten of hoeken kan binnen het vaste programmapatroon worden gevarieerd. Variaties of wijzigingen in het programmapatroon (bv. verwisselen van pennen of uitwisselen van nokschijven) in één of meer bewegingsassen mogen alleen langs mechanische weg bewerkstelligd worden;

4. niet van een servomechanisme voorziene manipulatiemechanismen met een variabele volgorde van bewegingen, die geautomatiseerde bewegende toestellen zijn welke mechanisch vastgelegde, geprogrammeerde bewegingen uitvoeren. Het programma mag variabel zijn maar de volgorde mag slechts op grond van het binaire signaal van mechanisch vaste elektrische binaire voorzieningen of verplaatsbare aanslagen verlopen;

5. stapelkranen, waaronder te verstaan met cartesische coördinaten werkende manipulatiesystemen, vervaardigd als integraal onderdeel van een verticale opstelling van opslagbakken en ontworpen voor het bereiken van de inhoud van deze bakken voor opslag of leeghalen. ML8, 18 Springstoffen

a.

continue monofilamenten;

b.

continugarens en ‹rovings›;

c.

banden, weefsels en onregelmatig gelaagde matten en gevlochten banden;

d.

op lengte gesneden vezels, stapelvezels en samenhangende vezeldekens;

e.

whiskers, hetzij monokristallijn hetzij polykristallijn, ongeacht hun lengte;

f.

aromatische polyamidepulp.

DEFINITIES VAN IN DEZE BIJLAGE GEBRUIKTE TERMEN Technische noot: Technische noot: Noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot:

a.

een fysieke wijziging in de bedrading of andere onderlinge verbindingen; of

b.

het instellen van functiekeuzen, het inbrengen van parameters daarbij inbegrepen.

a.

één enkel continu optisch reflecterend oppervlak dat dynamisch wordt vervormd door afzonderlijke momenten of krachten uit te oefenen om de vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren; of

b.

verscheidene optische reflecterende elementen die afzonderlijk dynamisch kunnen worden verplaatst door momenten of krachten uit te oefenen om vervormingen van de op de spiegel invallende optische golfvorm te compenseren.

a.

de gebruikelijke hardware- en programmatuurarchitectuur;

b.

de gebruikelijke ontwerp- en verwerkingstechnologie; en

c.

de gebruikelijke basiskenmerken.

CATEGORIE 0 NUCLEAIRE GOEDEREN

0A Systemen, apparatuur en onderdelen 0A001 Kernreactoren en speciaal ontworpen en gebouwde uitrusting en onderdelen ervan, als hieronder:

0A a.

kernreactoren;

metalen vaten, of belangrijke speciaal vervaardigde onderdelen ervan, met inbegrip van het deksel van een reactordrukvat, die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd als omhulsel van de kern van een kernreactor;

bedieningsapparatuur, speciaal ontworpen of vervaardigd om splijtstof in een kernreactor aan- of af te voeren;

regelstaven, d.w.z. staven die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de beheersing van het splijtingsproces in een kernreactor, de draag- of ophangconstructies daarvoor, mechanismen voor het besturen van de regelstaven en buizen voor het geleiden van de regelstaven;

drukpijpen, d.w.z. buizen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd om dienst te doen als houder van zowel de splijtstofelementen en het primaire koelmiddel in een kernreactor;

Buizen (of samenstellen van buizen) van zirkoniummetaal of zirkoniumlegeringen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor gebruik als splijtstofstaven in een kernreactor, in hoeveelheden van meer dan 10 kg; N.B.: Voor drukpijpen van zirkonium zie 0A001.e. en voor calandriabuizen zie 0A001.h.

koel- of circulatiepompen, d.w.z. pompen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het doen circuleren van het primaire koelmiddel van kernreactoren;

h. Technische noot:

inwendige delen van kernreactoren die speciaal ontworpen of vervaardigd zijn voor gebruik in een kernreactor, met inbegrip van draagconstructies voor de reactorkern, brandstofkanalen, calandriabuizen, hitteschilden, keerschotten, roosterplaten van de reactorkern en diffusorplaten; In 0A.001.h. wordt onder inwendige delen van kernreactoren verstaan iedere grote structuur binnen een reactorvat die één of meer functies heeft, zoals ondersteuning van de kern, handhaving van de splijtstofafstelling, sturing van het primaire koelmiddel, het verschaffen van stralingsschermen voor het reactorvat, en de besturing van instrumentatie in de kern.

warmtewisselaars als hieronder: Noot: 0A001.i. heeft geen betrekking op warmtewisselaars voor de ondersteuningssystemen van de reactor, bijvoorbeeld het noodkoelsysteem of het koelsysteem voor de afvoer van vervalwarmte.

1. stoomgeneratoren, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het primaire, of intermediaire, koelmiddelcircuit van een kernreactor;

2. andere warmtewisselaars, speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in het primaire koelmiddelcircuit van een kernreactor.

Neutrondetectoren, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bepalen van de niveaus van de neutronenflux in de kern van een kernreactor.

k. Technische noot:

Externe hitteschilden die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een kernreactor ter vermindering van warmteverlies en ter bescherming van het insluitingsvat. In 0A001.k. betekent externe hitteschilden grote structuren die over het reactorvat zijn geplaatst en die warmteverlies van de reactor verminderen en de temperatuur binnen het insluitingsvat verlagen.

0B Technische noot:

Test-, inspectie- en productieapparatuur 0B001 Fabrieken voor de scheiding van isotopen van natuurlijk uraan, verarmd uraan, en speciale splijtstoffen en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder: 0B002 Speciaal voor isotoopscheidingsinstallaties als bedoeld in 0B001 ontworpen of vervaardigde hulpsystemen voor uitrusting en onderdelen vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, als hieronder: 0B003 Fabrieken voor de omzetting van uraan en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder: 0B004 Fabriek voor de productie of concentratie van zwaar water, deuterium en deuteriumverbindingen en speciaal ontworpen en gebouwde uitrusting en onderdelen ervan, als hieronder: 0B005 Fabrieken, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor kernreactoren en speciaal ontworpen of vervaardigde uitrusting daarvoor. Een fabriek voor de vervaardiging van splijtstofelementen voor kernreactoren omvat uitrusting die: 0B006 Fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen van kernreactoren en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen. Noot: 0B006 omvat: 0B007 Fabrieken voor de omzetting van plutonium en speciaal daarvoor ontworpen of vervaardigde uitrusting, als hieronder:

0B a.

installaties, speciaal ontworpen voor de scheiding van isotopen van natuurlijk uraan, verarmd uraan en speciale splijtstoffen als hieronder:

1. gascentrifuges;

2. gasdiffusiescheidingsinstallaties;

3. aerodynamische scheidingsinstallaties;

4. scheidingsinstallaties met behulp van chemische uitwisselaars;

5. scheidingsinstallaties met behulp van ionenuitwisselaars;

6. isotopenscheidingsinstallaties werkend met atomaire-damp-lasers (AVLIS);

7. isotopenscheidingsinstallaties werkend met moleculaire lasers (MLIS);

8. plasmascheidingsinstallaties;

9. elektromagnetische scheidingsinstallaties;

b. Technische noot:

Gascentrifuges en samenstellingen en onderdelen, speciaal ontworpen of aangepast voor gebruik in gascentrifuges, als hieronder: In 0B001.b betekent materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding:

1. maragingstaal met een maximale treksterkte van 1,95 GPa of meer;

2. aluminiumlegeringen met een maximale treksterkte van 0,46 GPa of meer; of

3. stapel- en continuvezelmateriaal met een specifieke modulus van meer dan 3,18 × 106 m en een specifieke treksterkte van meer dan 7,62 × 104 m;

1. gascentrifuges;

2. complete rotoren;

3. rotorbuiscilinders met een wanddikte van 12 mm of minder, een diameter tussen 75 en 650 mm en vervaardigd van materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding;

4. ringen of balgen met een wanddikte van 3 mm of minder en een diameter tussen 75 mm en 650 mm, speciaal ontworpen om een rotorbuis op bepaalde plaatsen te verstevigen of om een aantal rotorbuizen samen te voegen, vervaardigd van materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding;

5. keerschotten met een diameter tussen 75 mm en 650 mm, ontworpen om in een rotorbuis gemonteerd te worden en vervaardigd van materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding;

6. onder- en bovendeksels met een diameter tussen 75 mm en 650 mm, speciaal ontworpen om op de uiteinden van een rotorbuis te passen en vervaardigd van materiaal met een hoge sterkte/dichtheidsverhouding;

7. magnetische lagers als hieronder:

7. a.

lagers bestaande uit een ringvormige magneet in een behuizing, vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, bevattende een dempend medium en waarvan de magneet is gekoppeld aan een poolschoen of een tweede magneet die aan het bovendeksel van de rotor is bevestigd;

Actieve magnetische lagers speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik met gascentrifuges.

8. speciaal ontworpen lagers, bestaande uit een taats/lagerkomsamenstel, gemonteerd op een demper;

9. 0B001 b. turbomoleculaire pompen bestaande uit cilinders met inwendige, machinaal vervaardigde of geëxtrudeerde langwerpige spiraalvormige groeven en inwendige, machinaal bewerkte gaten;

10. ringvormige stators voor meerfasige wisselstroom-hysteresismotoren (magnetische-weerstandsmotoren) voor synchrone werking in vacuüm, met een frequentiebereik van 600 Hz of hoger en een vermogen van 40 VA of hoger;

11. centrifugebehuizingen/houders, speciaal ontworpen om de rotorbuis van een gascentrifuge te bevatten, bestaande uit een starre cilinder met een wanddikte tot 30 mm met nauwkeurig afgewerkte uiteinden die evenwijdig zijn aan elkaar en staan met een nauwkeurigheid van 0,05 graden of beter loodrecht op de lengteas van de cilinder;

12. inlaatstukken bestaande uit speciaal ontworpen of vervaardigde buizen voor de extractie van UF6-gas uit de rotorbuis volgens het principe van een Pitotbuis en die aan het centrale gasextractiesysteem kan worden bevestigd;

13. frequentieomzetters (convertors of invertors), speciaal ontworpen of vervaardigd voor de voeding van motorstators van gascentrifugeverrijkers en speciaal ontworpen onderdelen hiervoor, die aan alle hieronderstaande specificaties voldoen:

13. a.

een meerfasige frequentieoutput van 600 Hz of hoger; en

hoge stabiliteit (frequentieafwijkingen minder dan 0,2 %);

14. afsluiters en regelkleppen, als hieronder:

14. a.

afsluitkleppen speciaal ontworpen of vervaardigd om in werking te treden in reactie op de aanvoer-, product- en restproductstromen van UF6 van een individuele gascentrifuge;

afsluit- of regelkleppen met balgafdichting, vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, met een binnendiameter tussen 10 mm en 160 mm, speciaal ontwikkeld of vervaardigd voor gebruik in hoofd- of hulpsystemen van gascentrifuge-verrijkingsinstallaties;

speciaal voor gasdiffusiescheidingsinstallaties ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. membranen voor gasdiffusie vervaardigd van poreus metallisch, polymeer of keramisch materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, met een poriegrootte van 10 tot 100 nm, een dikte van 5 mm of minder en, voor buisvormige membranen, met een diameter van 25 mm of minder;

2. gasdiffusorvaten, vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6;

3. compressoren of aanjagers met een aanzuigcapaciteit van 1 m3/min of meer van UF6, een werkdruk van maximaal 500 kPa met een werkdrukverhouding van 10:1 of minder, en vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6;

4. asafdichtingen voor compressoren of aanjagers bedoeld in 0B001.c.3., ontworpen op een inleksnelheid van het buffergas van minder dan 1000 cm3/min.;

5. warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, en ontworpen op een leksnelheid die een drukverandering van minder dan 10 Pa/h per uur veroorzaakt bij een drukverschil van 100 kPa;

6. afsluit- of regelkleppen met balgafdichting, handmatig of automatisch, vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6;

speciaal voor aerodynamische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. scheidingsstraalpijpen, bestaande uit spleetvormige, gebogen kanalen met een kromtestraal van minder dan 1 mm, bestand tegen corrosie door UF6, met in de straalpijp een scherpe scheidingsrand die de gasstroom in tweeën deelt;

2. 0B001 d. cilindrische of conische buizen (vortexbuizen) vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6 en met een of meer tangentiële inlaten;

3. compressoren of aanjagers vervaardigd van materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, en asafdichtingen daarvoor;

4. warmtewisselaars, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6;

5. behuizingen van scheidingselementen, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6 speciaal ontworpen om vortexbuizen of scheidingsstraalpijpen te bevatten;

6. afsluit- of regelkleppen met balgafdichting, handmatig of automatisch, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, met een diameter van 40 mm of meer;

7. processystemen om UF6 van het dragergas (waterstof of helium) te scheiden tot een gehalte van 1 ppm UF6 of minder, met inbegrip van:

7. a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (- 120 °C) of lager;

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (- 120 °C) of lager;

scheidingsstraalpijpen of vortexbuizen voor de scheiding van UF6 van het dragergas;

koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor het uitvriezen van UF6;

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van chemische uitwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. pulskolommen voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals gefluoreerde koolwaterstofpolymeren of glas);

2. centrifugale contactors voor snelle vloeistof-vloeistofuitwisseling met een verblijftijd per trap van 30 seconden of minder en bestand tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. vervaardigd van of beschermd met geschikte kunststoffen zoals gefluoreerde koolwaterstofpolymeren of glas);

3. elektrochemische reductiecellen, bestand tegen oplossingen van geconcentreerd zoutzuur, ontworpen om uraan van valentie te veranderen;

4. voedingsuitrusting voor elektrochemische reductiecellen, ontworpen om U+4 uit de organische stroom te verwijderen en, voor die onderdelen die met de processtroom in contact komen, vervaardigd van of beschermd met geschikte materialen (bv. glas, fluorkoolwaterstofpolymeren, polyfenylsulfaat, polyethersulfon en met hars geïmpregneerd grafiet);

5. systemen voor de behandeling van het voedingsmateriaal, ontworpen om een zeer zuivere uraanchlorideoplossing te produceren, bestaande uit voorzieningen voor het in oplossing brengen, voor vloeistofextractie en/of voor ionenwisseling voor de zuivering en elektrolytische cellen voor de reductie van U+6 of U+4 tot U+3;

6. oxidatiesystemen voor uraan, ontworpen om U+3 te oxideren tot U+4;

speciaal voor scheidingsprocessen met behulp van ionenwisselaars ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. ionenwisselharsen met een snelle reactietijd, vliezige of poreuze harsen met een macroscopische vernetting, waarin de actieve chemische uitwisselgroepen alleen voorkomen in een oppervlaktelaag op een inactieve poreuze ondersteunende structuur en andere composiete structuren met een geschikte vorm, waaronder deeltjes of vezels met diameters van 0,2 mm of minder, die bestand zijn tegen geconcentreerd zoutzuur en zijn ontworpen op een uitwisselingshalveringstijd van minder dan 10 seconden en die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C);

2. 0B001 f. ionenwisselkolommen (cilindrisch) met een diameter groter dan 1000 mm, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen geconcentreerd zoutzuur (bv. kunststoffen op basis van titaan of fluorkoolwaterstof), die geschikt zijn voor werktemperaturen in het gebied van 373 K (100 °C) tot 473 K (200 °C) en werkdrukken boven 0,7 MPa;

3. ionenwisselrefluxsystemen (chemische of elektrochemische oxidatie- of reductiesystemen) voor het regenereren van de chemische reductie- of oxidatiemiddelen die in ionenwisselverrijkingscascades worden gebruikt;

speciaal voor op atomaire damp gebaseerde methoden ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. Systemen voor het verdampen van uraanmetaal die zijn ontworpen om bij laserverrijking een op het trefmateriaal af te geven vermogen van 1 kW of meer te leveren.

2. systemen voor het hanteren van vloeibaar of verdampt uraanmetaal die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor het hanteren van gesmolten uraan, gesmolten uraanlegeringen of uraanmetaaldamp voor gebruik bij laserverrijking, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen; N.B.: ZIE OOK 2A225.

3. Opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan in gesmolten of vaste vorm, vervaardigd van of beschermd door materialen die bestand zijn tegen de hitte en corrosie van uraanmetaaldampen of gesmolten uraan, zoals met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

4. behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrische of rechthoekige vaten) die zijn ontworpen om de uraanmetaaldampbron, het elektronenkanon en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten;

5. lasers of laser-systemen speciaal ontworpen of vervaardigd voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisatie voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn; N.B.: ZIE OOK 6A005 EN 6A205.

speciaal voor moleculaire methoden of lasersystemen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. supersone uitstroomstraalpijpen voor het koelen van mengsels van UF6 en dragergas tot 150 K (- 123 °C) of minder en vervaardigd van materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6;

2. onderdelen of apparaten voor het opvangen van verarmd of verrijkt uraan die speciaal ontworpen en vervaardigd zijn voor het opvangen van uraan of verrijkt uraan na bestraling met laserlicht, vervaardigd van materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6;

3. compressoren, vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6, en asafdichtingen daarvoor;

4. uitrusting om UF5 (vaste stof) te fluoreren tot UF6 (gas);

5. processystemen voor het scheiden van UF6 van het transportgas (bv. stikstof, argon of een ander gas) met inbegrip van:

5. a.

cryogene warmtewisselaars en cryogene scheiders die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (- 120 °C) of lager;

cryogene koeleenheden die geschikt zijn voor temperaturen van 153 K (- 120 °C) of lager;

koudevallen voor UF6 die geschikt zijn voor het uitvriezen van UF6;

6. lasers of laser-systemen speciaal ontworpen of vervaardigd voor de scheiding van uraanisotopen met een stabilisatie voor het frequentiespectrum, bestemd om gedurende langere perioden in bedrijf te zijn; N.B.: ZIE OOK 6A005 EN 6A205.

0B001 speciaal voor plasmascheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. microgolfbronnen en antennes voor het produceren of versnellen van ionen, met een uitgangsfrequentie vanaf 30 GHz en een gemiddeld uitgangsvermogen van meer dan 50 kW;

2. RF-ionisatieaanslagspoelen voor frequenties boven 100 kHz en met een gemiddeld vermogen van meer dan 40 kW;

3. systemen voor het genereren van een uraanplasma;

4. niet gebruikt;

5. opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan in vaste vorm, vervaardigd van of beschermd met materiaal dat bestand is tegen de hitte en de corrosie van uraandampen, zoals met yttriumoxide bedekt grafiet of tantaal;

6. behuizingen voor scheidingsmodules (cilindrisch), ontworpen om de uraanplasmabron, de radiofrequentespoel en de opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan te bevatten en vervaardigd van een geschikt niet-magnetisch materiaal (bv. roestvast staal);

speciaal voor elektromagnetische scheidingsprocessen ontworpen of vervaardigde uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. enkel- of meervoudige ionenbronnen, bestaande uit een dampbron, ionisator en bundelversneller, vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet, roestvast staal of koper) en geschikt om een totale ionenbundelstroom te leveren van 50 mA of meer;

2. ionencollectorplaten voor het opvangen van ionenbundels met verrijkt of verarmd uraan, bestaande uit twee of meer spleten en opvangkamers en vervaardigd van geschikte niet-magnetische materialen (bv. grafiet of roestvast staal);

3. vacuümbehuizingen voor elektromagnetische uraanscheiders, vervaardigd van niet-magnetische materialen (bv. roestvast staal) en ontworpen voor een werkdruk van 0,1 Pa of lager;

4. magnetische poolschoenen met een diameter van meer dan 2 m;

5. hoogspanningsvoedingen voor ionenbronnen, die alle onderstaande eigenschappen hebben: N.B.: ZIE OOK 3A227.

5. a.

geschikt voor continubedrijf;

uitgangsspanning 20000 V of meer;

uitgangsstroom 1 A of meer; en

spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur;

6. voedingen voor magneten (hoog vermogen, gelijkstroom), die alle onderstaande eigenschappen hebben: N.B.: ZIE OOK 3A226.

6. a.

geschikt voor continubedrijf met een uitgangsstroom van 500 A of meer en een spanning van 100 V of meer; en

stroom- of spanningsregeling beter dan 0,01 % over een periode van 8 uur.

voedingsautoclaven, ovens of systemen voor het doorvoeren van UF6 naar het verrijkingsproces;

desublimatoren of koelvallen die gebruikt worden om het UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen voor verder transport na verhitting;

opvangsystemen voor verarmd en verrijkt uraan om UF6 in containers op te slaan;

liquefactors of stollingsstations die worden gebruikt om UF6 uit het verrijkingsproces te verwijderen door UF6 samen te persen, af te koelen en om te zetten in vloeibare of vaste vorm;

speciaal ontworpen stelsels van pijpen en ‹headers› om het UF6 te hanteren binnen de gasdiffusie-, centrifuge- of aerodynamische cascades;

Vacuümsystemen en -pompen als hieronder:

1. speciaal ontworpen vacuümspruitstukken, vacuümverdeelleidingen of vacuümpompen met een afzuigcapaciteit van 5 m3/min. of meer;

2. vacuümpompen, speciaal ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat, vervaardigd van of beschermd door materiaal dat bestand is tegen corrosie door UF6; of

3. Residuen van systemen bestaande uit vacuümspruitstukken, vacuümverdeelleidingen en vacuümpompen, en ontworpen voor gebruik in een atmosfeer die UF6 bevat;

UF6 -massaspectrometers/ionenbronnen speciaal ontworpen of vervaardigd om on-linemonsters te kunnen nemen van het UF6-gasstromen en die:

1. in staat zijn 320 atomaire massa eenheden (a.m.e.) of meer te meten en een oplossend vermogen hebben dat beter is dan 1 a.m.e. op 320 a.m.e., en beschikken over:

2. ionenbronnen, vervaardigd van of bekleed met nikkel, nikkel-chroom-legeringen met een nikkelgehalte van 60 of meer gewichtsprocent of nikkel-chroom-legeringen, en

3. ionisatiebronnen die werken met elektronenbeschieting; en

4. een collectorsysteem dat geschikt is voor isotopenanalyse.

systemen voor de omzetting van uraanertsconcentraten in UO3;

systemen voor de omzetting van UO3 in UF6;

systemen voor de omzetting van UO3 in UO2;

systemen voor de omzetting van UO2 in UF4;

systemen voor de omzetting van UF4 in UF6;

systemen voor de omzetting van UF4 in uraanmetaal;

systemen voor de omzetting van UF6 in UO2;

systemen voor de omzetting van UF6 in UF4;

systemen voor de omzetting van UO2 in UCl4.

Installaties voor de productie van zwaar water, deuterium of deuteriumverbindingen, als hieronder:

1. water-waterstofsulfide uitwisselinstallaties;

2. ammoniak-waterstofuitwisselinstallaties;

0B004 Uitrusting en onderdelen, als hieronder:

1. water-waterstofsulfide-wisseltorens met een diameter van 1,5 m of meer, geschikt voor werking bij een druk van 2 MPa of meer;

2. eentraps, centrifugale aanjagers of compressoren met lage opvoerdruk (d.w.z. 0,2 MPa), voor de circulatie van waterstofsulfidegas (d.w.z. gas dat meer dan 70 % H2S bevat) met een verwerkingscapaciteit van ten minste 56 m3/seconde wanneer er gewerkt wordt bij drukniveaus van ten minste 1,8 MPa aan de zuigzijde, en met afdichtingen, ontworpen voor natte H2S-gassen;

3. ammoniak-waterstof-wisseltorens van 35 m of hoger met een diameter tussen 1,5 en 2,5 m die kunnen werken bij een druk van meer dan 15 MPa;

4. inwendige delen van torens, met inbegrip van getrapte contactgroepen, en getrapte pompen met inbegrip van dompelpompen voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé;

5. ammoniak-kraakinstallaties die werken bij een druk van 3 MPa of meer voor de productie van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé;

6. infraroodabsorptieanalyseapparatuur die on-line waterstof-deuterium-verhoudingen kan meten bij deuteriumconcentraties van 90 % of meer;

7. katalytische branders voor de omzetting van verrijkt deuteriumgas in zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé;

8. complete systemen voor het veredelen van zwaar water, of kolommen daarvoor, voor het veredelen van zwaar water tot een deuteriumconcentratie die in een kernreactor bruikbaar is;

9. converters voor ammoniaksynthese of ammoniaksynthese-eenheden speciaal ontworpen of vervaardigd voor het veredelen van zwaar water met het ammoniak-waterstof-wisselprocedé.

0B Technische noot:

1. in de regel in rechtstreeks contact komt met de productiestroom van nucleair materiaal of deze rechtstreeks verwerkt of reguleert;

2. zorgt voor de afdichting van het nucleaire materiaal in de splijtstofstaaf;

3. de goede staat van de bekleding of van de afdichting van de splijtstofstaaf controleert;

4. de eindbehandeling van de afgesloten splijtstof controleert; of

5. wordt gebruikt voor het verzamelen van reactorelementen.

fabrieken voor het opwerken van bestraalde splijtstofelementen voor kernreactoren, met inbegrip van uitrusting en onderdelen die in de regel rechtstreeks in aanraking komen met de bestraalde splijtstof en de voornaamste processtromen van nucleair materiaal en splijtingsproducten, en die rechtstreeks regelen;

hak- en versnipperingsmachines voor splijtstofelementen, d.w.z. op afstand bediende uitrusting voor het snijden, hakken of knippen van bestraalde splijtstofpakketten, -bundels of -staven voor kernreactoren;

oplostanks, d.w.z. kritisch veilige tanks (bv. ring- of plaattanks met een kleine diameter), speciaal ontworpen of vervaardigd voor het oplossen van bestraalde splijtstof van kernreactoren, die bestand zijn tegen hete, sterk corrosieve vloeistoffen en die op afstand gevuld en onderhouden kunnen worden;

0B006 Noot: vloeistofextractors, zoals gestapelde kolommen of pulskolommen, mengers-ontmengers of centrifugale extractieapparatuur, bestand tegen de corrosieve werking van salpeterzuur en speciaal ontworpen of vervaardigd voor gebruik in een fabriek voor het opwerken van bestraald natuurlijk uraan, verarmd uraan of speciale splijtstoffen;

e. Technische noot:

voorraad- of opslagvaten, speciaal ontworpen om kritisch veilig te zijn en bestand tegen de corrosieve werking van salpeterzuur; Voorraad- of opslagvaten kunnen de volgende eigenschappen bezitten:

1. wanden of inwendige structuren met een boorequivalent (berekend voor alle samenstellende delen als gedefinieerd in de noot bij 0C004) van ten minste twee procent;

2. een maximale diameter van 175 mm voor cilindrische vaten; of

3. een maximale breedte van 75 mm voor rechthoekige of ringvormige vaten.

Neutronenmeetsystemen speciaal ontworpen of vervaardigd voor integratie en gebruik met systemen voor geautomatiseerde procesbeheersing in een fabriek voor het opwerken van bestraald natuurlijk uraan, verarmd uraan of speciale splijtstoffen.

systemen voor de omzetting van plutoniumnitraat in plutoniumoxide;

systemen voor de productie van plutoniummetaal.

0C Materialen 0C001 Natuurlijk uraan of verarmd uraan of thorium in de vorm van metaal, legering, chemische verbinding of concentraat en elk materiaal dat het voorgaande bevat; Noot: 0C001 heeft geen betrekking op: 0C002 Speciale splijtstoffen Noot: 0C002 heeft geen betrekking op vier effectieve gram of minder, indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten. 0C003 Deuterium, zwaar water (deuteriumoxide) en andere deuteriumverbindingen, en mengsels en oplossingen die deuterium bevatten, waarin de isotoopverhouding van deuterium tot waterstof groter is dan 1:5000. 0C004 Grafiet met een zuiverheid beter dan 5 delen ppm boorequivalent en met een dichtheid groter dan 1,50 g/cm3 voor gebruik in een kernreactor, in hoeveelheden groter dan 1 kg. N.B.: ZIE OOK 1C107. Noot 1: Wat betreft de uitvoercontrole, bepalen de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waar de exporteur is gevestigd of de uitvoer van grafiet dat aan bovenstaande specificaties voldoet al dan niet bestemd is voor gebruik in kernreactoren. Noot 2: In 0C004 wordt boorequivalent (BE) gedefinieerd als de som van BEZ voor onzuiverheden (met uitzondering van BEkoolstof aangezien koolstof niet wordt beschouwd als een onzuiverheid), met inbegrip van boor, waarbij geldt: BEZ (ppm) = CF × concentratie van element Z in ppm; hierin is CF de conversiefactorσZABσBAZ en zijn σB en σZ de doorsneden voor de vangst van thermische neutronen (in barn) voor respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z; en zijn AB en AZ de atoommassa’s van respectievelijk natuurlijk voorkomend boor en element Z. 0C005 Speciaal vervaardigde verbindingen of poeders voor de fabricage van membranen voor gasdiffusie die bestand zijn tegen corrosie door UF6 (b.v. nikkel of een legering met 60 gewichtspercent of meer aan nikkel, aluminiumoxide en volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren), met een zuiverheidsgraad van 99,9 gewichtspercent of meer, met een gemiddelde korrelgrootte van minder dan 10 μm, gemeten volgens Standard B 330 van de ASTM (American Society for Testing and Materials) en met een zeer uniforme deeltjesgrootte.

0C a.

vier gram of minder natuurlijk uraan of verarmd uraan, indien in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten;

verarmd uraan, speciaal vervaardigd voor de volgende civiele en niet-nucleaire toepassingen:

1. afschermingsmateriaal;

2. verpakkingsmateriaal;

3. ballast met een massa van ten hoogste 100 kg;

4. contragewichten met een massa van ten hoogste 100 kg;

legeringen met minder dan 5 % thorium;

keramische, thoriumbevattende producten die zijn vervaardigd voor niet-nucleair gebruik.

0D Programmatuur 0D001 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van goederen, bedoeld in deze categorie.

0E Technologie 0E001 Technologie overeenkomstig de nucleaire technologienoot voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van goederen, bedoeld in deze categorie.

CATEGORIE 1 SPECIALE MATERIALEN EN AANVERWANTE APPARATUUR

1A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot:

Systemen, Apparatuur en Onderdelen 1A001 Onderdelen vervaardigd van gefluoreerde verbindingen, als hieronder: 1A002 Composieten of laminaten, met een of meer van de volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK 1A202, 9A010 EN 9A110. Noot 1: 1A002 heeft geen betrekking op composieten of laminaten gemaakt van met epoxyhars geïmpregneerd koolstof-stapel- of continuvezelmateriaal voor de reparatie van casco’s of laminaten van civiele vliegtuigen met de volgende eigenschappen: Noot 2: 1A002 heeft geen betrekking op halffabricaten die speciaal zijn ontworpen voor zuiver civiele toepassingen, als hieronder: Noot 3: 1A002.b.1 heeft geen betrekking op halffabricaten die maximaal tweedimensionaal geweven filament bevatten en speciaal ontworpen zijn voor de volgende toepassingen: Noot 4: 1A002 heeft geen betrekking op eindproducten die speciaal ontworpen zijn voor een specifieke toepassing. 1A003 Producten vervaardigd van onsmeltbare aromatische polyimiden in de vorm van film, vellen, band of lint, met een of meer van de onderstaande eigenschappen: Noot: 1A003 heeft geen betrekking op producten bekleed of gelamineerd met koper die zijn ontworpen voor de productie van elektronische gedrukte schakelingen. N.B.: Voor smeltbare aromatische polyimiden in eender welk vorm, zie 1C008.a.3. 1A004 Beschermings- en detectieapparatuur en onderdelen daarvan die niet onder de lijst militaire goederen vallen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK DE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN, 2B351 EN 2B352. 1A004Noot: 1A004 heeft geen betrekking op: 1A004 omvat uitrusting en bestanddelen die zijn geïdentificeerd, met succes zijn getoetst aan nationale normen of waarvan op een andere manier de doeltreffendheid is bewezen, wat betreft de detectie van of de bescherming tegen radioactief materiaal aangepast voor gebruik in oorlogssituaties, biologische stoffen aangepast voor gebruik in oorlogssituaties, stoffen voor chemische oorlogvoering, simulanten of stoffen voor oproerbeheersing, zelfs wanneer die uitrusting of bestanddelen gebruikt worden in civiele industriesectoren, zoals de mijnbouw, steengroeven, de landbouw, de farmaceutische, medische, diergeneeskundige, milieu-, afvalbeheer- en voedingsindustrie. Simulanten zijn stoffen of materialen die bij opleiding, onderzoek, tests of evaluaties worden gebruikt in de plaats van toxische (chemische of biologische) stoffen. 1A005 Kogelvrije kleding en onderdelen daarvoor, als hieronder: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. N.B.: Voor stapel- en continuvezelmateriaal dat gebruikt wordt voor de vervaardiging van kogelvrije kleding, zie 1C010. Noot 1: 1A005 heeft geen betrekking op kogelvrije kleding en beschermende kleding die de gebruiker bij zich heeft voor zijn eigen bescherming. Noot 2: 1A005 heeft geen betrekking op kogelvrije kleding die bestemd is om uitsluitend frontale bescherming te bieden tegen door niet-militaire explosieven veroorzaakte luchtverplaatsingen of scherven. Noot 3: 1A005 heeft geen betrekking op lichaamspantsering die is ontworpen om uitsluitend bescherming te bieden tegen messen, priemen, naalden of stompe voorwerpen. 1A006 Apparatuur als hieronder, die speciaal is ontworpen of aangepast voor het demonteren van geïmproviseerde explosiemiddelen, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. Noot: 1A006 heeft geen betrekking op apparatuur die door de operator wordt meegevoerd. 1A007 Apparatuur en toestellen als hieronder, die speciaal zijn ontworpen om explosieve ladingen en middelen die energetische materialen bevatten, op elektrische wijze tot ontploffing te brengen: N.B.: ZIE OOK DE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN, 3A229 EN 3A232. De woorden initiator en ontsteker worden soms gebruikt in de plaats van het woord detonator. Voor de toepassing van 1A007.b. maken alle bedoelde detonatoren gebruik van een kleine elektrische geleider (‹bridge›, ‹bridge wire› of ‹foil›) die explosief verdampt wanneer er een snelle, elektrische hogestroomstoot doorheen wordt geleid. Bij het non-slapper-type brengt de exploderende geleider een chemische ontploffing op gang in een daarmee in aanraking zijnd brisant materiaal, bijvoorbeeld PETN (pentaerytritoltetranitraat). Bij slapper-detonatoren wordt een flyer of slapper door de explosieve verdamping van de elektrische geleider over een spleet gedreven en de schok van de slapper op een springstof brengt een chemische ontploffing op gang. Bij sommige constructies wordt de ‹slapper› door een magnetisch veld gestart. Met de uitdrukking ‹exploding foil›-detonator worden zowel EB-detonatoren als ‹slapper›-detonatoren bedoeld. 1A008 Explosieve ladingen, middelen en componenten, waaronder: Onder gevormde ladingen wordt verstaan explosieve ladingen die zodanig zijn gevormd dat zij het effect van een explosie kunnen sturen. 1A102 Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstofcomponenten bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104. 1A202 Composieten, met uitzondering van de in 1A002 bedoelde composieten, in buisvorm, met beide volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK 9A010 EN 9A110. 1A225 Geplatineerde katalysatoren, speciaal ontworpen of vervaardigd voor het bevorderen van de waterstofisotoopuitwisseling tussen waterstof en water voor het terugwinnen van tritium uit zwaar water of voor de productie van zwaar water. 1A226 Specifieke pakkingen die kunnen worden gebruikt voor de scheiding van zwaar water van gewoon water, met beide volgende eigenschappen: 1A227 Stralingafschermende ramen (van loodglas of ander materiaal) met alle hiernavolgende eigenschappen en speciaal ontworpen kozijnen daarvoor: In 1A227 wordt onder koude zone verstaan de kijkzone van het raam die is blootgesteld aan het laagste stralingsniveau in de constructietoepassing.

1A a.

afdichtingen, pakkingen, afdichtingsmiddelen of flexibele brandstoftanks (‹fuel bladders›), welke voor meer dan 50 gewichtspercenten bestaan uit enig materiaal als bedoeld in 1C009.b of 1C009.c, speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte of in vliegtuigen;

piëzo-elektrische polymeren en copolymeren, gemaakt van vinylideenfluoride (CAS 75-38-7), als bedoeld in 1C009.a, met de volgende eigenschappen:

1. in plaat- of folievorm; en

2. met een dikte van meer dan 200 μm;

afdichtingen, pakkingen, klepzittingen, flexibele tanks (‹bladders›) of membranen, met elk van de onderstaande eigenschappen: Noot: In 1A001.c worden onder raketten complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan.

1. gemaakt van fluorelastomeren welke ten minste één vinylethergroep als structuurelement bevatten; en

2. speciaal ontworpen voor gebruik in de ruimte, in raketten of in vliegtuigen.

bestaande uit een organische matrix en materialen als bedoeld in 1C010.c, 1C010.d of 1C010.; of

bestaande uit een metaal-matrix of koolstof-matrix en een of meer van de volgende materialen:

1. koolstof-stapel- en continuvezelmateriaal met elk van de onderstaande eigenschappen:

1. a.

een specifieke modulus groter dan 10,15 × 106 m; en

een specifieke treksterkte groter dan 17,7 × 104 m; of

2. materialen als bedoeld in 1C010.c.

een maximale oppervlakte van 1 m2;

een maximale lengte van 2,5 m; en

een breedte van meer dan 15 mm.

sportartikelen;

auto-industrie;

werktuigmachine-industrie;

medische toepassingen.

metalen warmtebehandelingsovens voor het temperen van metalen;

apparatuur voor de productie van silicium monokristallen.

een dikte groter dan 0,254 mm; of

bekleed of gelamineerd met koolstof, grafiet, metalen of magnetische substanties.

a. Technische noot:

1A004 Volgelaatsmaskers, filterbussen en decontaminatieapparatuur daarvoor die zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen één of meer van de onderstaande stoffen, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: Noot: 1A004.a omvat elektrische luchtzuiverende ademhalingstoestellen (PAPR’s) die zijn ontworpen of aangepast voor bescherming tegen de in 1A004.a. vermelde stoffen of materialen. Voor de toepassing van 1A004.a. geldt:

1. Volgelaatsmaskers staan ook bekend als gasmaskers.

2. Filterbussen vaten omvatten filterpatronen.

1. biologische stoffen aangepast voor gebruik in oorlogssituaties;

2. radioactief materiaal aangepast voor gebruik in oorlogssituaties;

3. stoffen voor chemische oorlogvoering; of

4. stoffen voor oproerbeheersing, met inbegrip van:

4. a.

α-broombenzeenacetonitril, (broombenzylcyanide) (CA) (CAS 5798-79-8);

[(2-chloorfenyl)methyleen] propaandinitril, (o-chloorbenzylideenmalononitril) (CS) (CAS 2698-41-1);

2-chloor-1-fenylethanon, fenylacylchloride (ω-chlooracetofenon) (CN) (CAS 532-27-4);

dibenz-(b,f)-1,4-oxazefine (CR) (CAS 257-07-8);

10-chloor-5, 10-dihydrofenarsazine, (fenarsazinechloride), (adamsiet), (DM) (CAS 578-94-9);

N-nonanoylmorfoline (MPA) (CAS5299-64-9).

Beschermingspakken, -handschoenen en -schoenen die speciaal zijn ontworpen of aangepast met het oog op bescherming tegen een of meer van de onderstaande stoffen:

1. biologische stoffen aangepast voor gebruik in oorlogssituaties;

2. radioactief materiaal aangepast voor gebruik in oorlogssituaties; of

3. stoffen voor chemische oorlogvoering;

Detectieapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast voor de detectie of identificatie van één of meer van de onderstaande stoffen, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1. biologische stoffen aangepast voor gebruik in oorlogssituaties;

2. radioactief materiaal aangepast voor gebruik in oorlogssituaties; of

3. stoffen voor chemische oorlogvoering.

d. Technische noot:

Elektronische apparatuur die ontworpen is voor de automatische opsporing van springstoffenresten dan wel het vaststellen van hun aanwezigheid, waarbij sporendetectietechnieken worden gebruikt (b.v. akoestische oppervlaktegolven, ionenmobiliteitspectrometrie, massaspectrometrie). onder sporendetectie wordt verstaan het vermogen om minder dan 1 ppm gas of 1 mg vaste of vloeibare stof te detecteren. Noot 1: 1A004.d. heeft geen betrekking op speciaal voor laboratoria ontworpen controleapparatuur. Noot 2: 1A004.d. heeft geen betrekking op doorloopveiligheidspoorten zonder lichamelijk contact.

individuele dosismeters voor stralingscontrole;

uitrusting voor de bescherming van gezondheid en veiligheid op het werk die door haar ontwerp of functie beperkt is tot bescherming tegen risico’s die eigen zijn aan woonwijken of industriesectoren, waaronder:

1. de mijnbouw;

2. steengroeven;

3. de landbouwsector;

4. de farmaceutische industrie;

5. de medische sector;

6. de diergeneeskundige sector;

7. de milieusector;

8. de afvalbeheersector;

9. de voedingsindustrie.

1A Technische noten: 1.2. a.

zachte kogelvrije kleding die niet is vervaardigd volgens militaire normen of specificaties of gelijkwaardige normen of specificaties, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

harde kogelvrije kleding die ballistische bescherming biedt welke gelijk is aan of minder is dan niveau IIIA (NIJ 0101.06, juli 2008) of nationale equivalenten.

op afstand bediende voertuigen;

b. Technische noot:

disruptoren. Disruptoren zijn toestellen die speciaal zijn ontworpen om de ontploffing van een explosiemiddel te voorkomen door het afschieten van een vloeibaar, vast of versplinterend projectiel.

Ontstekingsmechanismen met explosieve detonator die zijn ontworpen voor het starten van explosieve detonatoren als bedoeld in 1A007.b.;

Elektrisch gestarte explosieve detonatoren, als hieronder:

1. exploding bridge (EB);

2. exploding bridge wire (EBW);

3. slapper;

4. exploding foil-ontstekingen (EFI).

1A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.

Gevormde ladingen met alle hiernavolgende eigenschappen:

1. netto equivalente hoeveelheid (NEH) van meer dan 90 g; en

2. buitendiameter van het omhulsel gelijk of groter dan 75 mm;

Ladingen voor directionele explosies met alle hiernavolgende eigenschappen, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1. een springlading van meer dan 40 g/m, en

2. een breedte van 10 mm of meer;

Slagsnoer met sprinstoflading van meer dan 64 g/m;

Cutters, en andere ladingen voor directionele explosies dan die bedoeld 1A008.b., alsmede snij-explosieven met een netto equivalente hoeveelheid (NEH) van meer dan 3,5 kg;

1A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: a.

een binnendiameter van 75-400 mm; en

vervaardigd van stapel en continuvezelmateriaal als bedoeld in 1C010.a. of b of 1C210.a. of met koolstof-‹prepreg›-materiaal als bedoeld in 1C210.c.

vervaardigd van plaatgaas van fosforbrons (chemisch behandeld ter verbetering van de bevochtigingsraad); en

ontworpen voor gebruik in vacuüm-distillatietorens.

een koude zone groter dan 0,09 m2;

een dichtheid groter dan 3 g/cm3; en

een dikte van 100 mm of meer.

1B Technische noot: 1.2. Technische noot:

Test-, inspectie- en productieapparatuur 1B001 Apparatuur voor de vervaardiging of de inspectie van composieten of laminaten als bedoeld in 1A002 of stapel- of continuvezelmateriaal als bedoeld in 1C010, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor: N.B.: ZIE OOK 1B101 EN 1B201. Voor de toepassing van 1B001 moet onder in het primaire vlak servogestuurde richting worden verstaan, de computergestuurde ruimtelijke positie van de eindeffector (d.w.z. het uiteinde) ten opzichte van het werkstuk, nodig om bij een correcte oriëntatie en richting de beoogde werking te verkrijgen. Voor de toepassing van 1B001 is een filamentband één ononderbroken breedte van gedeeltelijk of geheel met hars geïmpregneerd band, lint of vezel. 1B002 Apparatuur voor het vervaardigen van metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, speciaal ontworpen om contaminatie te voorkomen en speciaal ontworpen voor gebruik in één van de in 1C002.c.2. bedoelde procedés. N.B.: ZIE OOK 1B102. 1B003 Gereedschap, matrijzen, stempels of klemmen voor het superplastisch vormen of diffusielassen van titaan of aluminium of legeringen daarvan, speciaal ontworpen voor het vervaardigen van één of meer: 1B101 Apparatuur, met uitzondering van de onder 1B001 bedoelde apparatuur voor de vervaardiging van composieten, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor: N.B.: ZIE OOK 1B201. Noot: De in 1B101 bedoelde onderdelen en toebehoren omvatten onder meer matrijzen, doornen, stempels, klemmen en gereedschappen voor het persen van voorvormstukken, of het harden, gieten, sinteren of binden van composieten, laminaten en producten daarvan. 1B102 Andere metaalpoeder-productieapparatuur dan die, bedoeld in 1B002 en onderdelen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 1B115.b. 1B115 Andere apparatuur dan die bedoeld in 1B002 en 1B102, voor de productie van stuwstoffen en bestanddelen daarvan, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: Noot 1: Zie de lijst van militaire goederen voor apparatuur speciaal ontworpen voor de productie van militaire goederen. Noot 2: 1B115 heeft geen betrekking op apparatuur voor de productie, het hanteren en het keuren van boorcarbide. 1B116 Speciaal ontworpen spuitmonden voor de productie van pyrolytisch gevormde materialen op een as, mal of ander substraat van voorlopergassen die ontleden bij temperaturen van 1573 K (1300 °C) tot 3173 K (2900 °C) en een druk van 130 Pa tot 20 kPa. 1B117 Niet-continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met alle navolgende eigenschappen, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor: 1B118 Continumengers welke geschikt zijn voor het mengen onder vacuüm bij een druk van nul tot 13,326 kPa, met de mogelijkheid om de temperatuur van de mengkamer te regelen en met een van de volgende eigenschappen, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor: 1B119 Luchtstraalmolens die gebruikt kunnen worden om de stoffen, genoemd in 1C011.a., 1C011.b., 1.C.111 of in de lijst van militaire goederen, te malen of te stampen, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor. 1B201 Draadwindmachines, uitgezonderd machines als bedoeld in 1B001 of 1B101, en bijbehorende apparatuur, als hieronder: 1B225 Elektrolytische cellen voor de productie van fluor met een capaciteit van meer dan 250 g fluor per uur. 1B226 Elektromagnetische isotopenscheiders, ontworpen voor of uitgerust met enkelvoudige of meervoudige ionenbronnen die een totale ionenbundelstroom van 50 mA of meer kunnen leveren. Noot: 1B226 omvat tevens scheiders: 1B228 Kolommen voor de cryogene distillatie van waterstof met alle volgende eigenschappen: In 1B228 betekent nuttige lengte de actieve hoogte van het verpakkingsmateriaal in een kolom van het gestapelde type of de actieve hoogte van de platen van het interne contactorgaan in een kolom van het plaattype. 1B229 Schotelkolommen voor de water-waterstofsulfide-uitwisseling en de interne contactorganen daarvoor, als hieronder: N.B.: Voor kolommen die speciaal zijn ontworpen of vervaardigd voor de productie van zwaar water, zie 0B004. 1B230 Pompen, geschikt voor de circulatie van geconcentreerde of verdunde oplossingen van de katalysator kaliumamide in vloeibare ammoniak (KNH2/NH3), met alle volgende eigenschappen: 1B231 Tritiuminstallaties of -fabrieken, en apparatuur daarvoor, als hieronder: 1B232 ‹Turbo expanders› of turbo-expansie/compressiesets met beide volgende eigenschappen: 1B233 Installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen en systemen en apparatuur daarvoor, als hieronder: 1B234 Brisante insluitingsvaten, -kamers of -containers of andere soortgelijke insluitingsinrichtingen die zijn ontworpen voor het testen van brisante springstoffen of explosiemiddelen, met beide volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN.

1B a.

draadwindmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in het primaire vlak in drie of meer servogestuurde richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van composieten of laminaten uit stapel of continuvezelmateriaal;

b. Technische noot:

bandlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden in het primaire vlak in vijf of meer servogestuurde richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van composieten voor vliegtuigen en raketten; Noot: In 1B001.b. worden onder raketten complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan. Voor de toepassing van punt 1b001.b hebben bandlegmachines de capaciteit om een of meer filamentbanden met een breedte van ten hoogste 25 mm en ten hoogste 305 mm op te brengen en om afzonderlijke lagen filamentbanden tijdens het opleggen af te snijden of herstarten.

c. Technische noot:

1B001 weef- en vlechtmachines welke in verscheidene richtingen en dimensies kunnen werken met inbegrip van aanpassings- of wijzigingsuitrustingen, speciaal ontworpen of aangepast voor het weven, dooreenvlechten of omvlechten van vezelmateriaal voor composieten; Voor de toepassing van punt 1B001.c. houdt de techniek van het dooreenvlechten tevens breien in.

apparatuur speciaal ontworpen of aangepast voor de vervaardiging van versterkingsvezels, als hieronder:

1. apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon, asfaltbitumen of polycarbosilaan) in koolstofvezels of vezels bestaande uit siliciumcarbide, met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting;

2. apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verwarmde continuvezelsubstraten voor de vervaardiging van vezels bestaande uit siliciumcarbide;

3. apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (bv. aluminiumoxide);

4. apparatuur voor het omzetten van aluminiumbevattende voorlopervezelmaterialen in aluminiumoxidevezels door middel van warmtebehandeling;

apparatuur voor het door middel van de heetsmeltmethode vervaardigen van de ‹prepregs› bedoeld in 1C010.e.;

inspectieapparatuur welke gebruik maakt van niet destructieve technieken (NDT), welke speciaal is ontworpen voor composieten, als hieronder:

1. röntgentomografiesystemen voor het driedimensionaal opsporen van gebreken;

2. ultrasone inspectieapparatuur met numerieke besturing, waarvan de bewegingen voor het positioneren van zenders of ontvangers gelijktijdig in vier of meer richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, om de driedimensionale contouren van het te inspecteren onderdeel te volgen;

g. Technische noot:

lintlegmachines waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van linten in het primaire vlak in twee of meer servogestuurde richtingen zijn gecoördineerd en geprogrammeerd, speciaal ontworpen voor de vervaardiging van composieten voor vliegtuigen en raketten. Voor de toepassing van 1B001.g. hebben lintlegmachines de capaciteit om een of meer filamentbanden met een breedte van ten hoogste 25 mm op te brengen en om afzonderlijke lagen filamentbanden tijdens het opleggen af te snijden of te herstarten.

1B Technische noot: 1.2. a.

constructies voor lucht- of ruimtevaart,

motoren voor vliegtuigen of ruimtevaartuigen; of

speciaal ontworpen onderdelen voor de in 1B003.a. bedoelde constructies of de in 1B003.b. bedoelde motoren.

draadwindmachines of vezelpositioneringsmachines (‹fibre placement machines›), waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal in drie of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van composieten of laminaten uit stapel of continuvezelmateriaal, alsmede besturingseenheden voor het coördineren en het programmeren daarvan;

bandlegmachines, waarvan de bewegingen voor het gericht opbrengen en leggen van banden en vellen in twee of meer richtingen kunnen worden gecoördineerd en geprogrammeerd, ontworpen voor de vervaardiging van composieten voor casco’s en andere delen van vliegtuigen en raketten;

apparatuur, als hieronder, ontworpen of aangepast voor de productie van stapel- of continuvezelmateriaal:

1. apparatuur voor het omzetten van polymere vezels (zoals polyacrylonitryl, rayon of polycarbosilaan) met inbegrip van speciale voorzieningen voor het strekken van de vezels tijdens verhitting;

2. apparatuur voor het neerslaan van elementen of verbindingen uit de dampfase op verhitte continuvezelsubstraten;

3. apparatuur voor het natspinnen van vuurbestendige keramische materialen (bv. aluminiumoxide);

apparatuur, ontworpen of aangepast voor speciale oppervlaktebehandeling van vezels of voor het vervaardigen van de ‹prepregs› en ‹preforms›, bedoeld in 9C110. Noot: 1B101.d. omvat onder meer rollen, strektoestellen, apparatuur voor het aanbrengen van deklagen, snijapparatuur en stansvormen.

metaalpoeder-productieapparatuur, bruikbaar voor de productie in een gecontroleerde omgeving van sferische, sferoïdale of vernevelde materialen als bedoeld in 1C011.a., 1C011.b., 1C111.a.1., 1C111.a.2. of in de lijst van militaire goederen;

speciaal ontworpen onderdelen van productieapparatuur als bedoeld in 1B002 of 1B102.a. Noot: 1B102 omvat:

a.

Plasmageneratoren (hogefrequentieboogstraal), bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

b.

‹Electroburst› apparatuur, bruikbaar voor het verkrijgen van gesputterde of sferische metaalpoeders in een argon-waterig milieu;

c.

Apparatuur, bruikbaar voor de productie van sferisch aluminiumpoeder door verpulvering van een smelt in een inert medium (bijv. stikstof).

productieapparatuur voor de productie, het hanteren of het keuren van vloeibare stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a., 1C011.b., 1C111 of in de lijst van militaire goederen;

productieapparatuur voor de productie, het hanteren, mengen, harden, gieten, persen, machinaal bewerken, spuitgieten of keuren van vaste stuwstoffen of bestanddelen daarvan, als bedoeld in 1C011.a., 1C011.b., 1C111 of in de lijst militaire goederen. Noot: 1B115.b. heeft geen betrekking op niet-continumengers, continumengers en luchtstraalmolens. Voor de controle daarop, zie 1B117, 1B118 en 1B119.

een totale inhoud van 110 l of meer; en

ten minste één excentrisch geplaatste meng- of kneedas. Noot: In 1B117.b. verwijst de term meng- of kneedas niet naar deagglomeratoren of mesassen.

twee of meer meng- of kneedassen; of

één roterende en oscillerende as met mengtanden/-pennen op de as en de mengkamerwand.

draadwindmachines met alle volgende eigenschappen:

1. de bewegingen voor het gericht opbrengen, wikkelen en winden van vezelmateriaal zijn in twee of meer richtingen gecoördineerd en geprogrammeerd,

2. de machines zijn speciaal ontworpen voor de vervaardiging van composieten of laminaten uit stapel- of continuvezelmateriaal; en

3. geschikt voor het winden van cilindervormige buizen met een interne diameter van 75 tot 650 mm en een lengte van 300 mm of meer;

besturingseenheden voor het coördineren en programmeren van de in 1B201.a. bedoelde draadwindmachines;

zeer nauwkeurige spillen voor de in 1B201.a. bedoelde draadwindmachines.

geschikt voor het verrijken van stabiele isotopen;

waarbij de ionenbronnen en collectors zich in het magneetveld bevinden en configuraties waarbij deze zich buiten het veld bevinden.

ontworpen om te werken bij een interne temperatuur van 35 K (- 238 °C) of lager;

ontworpen om te werken bij een interne druk van 0,5-5 MPa;

vervaardigd van

1. roestvast staal van de 300-serie met een laag zwavelgehalte en een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal; of

2. gelijkwaardige cryogene materialen die tevens H2 verdragen; en

met een binnendiameter van 30 cm of meer en een nuttige lengte van 4 m of meer.

1B Technische noot: 1.2. Technische noot: a.

schotelkolommen voor de water-waterstofsulfide-uitwisseling, met alle volgende eigenschappen:

1. geschikt voor werking bij een nominale druk van 2 MPa of groter;

2. vervaardigd van koolstofstaal met een korrelgroottegetal van 5 of hoger volgens de ASTM-standaard (of een gelijkwaardige standaard), voor austenitisch staal, en

3. met een diameter van 1,8 m of meer;

b. Technische noot:

de in 1B229.a. bedoelde interne contactgroepen voor de schotelkolommen voor de water-waterstofsulfide-uitwisseling. De interne contactgroepen van de kolommen bestaan uit gesegmenteerde schotels met een effectieve gezamenlijke diameter van 1,8 m of meer, zijn ontworpen voor het in tegenstroom met elkaar in contact brengen, en vervaardigd van roestvast staal met een koolstofgehalte van 0,03 % of minder. Zij kunnen de vorm hebben van zeefschotels, klepschotels, borrelklokjesschotels en turboroosterschotels.

luchtdicht (d.w.z. hermetisch afgesloten);

met een capaciteit van meer dan 8,5 m3/uur; en

een van de volgende eigenschappen:

1. voor geconcentreerde oplossingen van kaliumamide (1 % of meer), een werkdruk van 1,5-60 MPa; of

2. voor verdunde oplossingen van kaliumamide (minder dan 1 %), een werkdruk van 20-60 MPa.

installaties of fabrieken voor het produceren, terugwinnen, extraheren, concentreren of behandelen van tritium;

apparatuur voor tritiuminstallaties of -fabrieken, als hieronder:

1. waterstof- of heliumkoeleenheden die kunnen koelen tot 23 K (-250 °C) of lager, met een warmteafvoercapaciteit van meer dan 150 W;

2. opslag- of zuiveringssystemen voor waterstofisotopen die gebruikmaken van metaalhydriden als opslag- of zuiveringsmedium.

ontworpen om te werken met een uitstroomtemperatuur van 35 K (-238 °C) of lager; en

ontworpen voor een doorvoer van waterstofgas van 1000 kg/h of meer.

installaties of fabrieken voor het scheiden van lithiumisotopen;

apparatuur voor de scheiding van lithiumisotopen op basis van het kwik-lithiumamalgaamproces, als hieronder:

1. gestapelde kolommen voor vloeistof-vloeistofwisselkolommen, speciaal ontworpen voor lithiumamalgamen;

2. kwik- en/of lithiumamalgaampompen;

3. lithiumamalgaam-elektrolysecellen;

4. verdampers voor geconcentreerde lithiumhydroxideoplossingen;

Ionenwisselsystemen die speciaal zijn ontworpen voor het scheiden van lithiumisotopen en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen;

chemische uitwisselsystemen (gebruik makend van kroonethers, cryptanden of ‹lariat ethers› ((kroonethers met zijketens of soortgelijke structuren))), speciaal ontworpen voor het scheiden van lithiumisotopen en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

ontworpen om een explosie gelijkstaand aan 2 kg TNT of meer in te sluiten; en

heeft ontwerpelementen of -eigenschappen die directe of vertraagde overdracht van diagnostische of metingsinformatie mogelijk maken.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: 1.2.3.

Materialen Metalen en legeringen: Behoudens andersluidende bepalingen wordt in 1C001 tot en met 1C012 onder metalen en legeringen verstaan, ruwe of onbewerkte vormen en halffabricaten, als hieronder: Ruwe of onbewerkte vormen: anoden, kogels, staven (met inbegrip van gekerfde proefstaven en draadmetaal), knuppels, blokken, blooms, briketten, uitgangsblokken, kathoden, kristallen, kubussen, blokjes, korrels, granules, walsblokken, bobbels, pastilles, gietelingen, poeder, rondellen, schroot, plakken, brokken, sponsen, stiften; Halffabricaten (al dan niet bekleed, beplaat, geboord of gestanst): De doelstellingen van de controle mogen niet worden omzeild door de uitvoer van niet gespecificeerde vormen waarvan wordt beweerd dat het om afgewerkte producten gaat, maar die in feite onbewerkte vormen of halffabricaten zijn. 1C001 Materialen, speciaal ontworpen om te worden gebruikt voor het absorberen van elektromagnetische golven, of intrinsiek geleidende polymeren, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 1C101. 1C002 Metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 1C202. Noot: 1C002 heeft geen betrekking op: metaallegeringen, metaallegeringspoeder of gelegeerde materialen, voor het bekleden van substraten. De metaallegeringen bedoeld in 1C002, zijn legeringen waarin het genoemde metaal een hoger gewichtspercentage heeft dan enig ander element. De levensduur voordat spanningsbreuk optreedt, dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-139 of gelijkwaardige nationale methoden. De levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting dient te worden gemeten volgens ASTM Standard E-606 ‹Recommended practice for constant-amplitude low-cycle fatigue testing› of gelijkwaardige nationale equivalenten. Het testen dient axiaal te geschieden met een gemiddelde belastingsverhouding gelijk aan 1 en een krachten-concentratiefactor (Kt) gelijk aan 1. De gemiddelde belastingsverhouding wordt gedefinieerd als de maximale belasting min de minimale belasting gedeeld door de maximale belasting. 1C003 Magnetische metalen van alle soorten, ongeacht de vorm, met één of meer van de volgende eigenschappen: 1C004 Uraan-titaanlegeringen of wolfraamlegeringen met een matrix op basis van ijzer, nikkel of koper, met alle volgende eigenschappen: 1C005 Supergeleidende composiet-geleiders in lengten groter dan 100 m of met een massa groter dan 100 g, als hieronder: Voor de toepassing van 1C005 kunnen de filamenten de vorm van een draad, cilinder, film, band of lint hebben. 1C006 Vloeistoffen en smeermiddelen, als hieronder: Voor de toepassing van 1C006: 1C007 Keramische basismaterialen, keramische materialen die geen composieten zijn, composieten met een keramische matrix, en voorlopermaterialen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 1C107. 1C008 Niet-gefluoreerde polymeren, als hieronder: De glastemperatuur (Tg) voor de in 1C008.a.2. bedoelde thermoplatische en de in 1C008.a.4. bedoelde materialen wordt bepaald volgens de methode, beschreven in ISO 11357-2 (1999) of nationale equivalenten. De glastemperatuur (Tg) voor de in 1C008.a.2. bedoelde thermohardende materialen en de in 1C008.a.3. bedoelde materialen wordt bepaald middels de driepuntsbuigproef beschreven in ASTM D 7028-07 of een vergelijkbare nationale norm. De proef wordt uitgevoerd met een droog staal met een vulkaniseringsgehalte van minimaal 90 % als omschreven in ASTM E 2160-04 of een vergelijkbare nationale norm en is gevulkaniseerd met gebruikmaking van een combinatie van standaard- en nahardingsprocessen die de hoogste Tg opbrengen. 1C009 Onbewerkte fluorverbindingen, als hieronder: 1C010 Stapel- en continuvezelmateriaal, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 1C210 EN 9C110. Voor de berekening van de specifieke treksterkte, de specifieke modulus of het soortelijk gewicht van stapel- of continuvezelmateriaal in 1C010.a., 1C010.b. of 1C010.c., moeten de treksterkte en modulus worden bepaald met behulp van methode A, beschreven in ISO 10618 (2004) of nationale equivalenten. Beoordeling van de specifieke treksterkte, specifieke modulus of het soortelijk gewicht van niet in één richting liggend stapel continuvezelmateriaal (bijvoorbeeld weefsels, willekeurige matten of vlechten) in 1C010 moet worden gebaseerd op de mechanische eigenschappen van de samenstellende in één richting liggende monofilamenten (bv. monofilamenten, garens, rovings en linten) vóór de verwerking ervan tot de niet in één richting liggende stapel- of continuvezelmateriaal materialen. 1C011 Metalen en verbindingen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN en 1C111. N.B.: Zie tevens de lijst van militaire goederen voor metaalpoeders die met andere stoffen worden gemengd tot mengsels voor militair gebruik. 1C012 Materialen, als hieronder: Deze materialen worden doorgaans voor nucleaire warmtebronnen gebruikt. 1C101 Materialen voor het beperken van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestische beeld, anders dan de materialen bedoeld in 1C001, geschikt voor gebruik in raketten, subsystemen van raketten of onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012. Noot 1: 1C101 omvat: Noot 2: 1C101 omvat niet deklagen die speciaal bedoeld zijn om de thermische stabiliteit van satellieten te regelen. In 1C101 worden onder raketten complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen verstaan die een last kunnen vervoeren over een afstand van ten minste 300 km. 1C102 Opnieuw verzadigde, door pyrolyse verkregen koolstof-koolstof-materialen bestemd voor ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104. 1C107 Niet in 1C007 beschreven grafiet en keramische materialen, als hieronder: 1C111 Niet in 1C011 beschreven stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen, als hieronder: Noot: Zie voor andere niet in 1C111 vermelde stuwstoffen en chemicaliën voor de vervaardiging van stuwstoffen de lijst van militaire goederen. 1C116 Maragingstaal, bruikbaar in raketten, met alle volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK 1C216. Maragingstaal is een ijzerlegering die: In 1C116 wordt onder raketten verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van meer dan 300 km kunnen overbruggen. 1C117 Materiaal voor de productie van onderdelen van raketten, als hieronder: In 1C117 wordt onder raketten verstaan, complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van méér dan 300 km kunnen overbruggen. 1C118 Duplex roestvast staal met titaanstabilisatie (Ti-DSS), met de volgende eigenschappen: 1C202 Legeringen, anders dan bedoeld in 1C002.b.3. of 1C002.b.4., als hieronder: De zinsnede legeringen geschikt voor omvat legeringen zowel voor als na warmtebehandeling. 1C210 Stapel- en continuvezelmateriaal of ‹prepregs›, anders dan bedoeld in 1C010.a., 1C010.b. of 1C010.e., als hieronder: Noot: In 1C210 is stapel- en continuvezelmateriaal beperkt tot continue monofilamenten garens, ‹rovings›, linten of banden. 1C216 Maragingstaal, anders dan bedoeld in 1C116, geschikt voor een treksterkte van 1950 MPa of meer bij 293 K (20 °C). Noot: 1C216 heeft geen betrekking op maragingstaal in een vorm waarin geen enkele lineaire maat groter is dan 75 mm. De zinsnede maragingstaal geschikt voor omvat maragingstaal zowel voor als na warmtebehandeling. 1C225 Boor, verrijkt in de boor-10-isotoop (10B) tot meer dan de natuurlijke abundantie, in de hiernavolgende vormen: elementair boor, boorverbindingen, boorhoudende mengsels, fabricaten daarvan, afval en schroot van deze stoffen. Noot: De in 1C225 bedoelde boorhoudende mengsels omvatten met boor beladen materialen. De natuurlijke abundantie van boor-10 is ongeveer 18,5 gewichtspercenten (20 percent op atomaire basis). 1C226 Wolfraam, wolfraamcarbide en legeringen die meer dan 90 gewichtspercenten wolfraam bevatten, anders dan bedoeld in 1C117, met beide volgende eigenschappen: Noot: 1C226 heeft geen betrekking op fabrikaten die speciaal ontworpen zijn als gewicht of collimator voor gammastralen. 1C227 Calcium met beide volgende eigenschappen: 1C228 Magnesium met beide volgende eigenschappen: 1C229 Bismut met beide volgende eigenschappen: 1C230 Beryllium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten beryllium bevatten, berylliumverbindingen, fabricaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen, anders dan vermeld in de lijst militaire goederen. N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. Noot: 1C230 heeft geen betrekking op: 1C231 Hafnium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevatten, verbindingen van hafnium die meer dan 60 gewichtspercenten hafnium bevat, fabricaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen. 1C232 Helium-3 (3He), mengsels die helium-3 bevatten, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten. Noot: 1C232 heeft geen betrekking op een product of apparaat dat minder dan 1 g helium-3 bevat. 1C233 Lithium, verrijkt in de lithium-6-isotoop (6Li) tot meer dan de natuurlijke abundantie, of producten of toestellen die verrijkt lithium bevatten, als hierna: elementair lithium, legeringen, lithiumverbindingen, mengsels die lithium bevatten, fabricaten daarvan en afval of schroot van deze stoffen. Noot: 1C233 heeft geen betrekking op thermoluminescentie-stralingsmeters. De natuurlijk abundantie van de lithium-6-isotoop is ongeveer 6,5 gewichtspercenten (7,5 % op atomaire basis). 1C234 Zirkonium met een hafniumgehalte van minder dan 1 gewichtsdeel hafnium op 500 gewichtsdelen zirkonium, als hierna: metaal, legeringen die meer dan 50 gewichtspercenten zirkonium bevatten, verbindingen, fabricaten daarvan, afval of schroot van deze stoffen, anders dan die vermeld zijn in 0A001.f. Noot: 1C234 heeft geen betrekking op zirkonium in de vorm van folie met een dikte van 0,10 mm of minder. 1C235 Tritium, tritiumverbindingen en mengsels welke tritium bevatten, waarin de verhouding van het aantal tritiumatomen tot het aantal waterstofatomen groter is dan 1: 1000, en producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten. Noot: 1C235 heeft geen betrekking op een product of toestel dat minder dan 1,48 × 103 GBq (40 Ci) tritium in welke vorm dan ook bevat. 1C236 Radionucliden geschikt voor het maken van neutronenbronnen op basis van alfa-n-reactie, anders dan die bedoeld in 0C001 en 1C012.a., in de volgende vormen: Noot: 1C236 heeft geen betrekking op een product of toestel dat minder dan 3,7 GBq (100 millicurie) activiteit bevat. In 1C236 wordt onder radionucliden verstaan: 1C237 Radium-226 (226Ra), radium-226-legeringen, radium-226-verbindingen, mengsels die radium-226 bevatten, fabricaten daarvan, en producten of toestellen die een van deze stoffen bevatten. Noot: 1C237 heeft geen betrekking op: 1C238 Chloortrifluoride (ClF3) 1C239 Brisante springstoffen, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, of stoffen of mengsels met een gehalte van meer dan 2 gewichtspercenten aan deze springstoffen, met een kristaldichtheid dichtheid groter dan 1,8 g/cm3 en een detonatiesnelheid groter dan 8000 m/s. 1C240 Nikkelpoeder en poreus nikkelmetaal, anders dan bedoeld in 0C005, als hieronder: Noot: 1C240 heeft geen betrekking op: 1C240.b. heeft betrekking op poreus metaal dat gevormd is door samenpersing en sintering van de materialen in 1C240.a., om een materiaal van metaal te vormen met fijne poriën die door de gehele structuur heen onderling verbonden zijn. 1C241 Renium en legeringen die 90 gewichtsprocenten of meer renium bevatten; en legeringen van renium en wolfraam die voor 90 gewichtsprocenten of meer bestaan uit een combinatie van renium en wolfraam, met beide onderstaande eigenschappen: 1C350 Chemische stoffen, geschikt voor het vervaardigen van toxische stoffen, als hieronder, en chemische mengsels die een of meer van deze stoffen bevatten: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C450 Noot 1: Voor uitvoer naar Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens worden in 1C350 niet bedoeld chemische mengsels die een of meer van de in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 en .63 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 2: Voor uitvoer naar Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens worden in 1C350 niet bedoeld chemische mengsels die een of meer van de in de punten 1C350.1, .3, .5, .11, .12, .13, .17, .18, .21, .22, .26, .27, .28, .31, .32, .33, .34, .35, .36, .54, .55, .56, .57 en .63 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 3: 1C350 heeft geen betrekking op chemische mengsels die een of meer van de in de punten 1C350.2, .6, .7, .8, .9, .10, .14, .15, .16, .19, .20, .24, .25, .30, .37, .38, .39, .40, .41, .42, .43, .44, .45, .46, .47, .48, .49, .50, .51, .52, .53, .58, .59, .60, .61 en .62 vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 4: 1C350 heeft geen betrekking op producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelsverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik. 1C351 Pathogenen voor mensen en dieren en toxinen, als hieronder: Noot: 1C351 heeft geen betrekking op vaccins of immunotoxinen. 1C352 Niet gebruikt 1C353 Genetische elementen en genetisch gemodificeerde organismen, als hieronder: Genetisch gemodificeerde organismen omvatten organismen waarvan het genetisch materiaal (nucleïnezuursequenties) veranderd is op een wijze welke van nature door voortplanting en/of natuurlijke recombinatie niet mogelijk is en organismen die geheel of gedeeltelijk kunstmatig geproduceerd zijn. Genetische elementen omvatten onder andere chromosomen, genomen, plasmiden, transposons en vectoren, al dan niet genetisch gemodificeerd, of geheel of gedeeltelijk chemisch gesynthetiseerd. Onder nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van de micro-organismen bedoeld in 1C351.a., 1C351.c., 1C352.e. of 1C354 wordt verstaan een voor het gespecificeerd micro-organisme specifieke sequentie Noot: 1C353 heeft geen betrekking op nucleïnezuursequenties die de pathogeniteit bepalen van enterohemorragische Escherichia coli serotype O157 en andere verotoxineproducerende stammen dan die welke coderen voor verotoxine of subeenheden daarvan. 1C354 Plantpathogenen, als hieronder: 1C450 Giftige chemische stoffen en voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder, en chemische mengsels die een of meer van deze stoffen bevatten: N.B.: ZIE OOK 1C350, 1C351.d EN DE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN.

1C Technische noot: a.

1C gesmede of bewerkte materialen die zijn vervaardigd door middel van walsen, doortrekken, spuitgieten, smeden, slagextrusie, persen, korrelen, verstuiven en slijpen, namelijk: hoekstaven, gootmetaal, ronde voorprofielen, schijven, stof, vlokken, foelies en bladmetaal, smeedstukken, platen, poeder, geperste stukken allerhande, linten, ringen, staven (met inbegrip van ruwe lasstaven, walsdraad en diverse gewalste draden), profielen, gietvormen, dunne platen, banden en buizen allerhande (met inbegrip van ronde, vierkante en holle pijpen), getrokken of geëxtrudeerde draad;

gegoten metaal vervaardigd door gieten in zand, metaal, gips of andere types gietvormen, met inbegrip van onder hoge druk gegoten producten, gesinterde vormen en door middel van poedermetallurgie vervaardigde producten.

materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 2 × 108 Hz doch lager dan 3 × 1012 Hz; Noot 1: 1C001.a. heeft geen betrekking op: Noot 2: Magnetische materialen voor absorptiedoeleinden in verf vallen wel onder 1C001.a.

a.

absorberende materialen van het haartype, ongeacht of deze zijn gemaakt van natuurlijke of synthetische vezels, welke niet-magnetische stoffen bevatten voor de absorptie;

b.

absorberende materialen waarin geen magnetisch verlies optreedt en waarvan het invallend oppervlak niet vlak is, zoals piramiden, kegels, wiggen en gedraaide oppervlakken;

c.

vlakke absorberende materialen die al de onderstaande eigenschappen vertonen:

1. Technische noot:

gemaakt van een van de volgende materialen: Monsters voor het testen van de absorptie ten behoeve van 1C001.a. noot 1.c.1. dienen een vierkant te zijn van ten minste vijf golflengten (van de middenfrequentie) aan één zijde en geplaatst in het verre veld van het stralingselement;

1. a.

kunststof schuimmaterialen (al dan niet buigzaam) welke koolstof bevatten, of organische materialen, met inbegrip van binders, met meer dan 5 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 450 K (177 °C); of

keramische materialen met meer dan 20 % echo vergeleken met metaal over een bandbreedte groter dan ± 15 % van de centrale frequentie van de binnenkomende energie, en niet bestand tegen temperaturen hoger dan 800 K (527 °C);

2. een treksterkte van minder dan 7 × 106 N/m2; en

3. een druksterkte van minder dan 14 × 106 N/m2;

d.

vlakke absorberende materialen, gemaakt van gesinterd ferriet, met de volgende eigenschappen:

1. een relatieve dichtheid groter dan 4,4; en

2. een maximale werktemperatuur van 548 K (275 °C);

1C001 materialen voor het absorberen van frequenties hoger dan 1,5 × 1014 Hz doch lager dan 3,7 × 1014 Hz welke geen zichtbaar licht doorlaten; Noot: 1C001.b. heeft geen betrekking op materialen die speciaal ontworpen of samengesteld zijn voor de volgende toepassingen:

a.

het lasermarkeren van polymeren; of

b.

het laserlassen van polymeren.

c. Technische noot:

intrinsiek geleidende polymere materialen met een specifieke elektrische volumegeleidbaarheid groter dan 10000 S/m (Siemens per meter) of een specifieke oppervlakteweerstand kleiner dan 100 ohm/vierkant, op basis van een of meer van de volgende polymeren: Noot: 1C001.c. heeft geen betrekking op materialen in vloeibare vorm. De specifieke elektrische volumegeleidbaarheid en de specifieke oppervlakteweerstand dienen te worden bepaald met behulp van ASTM D-257 of nationale gelijkwaardige methoden.

1. polyaniline;

2. polypyrrool;

3. polythiofeen;

4. polyfenyleen-vinyleen; of

5. polythienyleen-vinyleen.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. a.

aluminiden, als hieronder:

1. nikkelaluminiden met minstens 15 gewichtspercenten aluminium, hoogstens 38 gewichtsprocenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

2. titaanaluminiden met 10 of meer gewichtspercenten aluminium en minstens één extra legeringselement;

metaallegeringen, als hieronder, gemaakt van poeder of uit deeltjes bestaand materiaal als bedoeld in 1C002.c.:

1. nikkellegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

1. a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10000 uur of meer bij 923 K (650 °C) en een spanning van 676 MPa; of

een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 1095 MPa bij 823 K (550 °C);

2. 1C002 b. niobiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

2. a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10000 uur of meer bij 1073 K (800 °C) en een spanning van 400 MPa; of

een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 700 MPa bij 973 K (700 °C);

3. titaanlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

3. a.

een levensduur voordat spanningsbreuk optreedt van 10000 uur of meer bij 723 K (450 °C) en een spanning van 200 MPa; of

een levensduur bij laagfrequente vermoeidheidsbelasting van 10000 of meer belastingscycli met een maximale spanning van 400 MPa bij 723 K (450 °C);

4. aluminiumlegeringen met minstens één van de onderstaande eigenschappen:

4. a.

een treksterkte van 240 MPa of meer bij 473 K (200 °C); of

een treksterkte van 415 MPa of meer bij 298 K (25 °C);

5. magnesiumlegeringen met alle volgende eigenschappen:

5. a.

een treksterkte van 345 MPa of meer; en

een corrosiesnelheid lager dan 1 mm/jaar in een 3 %-natriumchlorideoplossing in water, gemeten volgens ASTM Standard G-31 of gelijkwaardige nationale equivalenten;

metaallegeringspoeder of uit deeltjes bestaand materiaal, met alle volgende eigenschappen:

1. Technische noot:

gemaakt van een van onderstaande samenstellingssystemen: X staat voor één of meer legeringselementen.

nikkellegeringen (Ni-Al-X, Ni-X-Al) gespecificeerd voor onderdelen of elementen voor turbinemotoren, d.w.z. met minder dan drie niet metallieke deeltjes (verontreinigingen van het fabricageproces) groter dan 100 μm op 109 legeringsdeeltjes;

niobiumlegeringen (Nb-Al-X of Nb-X-Al, Nb-Si-X of Nb-X-Si, Nb-Ti-X of Nb-X-Ti);

titaanlegeringen (Ti-Al-X of Ti-X-Al);

Aluminiumlegeringen (Al-Mg-X of Al-X-Mg, Al-Zn-X of Al-X-Zn, Al-Fe-X of Al-X-Fe); of

magnesiumlegeringen (Mg-Al-X of Mg-X-Al);

2. vervaardigd in een beheerst milieu door middel van één van onderstaande procedés:

2. a.

verstuiving in vacuüm

verstuiving in gas;

roterend verstuiven;

versplintering door snelle afkoeling;

spinnen uit de smelt en vergruizing;

smeltextractie en vergruizing; of

mechanisch legeren; en

3. in staat in 1C002.a. of 1C002.b. bedoelde materialen te vormen;

1C002 gelegeerde materialen met alle volgende eigenschappen:

1. gemaakt van een van de in 1C002.c.1. bedoelde samenstellingssystemen;

2. in de vorm van niet-vergruisde schilfers, stroken of dunne staven; en

3. vervaardigd in een beheerst milieu door middel van een van de volgende procedés:

3. a.

versplintering door snelle afkoeling;

spinnen uit de smelt; of

smeltextractie.

a. Technische noot:

een relatieve beginpermeabiliteit van 120000 of meer en een dikte van 0,05 mm of minder; De relatieve beginpermeabiliteit wordt gemeten aan het gespecificeerde materiaal dat volledig ontlaten is.

magnetostrictieve legeringen met:

1. een verzadigingsmagnetostrictie van meer dan 5 × 10-4; of

2. een magnetomechanische koppelingsfactor (k) van meer dan 0,8; of

c. Technische noot:

strips van amorfe of nanokristallijne legeringen met de volgende eigenschappen: Nanokristallijne materialen in 1C003.c. zijn materialen met een kristalkorrelgrootte van hoogstens 50 nm, bepaald door middel van röntgendiffractie.

1. een samenstelling met minimaal 75 gewichtspercenten ijzer, kobalt of nikkel;

2. een magnetische verzadigingsinductie (Bs) van 1,6 T of meer; en

3. een of meer van de volgende eigenschappen:

3. a.

een stripdikte van 0,02 mm of minder; of

een elektrische soortelijke weerstand van 2 × 10-4 ohm cm of meer.

een dichtheid groter dan 17,5 g/cm3;

een elastische rekgrens groter dan 880 MPa;

een breukspanning groter dan 1270 MPa; en

een rek groter dan 8 %.

Supergeleidende composiet-geleiders welke een of meer niobium-titaan-filamenten bevatten, met beide volgende eigenschappen:

1. ingebed in een matrix anders dan een koper-matrix of in een op koper gebaseerd matrix-mengsel; en

2. met een doorsnedeoppervlak kleiner dan 0,28 × 10-4 mm2 (6 μm diameter voor ronde filamenten);

1C005 Supergeleidende composiet-geleiders, bestaande uit één of meer supergeleidende filamenten, anders dan van niobium-titaan, met de volgende eigenschappen:

1. een kritische temperatuur bij afwezigheid van magnetische inductie hoger dan 9,85 K (-263,31 °C); en

2. in een supergeleidende toestand blijvend bij een temperatuur van 4,2 K (-268,96 °C) bij blootstelling aan een magnetisch veld dat loodrecht op de lengteas van de geleider is georiënteerd en overeenstemt met een magnetische inductie van 12 T, met een kritische stroomdichtheid van meer dan 1750 A/mm2 over de totale doorsnede van de geleider;

Supergeleidende composiet-geleiders, bestaande uit één of meer supergeleidende filamenten, die supergeleidend blijven boven 115 K (-158,16 °C).

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: a.

hydraulische vloeistoffen met als voornaamste bestanddeel één of meer van de onderstaande stoffen:

1. Technische noot:

oliën van synthetische silakoolwaterstoffen met: Voor de toepassing van 1C006.a.1. bevatten oliën van silakoolwaterstoffen uitsluitend silicium, waterstof en koolstof.

een vlampunt hoger dan 477 K (204 °C);

een vloeipunt bij 239 K (- 34 °C) of lager;

een viscositeitsindex van 75 of hoger; en

een thermische stabiliteit bij 616 K (343 °C) of hoger; of

2. Technische noot:

chloorfluorkoolstoffen met: Voor de toepassing van 1C006.a.2. bevatten chloorfluorkoolstoffen uitsluitend koolstof, fluor en chloor.

geen vlampunt;

een autogene ontbrandingstemperatuur hoger dan 977 K (704 °C);

een vloeipunt bij 219 K (- 54 °C) of lager;

een viscositeitsindex van 80 of hoger; en

een kookpunt bij 473 K (200 °C) of hoger;

smeermiddelen met als voornaamste bestanddeel een of meer van de volgende stoffen:

1. fenyleen- of alkylfenyleenethers of thio-ethers, of mengsels daarvan, welke meer dan twee ether- of thio-ethergroepen bevatten of combinaties daarvan; of

2. gefluoreerde siliconevloeistoffen die een kinematische viscositeit hebben van minder dan 5000 mm2/s (5000 centistokes) gemeten bij 298 K (25 °C);

1C006 dempingsvloeistoffen en flotatievloeistoffen met alle volgende eigenschappen:

1. een zuiverheid groter dan 99,8 %;

2. met minder dan 25 deeltjes van 200 μm of groter per 100 ml, en

3. gemaakt van ten minste 85 % van één of meer van onderstaande stoffen:

3. a.

dibroomtetrafluorethaan (CAS 25497-30-7, 124-73-2, 27336-23-8);

polychloortrifluoretheen (uitsluitend olie- en wasmodificaties); of

polybroomtrifluoretheen;

fluorkoolstoffen in koelvloeistoffen voor elektronische systemen met de volgende eigenschappen: Noot: 1C006.d. heeft geen betrekking op als medische producten gespecificeerd en verpakte materialen.

1. minstens 85 gewichtspercenten van de volgende stoffen of mengsels daarvan:

1. a.

monomeren van perfluorpolyalkylether-triazinen of perfluoralifatische ethers;

perfluoralkylaminen;

perfluorcycloalkanen; of

perfluoralkanen;

2. een dichtheid van 1,5 g/ml of meer bij 298 K (25 °C);

3. vloeibaar bij 273 K (0 °C); en

4. minstens 60 gewichtspercenten fluor.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot:

1. wordt het vlampunt bepaald door gebruik te maken van de Cleveland Open Cup Methode volgens ASTM D-92 of nationale equivalenten;

2. wordt het vloeipunt bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-97, of nationale equivalenten;

3. wordt de viscositeitsindex bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM D-2270, of nationale equivalenten;

4. wordt de thermische stabiliteit bepaald volgens onderstaande testprocedure of nationale equivalenten: 20 ml van de te testen vloeistof wordt gebracht in een roestvast stalen kamer (type 317) van 46 ml, die de volgende kogels met een (nominale) diameter van 12,5 mm bevat: één van M-10 gereedschapsstaal, één van 52100-staal en één van bronstobin (60 % Cu, 39 % Zn, 0,75 % Sn). De kamer wordt gespoeld met stikstofgas, bij atmosferische druk luchtdicht afgesloten en verhit tot 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) en gedurende zes uur op deze temperatuur gehouden. Het monster wordt geacht thermisch stabiel te zijn indien bij het beëindigen van bovengenoemde procedure aan alle volgende voorwaarden wordt voldaan:

4. a.

het gewichtsverlies van elk der kogels is minder dan 10 mg/mm2 van het oppervlak van de kogel;

de verandering in de oorspronkelijke viscositeit zoals vastgesteld bij 311 K (38 °C) is minder dan 25 %; en

het totale zuur- of basegetal is kleiner dan 0,40;

5. wordt de autogene ontbrandingstemperatuur bepaald volgens de methode, beschreven in ASTM E-659, of nationale equivalenten daarvan.

basismaterialen bestaande uit enkelvoudige of meervoudige boriden van titaan met een totale hoeveelheid aan metallische verontreiniging, exclusief opzettelijke toevoegingen, van minder dan 5000 ppm, met een gemiddelde deeltjesgrootte minder dan of gelijk aan 5 μm, terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 μm;

keramische materialen die geen composieten zijn in ruwe vorm of als halffabricaat samengesteld uit boriden van titaan met een dichtheid van 98 % van de theoretische dichtheid of hoger; Noot: 1C007.b. heeft geen betrekking op slijpmiddelen.

keramisch-keramische composieten met een glas- of oxide-matrix en versterkt met vezels, met alle volgende eigenschappen:

1. gemaakt van een van de volgende materialen:

1. a.

Si-N;

Si-C;

Si-Al-O-N; of

Si-O-N; en

2. met een specifieke treksterkte van meer dan 12,7 × 103 m;

keramisch-keramische composieten, met of zonder continue metallische fase, die fijn verdeelde deeltjes of fasen bevatten van enig materiaal met vezel- of whiskerstructuur, en waarbij carbiden of nitriden van silicium, zirkoon of boor de matrix vormen;

voorlopermaterialen (d.w.z. voor speciale doeleinden bestemde polymere of organometaalverbindingen) voor het vervaardigen van welke fase of fasen dan ook van de materialen, bedoeld in 1C007.c., als hieronder:

1. polydiorganosilanen (voor het vervaardigen van siliciumcarbide);

2. polysilazanen (voor het vervaardigen van siliciumnitride);

3. polycarbosilazanen (voor het vervaardigen van keramische materialen met silicium-, koolstof- en stikstofcomponenten);

keramisch-keramische composieten met een oxide- of glas-matrix, versterkt met continuvezels van één van de volgende systemen: Noot: 1C007.f. heeft geen betrekking op composieten die vezels bevatten van deze systemen met een vezeltreksterkte van minder dan 700 MPa bij 1273 K (1000 °C) of een trek-krimpweerstand van meer dan 1 % krimp bij een belasting van 100 MPa bij 1273 K (1000 °C) gedurende 100 uren.

1. Al2O3 (CAS 1344-28-1); of

2. Si-C-N.

imiden, als hieronder: Noot: 1C008.a. is van toepassing op de stoffen in vloeibare of vaste smeltbare vorm, waaronder hars, poeder, pellets, film, vellen, band of lint; N.B.: voor onsmeltbare aromatische polyimiden in film, vellen, band of lint, zie 1A003.

1. bismale-imiden;

2. aromatische polyamide-imiden (PAI) met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 563 K (290 °C);

3. aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 505 K (232 °C);

4. 1C008 a. aromatische polyetherimiden met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 563 K (290 °C);

thermoplastische vloeibare kristalcopolymeren met een warmtevervormings-temperatuur hoger dan 523 K (250 °C), gemeten volgens ISO 75-2 (2004), methode A, of nationale equivalenten, bij een belasting van 1,80 N/mm2 en samengesteld uit:

1. één van beide volgende verbindingen:

1. a.

fenyleen, bifenyleen of naftaleen; of

fenyleen, bifenyleen of naftaleen met methyl-, tertiair butyl- of fenylsubstitutie; en

2. één van de volgende zuren:

2. a.

tereftaalzuur (CAS 100-21-0);

6-hydroxy-2-naftoëzuur (CAS 16712-64-4); of

4-hydroxybenzoëzuur (CAS 99-96-7);

niet gebruikt;

polyaryleenketonen;

polyaryleensulfiden, waarbij de arylgroep bestaat uit bifenyleen, trifenyleen of combinaties daarvan;

polybifenyleenethersulfonen met een glastemperatuur (Tg) van meer dan 563 K (290 °C).

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. a.

copolymeren van vinylideenfluoride met 75 % of meer bèta-kristallijnstructuur zonder strekken;

gefluoreerde polyimiden die 10 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten;

gefluoreerde fosfazeen elastomeren die 30 of meer gewichtspercenten gebonden fluor bevatten.

organisch stapel- en continuvezelmateriaal met de volgende eigenschappen: Noot: 1C010.a. heeft geen betrekking op polyethyleen.

1. specifieke modulus groter dan 12,7 × 106 m; en

2. specifieke treksterkte groter dan 23,5 × 104 m;

1C010 stapel- en continuvezelmateriaal van koolstof met de volgende eigenschappen: Noot: 1C010.b. heeft geen betrekking op:

1. specifieke modulus groter dan 14,65 × 106 m; en

2. specifieke treksterkte groter dan 26,82 × 104 m;

a.

weefsels, gemaakt van stapel- of continuvezelmateriaal voor de reparatie van casco’s of laminaten van civiele vliegtuigen, met de volgende eigenschappen:

1. een maximale oppervlakte van 1 m2;

2. een maximale lengte van 2,5 m; en

3. een breedte van meer dan 15 mm.

b.

mechanisch verhakseld, vermalen of gesneden stapel- en continuvezelmateriaal van koolstof met een lengte van 25,0 mm of minder.

anorganisch stapel- en continuvezelmateriaal met de volgende eigenschappen: Noot: 1C010.c. heeft geen betrekking op:

1. specifieke modulus groter dan 2,54 × 106 m; en

2. smelt-, verwekings-, en ontledings- of sublimatiepunt hoger dan 1922 K (1649 °C) in een inerte atmosfeer;

a.

discontinue, meerfasige, polykristallijne aluminiumoxide-vezels als stapelvezels of als onregelmatig gelaagde matten, welke 3 of meer gewichtspercenten siliciumdioxide bevatten, met een specifieke modulus kleiner dan 10 × 106 m;

b.

vezels van molybdeen en molybdeenlegeringen;

c.

boorvezels;

d.

discontinue keramische vezels met een smelt-, verwekings-, ontledings- of sublimatiepunt lager dan 2043 K (1770 °C) in een inerte atmosfeer.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. d.

stapel- of continuvezelmateriaal met één of meer van de onderstaande eigenschappen:

1. samengesteld uit één of meer van de volgende materialen:

1. a.

polyetherimiden, als bedoeld in 1C008.a.; of

materialen, als bedoeld in 1C008.b. tot en met 1C008.f.; of

2. samengesteld uit andere materialen als bedoeld in 1C010.d.1.a, of 1C010d.1.b, en vermengd (<commingled>) met andere vezels als bedoeld in 1C010.a., 1C010.b. of 1C010.c.;

e. Technische noot:

1C010 geheel of gedeeltelijk met hars of asfaltbitumen geïmpregneerd stapel- en continu-vezelmateriaal (‹prepregs›), met metaal of koolstof bekleed stapel- en continuvezelmateriaal (‹preforms›) of halffabricaten (‹preforms›) voor koolstofvezels, met de volgende eigenschappen: Noot 1: met metaal of koolstof bekleed stapel- of continuvezelmateriaal (‹preforms›) of niet met hars of asfaltbitumen geïmpregneerde halffabricaten (‹preforms›) voor koolstofvezels worden omschreven onder stapel- en continuvezelmateriaal in 1C010.a., 1C010.b. of 1C010.c. Noot 2: 1C010.e. heeft geen betrekking op: De middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg) voor de materialen bedoeld in 1C010.e. wordt bepaald volgens de in ASTM D 7028-07 beschreven methode, of een vergelijkbare nationale norm. Voor thermogeharde materialen bedraagt het vulkaniseringsgehalte van een droog staal minimaal 90 %, als omschreven in ASTM E 2160-04 of een vergelijkbare nationale norm.

1. met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. a.

anorganisch stapel- of continuvezelmateriaal als bedoeld in 1C010.c.; of

organisch stapel- of continuvezelmateriaal of stapel- of continuvezelmateriaal van koolstof met alle onderstaande eigenschappen:

1. specifieke modulus groter dan 10,15 × 106 m; en

2. specifieke treksterkte groter dan 17,7 × 104 m; en

2. met een of meer van de volgende eigenschappen:

2. a.

hars of asfaltbitumen, als bedoeld in 1C008 of 1C009.b.;

middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg) gelijk aan of hoger dan 453 K (180 °C) en met fenolhars; of

middels dynamisch-mechanische analyse bepaalde glasovergangstemperatuur (DMA Tg) gelijk aan of hoger dan 505 K (232 °C) en met hars of asfaltbitumen, niet nader omschreven in 1C008 of 1C009.b., en niet zijnde een fenolhars;

a.

met epoxyhars geïmpregneerd koolstof-stapel- of continuvezelmateriaal (‹prepregs›) voor de reparatie van casco’s of laminaten van civiele vliegtuigen met de volgende eigenschappen:

1. een maximale oppervlakte van 1 m2;

2. een maximale lengte van 2,5 m; en

3. een breedte van meer dan 15 mm.

b.

geheel of gedeeltelijk met hars of asfaltbitumen geïmpregneerd en mechanisch verhakseld, vermalen of gesneden stapel- en continuvezelmateriaal van koolstof met een lengte van 25,0 mm of minder wanneer ander dan onder 1C008 of 1C009.b. vermeld hars of asfaltbitumen wordt gebruikt.

a. 1C011 a.Technische noot:

Metalen met een deeltjesgrootte van minder dan 60 μm, hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdaal, in vlokkenvorm of gemalen, vervaardigd uit materiaal dat voor 99 % of meer bestaat uit zirkonium, magnesium en legeringen daarvan; Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend. Noot: De metalen of legeringen in 1C011.a. vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.

boor of boorlegeringen met een deeltjesgrootte van hoogstens 60 μm, als hieronder: Noot: De metalen of legeringen in 1C011.b. vallen onder de regeling, ongeacht of zij al dan niet zijn ingekapseld in aluminium, magnesium, zirkonium of beryllium.

1. boor met een zuiverheid van minstens 85 gewichtspercenten;

2. boorlegeringen die minstens 85 gewichtspercenten boor bevatten;

Guanidinenitraat (CAS 506-93-4);

Nitroguanidine (NQ) (CAS 556-88-7).

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: a.

plutonium in iedere vorm met een plutonium-isotoopgehalte aan plutonium-238 van meer dan 50 gewichtsprocent; Noot: 1C012.a. heeft geen betrekking op:

a.

zendingen die hoogstens 1 g plutonium bevatten;

b.

zendingen van hoogstens 3 effectieve grammen in een afgesloten gedeelte van een meetelement in instrumenten.

door opwerking verkregen neptunium-237 in iedere vorm. Noot: 1C012.b. heeft geen betrekking op zendingen die hoogstens 1 g neptunium-237 bevatten.

constructiematerialen en deklagen, speciaal ontworpen om de radarreflectie te beperken;

deklagen, inclusief verven, speciaal ontworpen om de reflectie of de uitstraling in het microgolf-, infrarood- of ultravioletgebied te beperken of aan te passen.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: a.

grafiet met een kleine korrelgrootte en met een volumedichtheid van ten minste 1,72 g/cm3 gemeten bij 288 K (15 °C), met een korrelgrootte van 100 μm of minder, geschikt voor raketstraalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen, dat gebruikt kan worden bij de productie van: N.B.: Zie ook 0C004.

1. Cilinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm;

2. Buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of

3. Blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm;

pyrolytisch of vezelversterkt grafiet, geschikt voor raket straalpijpen of neuskegels van terugkeervoertuigen voor gebruik in raketten, ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104; N.B.: Zie ook 0C004.

keramische composieten (diëlektrische constante kleiner dan 6 bij een frequentie van 100 MHz tot 100 GHz), geschikt voor radarkoepels voor gebruik in raketten, ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104;

bulk bewerkbare, met siliciumcarbide versterkte keramiek, geschikt voor neuskegels voor gebruik in raketten, ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104;

versterkte siliciumcarbide keramiek composieten, geschikt voor neuskegels, terugkeervoertuigen en straalpijpen, bruikbaar voor raketten, ruimtelanceervoertuigen bedoeld in 9A004 of sonderingsraketten bedoeld in 9A104.

stoffen die stuwkracht leveren:

1. Technische noot:

bolvormig of sferoïdisch aluminiumpoeder, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, met een deeltjesgrootte kleiner dan 200 μm en een aluminiumgehalte van 97 % of meer, indien ten minste 10 % van het totaalgewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 63 μm, overeenkomstig ISO 2591:1988 of nationale equivalenten; Een deeltjesgrootte van 63 μm (ISO R-565) stemt overeen met maasgetal 250 (Tyler) of 230 (ASTM Standard E-11).

2. Metaalpoeders, anders dan bedoeld in de lijst van militaire goederen, als hieronder: Noot: 1C111a.2.a. en 1C111a.2.b. is van toepassing op poedermengsels met een multimodale deeltjesverdeling (bijv. mengsels van verschillende korrelgrootte) indien een of meer methoden worden gereguleerd.

2. a. Technische noot:

Metaalpoeders van zirkonium, beryllium of magnesium, of legeringen van deze metalen, indien minstens 90 % van het totale aantal deeltjes aan deeltjesvolume of -gewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 60 μm (vastgesteld middels metingstechnieken zoals het gebruik van een zeef, laserdiffractie of optische aftasting), hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen, voor 97 gewichtsprocent of meer bestaand uit een van de volgende: Het natuurlijke hafniumgehalte van het zirkonium (normaal 2 % tot 7 %) wordt bij het zirkonium gerekend.

1. zirkonium;

2. beryllium; of

3. magnesium;

1C111 a. 2. Metaalpoeders van borium of boriumlegeringen, met een boriuminhoud van meer dan 85 gewichtsprocent, indien minstens 90 % van het totale aantal deeltjes aan deeltjesvolume of -gewicht bestaat uit deeltjes van minder dan 60 μm (vastgesteld middels metingstechnieken zoals het gebruik van een zeef, laserdiffractie of optische aftasting), hetzij bolvormig, verstoven, sferoïdisch, in vlokkenvorm of gemalen;

3. oxidatoren geschikt voor raketmotoren voor vloeibare stuwstof, als hieronder:

3. a.

distikstoftrioxide (CAS 10544-73-7);

stikstofdioxide (CAS 10102-44-0)/distikstoftetraoxide (CAS 10544-72-6);

distikstofpentoxide (CAS 10102-03-1);

d. Technische noot:

mengsels van stikstofoxiden (mixed oxides of nitrogen, MON); Mengsels van stikstofoxiden (MON) zijn oplossingen van stikstofoxide (NO) in distikstoftetraoxide/stikstofdioxide (N2O4/NO2) die in raketsystemen kunnen worden gebruikt. Er bestaan diverse verbindingen die als MONi of MONij kunnen worden aangeduid, waarbij i en j hele getallen zijn die het percentage stikstofoxide in het mengsel weergeven (zo bevat MON3 3 % stikstofoxide en MON25 25 %. Een bovengrens is MON40, d.w.z. 40 gewichtsprocent).

ZIE DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN voor geïnhibeerd roodrokend salpeterzuur (Inhibited Red Fuming Nitric Acid, IRFNA);

ZIE DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN EN 1C238 voor verbindingen bestaande uit fluor en een of meer andere halogenen, zuurstof of stikstof.

4. hydrazinederivaten, als hieronder: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN.

4. a.

trimethylhydrazine (CAS 1741-01-1);

tetramethylhydrazine (CAS 6415-12-9);

N,N-diallylhydrazine;

allylhydrazine (CAS 7422-78-8);

ethyleendihydrazine;

monomethylhydrazinedinitraat;

asymmetrisch dimethylhydrazinenitraat;

hydraziniumazide (CAS 14546-44-2);

dimethylhydraziniumazide;

hydraziniumdinitraat;

diimide oxaalzuurdihydrazine (CAS 3457-37-2);

2-hydroxyethylhydrazinenitraat (HEHN);

zie de lijst militaire goederen voor hydraziniumperchloraat;

hydraziniumdiperchloraat (CAS 13812-39-0);

1C111 a. 4. methylhydrazinenitraat (MHN);

diethylhydrazinenitraat (DEHN);

3,6-dihydrazinetetrazinenitraat (1,4-dihydrazinenitraat) (DHTN);

5. Technische noot:

Materialen met hoge energiedichtheid, anders dan bedoeld in de Lijst militaire goederen, die kunnen worden gebruikt in raketten of onbemande luchtvaartuigen, bedoeld in 9A012; In 1C111.a.5. wordt onder raket verstaan, complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen die een afstand van méér dan 300 km kunnen overbruggen.

5. a.

gemengde brandstof die zowel vaste als vloeibare brandstof bevat, zoals boriumspecie, met een energiedichtheid op massabasis van minimaal 40 × 106 J/kg;

andere brandstoffen met hoge energiedichtheid en brandstofadditieven (bv. cubaan, ionische oplossingen, JP-10), met een energiedichtheid op massabasis van minimaal 37,5 × 109 J/m3, gemeten bij 20 °C en een atmosferische druk van één (101,325 kPa); Noot: 1C111.a.5.b. heeft geen betrekking op fossiele geraffineerde brandstoffen en uit groenten gewonnen biobrandstoffen, daaronder begrepen brandstoffen voor motoren die gecertificeerd zijn voor gebruik in de civiele luchtvaart, tenzij deze speciaal zijn bestemd voor raketten of onbemande luchtvaartuigen als bedoeld in 9A012.

polymeren:

1. polybutadieen met carboxy-eindgroep (met inbegrip van polybutadieen met carboxyl-eindgroep) (CTPB);

2. polybutadieen met hydroxy-eindgroep (met inbegrip van polybutadieen met hydroxyl-eindgroep) (HTPB), anders dan bedoeld in de lijst van militaire goederen;

3. polybutadieen-acrylzuur (PBAA);

4. polybutadieen-acrylzuur-acrylonitril (PBAN);

5. Technische noot:

polytetrahydrofuraan polyethyleenglycol (TPEG); Polytetrahydrofuraan polyethyleenglycol (TPEG) is een blokcopolymeer van poly 1,4-butaandiol en polyethyleenglycol (PEG).

andere additieven en hulpstoffen voor stuwstoffen:

1. ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN VOOR carboranen; decaboranen; pentaboranen en derivaten;

2. triethyleenglycoldinitraat (TEGDN) (CAS 111-22-8);

3. 2-nitrodifenylamine (CAS 119-75-5);

4. trimethylethaantrinitraat (TMETN) (CAS 3032-55-1);

5. diethyleenglycoldinitraat (DEGDN) (CAS 693-21-0);

6. ferroceenderivaten, als hieronder:

6. a.

zie lijst militaire goederen voor catoceen

ethylferroceen (CAS 1273-89-8);

propylferroceen;

1C111 c. 6. zie lijst militaire goederen voor n-butylferroceen

pentylferroceenferroceen (CAS 1274-00-6);

dicyclopentylferroceen;

dicyclohexylferroceen;

diethylferroceen (CAS 1273-97-8);

dipropylferroceen;

dibutylferroceen (CAS 1274-08-4);

dihexylferroceen (CAS 93894-59-8);

acetylferroceen (CAS 1271-55-2)/1,1’-diacetylferroceen (CAS 1273-94-5);

zie lijst militaire goederen voor ferroceencarboxylzuren

zie lijst militaire goederen voor butaceen

andere ferroceenderivaten die kunnen worden gebruikt als verbrandingssnelheidsmodificatoren voor raketstuwstoffen, die niet onder de lijst militaire goederen vallen. Noot: 1C111.c.6.o. heeft geen betrekking op ferroceenderivaten met een aan de ferroceenmolecule vastgehechte aromatische functionele groep van zes koolstofatomen.

7. 4,5 diazidomethyl-2-methyl-1,2,3-triazool (iso-DAMTR) anders dan die aangegeven in de lijst militaire goederen.

Met een eindtreksterkte (UTS), gemeten bij 293 K (20 °C), dat gelijk is aan of groter is dan:

1. 0,9 GPa in het stadium van ontlaten van de oplossing; of

2. 1,5 GPa in het stadium van precipitatieharden; en

een van de volgende vormen:

1. Plaat of buis met een wand- of plaatdikte van 5,0 mm of minder;

2. Buisvormige vormen met een wanddikte gelijk aan of minder dan 50 mm en een inwendige diameter gelijk aan of meer dan 270 mm.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1:

1. gewoonlijk door een hoog nikkelgehalte, een zeer laag koolstofgehalte en het gebruik van vervangende elementen of precipitaten voor het versterken en tijdharden van de legering wordt gekenmerkt; en

2. warmtebehandelingen hebben ondergaan om het martensitische omzettingsproces (stadium van ontlaten van de oplossing) te faciliteren en vervolgens tijdgehard zijn (stadium van precipitatieharden).

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: a.

Wolfraam en legeringen in deeltjesvorm bevattende 97 of meer gewichtspercenten wolfraam en waarvan de grootte van de deeltjes 50 × 10-6 m (50 μm) is of minder;

Molybdeen en legeringen in deeltjesvorm bevattende 97 of meer gewichtspercenten molybdeen en waarvan de grootte van de deeltjes 50 × 10-6 m (50 μm) is of minder;

Wolfraammateriaal in vaste vorm, met de volgende samenstellingen:

1. één of meer van de volgende eigenschappen:

1. a.

wolfraam en wolfraamlegeringen bevattende 97 of meer gewichtspercenten wolfraam;

met koper geïnfiltreerd wolfraam bevattende 80 of meer gewichtspercenten wolfraam; of

met zilver geïnfiltreerd wolfraam bevattende 80 of meer gewichtspercenten wolfraam; en

2. kan worden gebruikt bij de productie van:

2. a.

Cilinders met een diameter van ten minste 120 mm en een lengte van ten minste 50 mm;

Buizen met een binnendiameter van ten minste 65 mm, een wanddikte van ten minste 25 mm en een lengte van ten minste 50 mm; of

blokken met een minimumomvang van 120 × 120 × 50 mm.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: a.

met alle navolgende eigenschappen:

1. het bevat 17,0-23,0 gewichtspercenten chroom en 4,5-7,0 gewichtspercenten nikkel;

2. het titaangehalte bedraagt meer dan 0,10 gewichtspercenten; en

3. een ferritisch-austenitische microstructuur (ook tweefasenmicrostructuur genoemd) waarvan ten minste 10 volumepercenten austeniet (volgens ASTM E-1181-87 of nationale equivalenten); en

in een van de volgende vormen:

1. walsblokken of staven die ten minste 100 mm groot zijn in elke richting;

2. platen met een breedte van ten minste 600 mm en een dikte van 3 mm of minder; of

3. buizen met een buitendiameter van ten minste 600 mm en een wanddikte van 3 mm of minder.

aluminiumlegeringen met beide volgende eigenschappen:

1. geschikt voor een treksterkte van 460 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

2. buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm;

titaanlegeringen met beide volgende eigenschappen:

1. geschikt voor een treksterkte van 900 MPa of meer bij 293 K (20 °C); en

2. buisvormig of massief cilindervormig (met inbegrip van smeedstukken) met een buitendiameter van meer dan 75 mm.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: a.

stapel- en continuvezelmateriaal van koolstof of aramide met een van de volgende eigenschappen: Noot: 1C210.a. heeft geen betrekking op stapel- en continuvezelmateriaal van aramide dat ten minste 0,25 gewichtspercent bevat van een op een ester gebaseerde vezeloppervlakmodificator.

1. een specifieke modulus van 12,7 × 106 m of groter; of

2. een specifieke treksterkte van 23,5 × 104 m of meer;

stapel- en continuvezelmateriaal van glas met beide volgende eigenschappen:

1. een specifieke modulus van 3,18 × 106 m of meer; en

2. een specifieke treksterkte van 7,62 × 104 m of meer;

c. Technische noot:

thermogeharde met hars geïmpregneerde continu-garens, -rovings, -linten of banden met een breedte van 15 mm of minder (‹prepregs›), vervaardigd uit stapel- en continuvezelmateriaal van koolstof of glas als bedoeld in 1C210.a. of 1C210.b. Het hars vormt de matrix van de composiet.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.

in vormen met holle cilindersymmetrie (daaronder mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen 100 mm en 300 mm; en

met een massa groter dan 20 kg.

bevat minder dan 1000 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan magnesium; en

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

bevat minder dan 200 gewichtsdelen per miljoen aan metallische verontreiniging anders dan calcium; en

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen boor.

een zuiverheid van 99,99 gewichtspercenten of meer; en

bevat minder dan 10 gewichtsdelen per miljoen zilver.

vensters voor röntgentoestellen of voor apparatuur voor metingen in boorgaten, van berylliummetaal;

vormstukken van berylliumoxide als eindproduct of halffabricaat, speciaal ontworpen voor elektronische onderdelen of als substraat voor elektronische schakelingen;

beril (beryllium-aluminiumsilicaat) in de vorm van smaragden of aquamarijnen.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.

de elementaire vorm;

verbindingen met een totale activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

mengsels met een totale activiteit van 37 GBq/kg (1 Ci/kg) of hoger;

producten of toestellen die een van voorgaande stoffen bevatten.

Actinium-225 (Ac-225)

Actinium-227 (Ac-227)

Californium-253 (Cf-253)

Curium-240 (Cm-240)

Curium-241 (Cm-241)

Curium-242 (Cm-242)

Curium-243 (Cm-243)

Curium-244 (Cm-244)

Einsteinium-253 (Es-253)

Einsteinium-254 (Es-254)

Gadolinium-148 (Gd-148)

Plutonium-236 (Pu-236)

Plutonium-238 (Pu-238)

Polonium-208 (Po-208)

Polonium-209 (Po-209)

Polonium-210 (Po-210)

Radium-223 (Ra-223)

Thorium-227 (Th-227)

Thorium-228 (Th-228)

Uranium-230 (U-230)

Uranium-232 (U-232)

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.

medische middelen;

een product of toestel dat minder dan 0,37 GBq (10 millicurie) radium-226 bevat.

nikkelpoeder met beide volgende eigenschappen:

1. een nikkelgehalte van 99,0 gewichtspercenten of meer, en

2. een gemiddelde korrelgrootte kleiner dan 10 μm, gemeten volgens Standard B330 van de ASTM;

poreus nikkelmetaal, gemaakt van materiaal, bedoeld in 1C240.a.

vezelvormige nikkelpoeders;

enkelvoudige platen van poreus nikkel, met een oppervlakte per plaat van 1000 cm2 of minder.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.

in vormen met holle cilindersymmetrie (daaronder mede begrepen cilindersegmenten) met een binnendiameter tussen 100 mm en 300 mm; en

met een massa groter dan 20 kg.

1. thiodiglycol (111-48-8);

2. fosforoxychloride (10025-87-3);

3. dimethylmethylfosfonaat (756-79-6);

4. ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN voor methylfosfonyldifluoride (676-99-3);

5. methylfosfonyldichloride (676-97-1);

6. dimethylfosfiet (DMP) (868-85-9);

7. fosfortrichloride (7719-12-2);

8. trimethylfosfiet (TMP) (121-45-9);

9. thionylchloride (7719-09-7);

10. 3-hydroxy-1-methylpiperidine (3554-74-3);

11. 2-diisopropylaminoethylchloride (96-79-7);

12. 2-diisopropylaminoethaanthiol (5842-07-9);

13. 1C350 chinuclidine-3-ol (1619-34-7);

14. kaliumfluoride (7789-23-3);

15. 2-chloorethanol (107-07-3);

16. dimethylamine (124-40-3);

17. diethylethylfosfonaat (78-38-6);

18. diethyl-N,N-dimethylfosforamidaat (2404-03-07);

19. diethylfosfiet (762-04-9);

20. dimethylaminehydrochloride (506-59-2);

21. dichloorethylfosfine (1498-40-4);

22. ethylfosfonyldichloride (1066-50-8);

23. ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN voor ethylfosfonyldifluoride (753-98-0);

24. waterstoffluoride (7664-39-3);

25. methylbenzilaat (76-89-1);

26. dichloormethylfosfine (676-83-5);

27. 2-diisopropylaminoethanol (96-80-0);

28. pinacolylalcohol (464-07-3);

29. ZIE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN voor O-ethyl-2-diisopropylaminoethyl-methylfosfoniet (QL) (57856-11-8);

30. triethylfosfiet (122-52-1);

31. arseentrichloride (7784-34-1);

32. benzilzuur (76-93-7);

33. diethylmethylfosfoniet (15715-41-0);

34. dimethylethylfosfonaat (6163-75-3);

35. difluorethylfosfine (430-78-4);

36. difluormethylfosfine (753-59-3);

37. chinuclidine-3-on (3731-38-2);

38. fosforpentachloride (10026-13-8);

39. pinacolon (75-97-8);

40. kaliumcyanide (151-50-8);

41. kaliumbifluoride (7789-29-9);

42. ammoniumbifluoride (1341-49-7);

43. natriumfluoride (7681-49-4);

44. 1C350 natriumbifluoride (1333-83-1);

45. natriumcyanide (143-33-9);

46. triethanolamine (102-71-6);

47. fosforpentasulfide (1314-80-3);

48. diisopropylamine (108-18-9);

49. iethylaminoethanol (100-37-8);

50. natriumsulfide (1313-82-2);

51. zwavelmonochloride (10025-67-9);

52. zwaveldichloride (10545-99-0);

53. triethanolaminehydrochloride (637-39-8);

54. N,N-diisopropyl-(Beta)-aminoethylchloride hydrochloride (4261-68-1);

55. methylfosfonzuur (993-13-5);

56. diethylethylfosfonaat (683-08-9);

57. N,N-dymethylaminofosforyldichloride (677-43-0);

58. tri-isopropylfosfiet (116-17-6);

59. ethyldiethanolamine (139-87-7);

60. O,O-diethylfosforothioaat (2465-65-8);

61. O,O-diethylfosforodithioaat (298-06-6);

62. natriumhexafluorosilicaat (16893-85-9);

63. methylfosfonthiodichloride (676-98-2).

virussen, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1. Afrikaanse-paardenpestvirus.

2. Afrikaanse-varkenspestvirus;

3. Andesvirus;

4. aviaire influenzavirus, hetzij:

4. a.

niet-gekarakteriseerd; of

zoals omschreven in bijlage I, punt 2 van Richtlijn 2005/94/EG (PB L.10 van 14.1.2006, blz.16) met hoge pathogeniteitsindex, als hieronder:

1. type A-virussen met een IVPI (intraveneuze pathogeniteitsindex) bij zes weken oude kuikens van meer dan 1,2; of

2. type A-virussen van het subtype H5 of H7, met een genoomsequentie die codeert voor meerdere basische aminozuren aan de breukzijde van de hemagglutininemolecule en die overeenkomt met de sequentie die ook bij andere HPAI-virussen is vastgesteld, waaruit kan worden afgeleid dat de hemagglutininemolecule kan worden gesplitst door een algemene protease van de gastheer;

5. bluetonguevirus;

6. Chaparevirus;

7. Chikungunyavirus;

8. Choclovirus;

9. Haemorragische-Krim-Kongokoortsvirus (CCHF-virus);

10. Denguevirus;

11. Dobrava-Belgradevirus;

12. Eastern equine encefalitisvirus;

13. Ebolavirus;

14. mond-en-klauwzeervirus;

15. geitenpokkenvirus;

16. Guanaritovirus;

17. Hantaanvirus;

18. Hendravirus (Equine-morbillivirus);

19. Virus van de ziekte van Aujeszky;

20. Klassieke-varkenspestvirus;

21. Japanse-encefalitisvirus;

22. Juninvirus;

23. Kyasanur Forest-virus;

24. Laguna-Negravirus;

25. Lassavirus;

26. 1C351 a. Louping ill-virus;

27. Lujovirus;

28. virus van nodulaire dermatose;

29. Lymfocytaire-choriomeningitisvirus;

30. Machupovirus;

31. Marburgvirus;

32. Apenpokkenvirus;

33. Murray Valley-encefalitisvirus;

34. virus van de ziekte van Newcastle (pseudovogelpestvirus);

35. Nipah-vurus;

36. Omsk hemorragische-koortsvirus;

37. Oropouche-virus;

38. virus van de ziekte van kleine herkauwers;

39. porcien enterovirus type 9 (vesiculaire-varkensziektevirus);

40. Powassan-virus;

41. Rabiësvirus en alle andere leden van het geslacht van lyssavirussen;

42. Rift Valleyvirus;

43. runderpestvirus;

44. Rocio-virus;

45. Sabiavirus;

46. Seoulvirus;

47. schapenpokkenvirus;

48. Sin nombre-virus;

49. Saint-Louis-encefalitisvirus;

50. virus van de Teschenerziekte;

51. tekenencephalitisvirus (RSSE-virus);

52. variolavirus;

53. venezuelan equine encefalitisvirus;

54. vesiculaire-stomatitisvirus;

55. western equine encefalitisvirus;

56. gele-koortsvirus;

niet gebruikt;

1C351 bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1. Bacillus anthracis;

2. Brucella abortus;

3. Brucella melitensis;

4. Brucella suis;

5. Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei);

6. Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei);

7. Chlamydophila psittaci (formeel bekend als Chlamydia psittaci);

8. Clostridium argentinense (voorheen bekend als Clostridium botulinum, type G), botulinum neurotoxine-producerende stammen;

9. Clostridium baratii, botulinum neurotoxine-producerende stammen;

10. Chlostridium botulinum;

11. Clostridium butyricum, botulinum neurotoxine-producerende stammen;

12. Clostridium perfringens epsilontoxine-producerende types;

13. Coxiella burnetii;

14. Francisella tularensis;

15. Mycoplasma capricolum subtype capripneumoniae (stam F38);

16. Mycoplasma mycoides subtype mycoides SC (kleine kolonie);

17. Rickettsia prowasecki;

18. Salmonella typhi;

19. shiga-toxineproducerende Escherichia coli (STEC) van serogroepen O26, O45 O103, O104, O111, O121, O145, O157 en andere shiga-toxineproducerende serogroepen;

20. Shigella dysenteriae;

21. Vibrio cholerae;

22. Yersinia pestis;

toxinen, als hieronder, alsmede sub-eenheden van toxinen daarvan: Noot: 1C351.d. heeft geen betrekking op botulinumtoxinen of conotoxinen als product dat aan alle navolgende criteria voldoet:

1. botulinumtoxinen;

2. Clostridium perfringens alfa, bèta 1, bèta 2, epsilon- en iota-toxinen;

3. conotoxine;

4. ricine;

5. saxitoxine;

6. Technische noot:

1C351 d. shigatoxine; Shiga-toxineproducerende Escherichia coli (STEC) staat ook bekend als enterohemorragische E. coli (EHEC) of verocytotoxine-producerende E. coli (VTEC).

7. Staphylococcus aureus-enterotoxinen, hemolysine alfa-toxine en toxischeshocksyndroom-toxine (voorheen bekend als Staphylococcus enterotoxine F);

8. tetrodotoxine;

9. verotoxine en shiga-achtige ribosoominactiverende proteïnen;

10. microcystine (Cyanginosine);

11. aflatoxinen;

12. abrine;

13. choleratoxine;

14. diacetoxyscirpenoltoxine;

15. T-2-toxine;

16. HT-2-toxine;

17. modeccine;

18. volkensine;

19. viscum album lectine 1 (Viscumine);

1. het gaat om farmaceutische formules, ontwikkeld om aan de mens te worden toegediend bij de behandeling van een aandoening;

2. zij zijn voorverpakt om als geneesmiddelen te worden verhandeld;

3. een overheidsinstantie heeft een vergunning afgegeven om ze als geneesmiddel in de handel te brengen.

schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal met inbegrip van levend materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1. Coccidioides immitis;

2. Coccidioides posadasii.

genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die de nucleïnezuursequenties bevatten die de pathogeniteit bepalen van de organismen, bedoeld in 1C351.a., 1C351.c., 1C351.e of 1C354;

1C353 genetisch gemodificeerde organismen, of genetische elementen die nucleïnezuursequenties bevatten die coderen voor een van de toxinen bedoeld in 1C351.d of sub-eenheden van toxinen daarvan.

1C Technische noot: Technische noten: 1.2.3. Technische noot: Technische noot: Technische noot: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noot: Technische noot: Technische noot 1: Technische noot 2: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: 1.2.3. a.

die op zichzelf of via de door transcriptie of translatie ontstane producten een aanzienlijk gevaar voor de gezondheid van mensen, dieren of planten oplevert; of

waarvan bekend is dat zij het vermogen versterkt van een specifiek micro-organisme, of enig organisme waarin dat micro-organisme kan worden ingebracht of anderszins geïntegreerd, om ernstige schade te berokkenen aan de gezondheid van mensen, dieren of planten.

1. Andean potato latent virus (Potato Andean latent tymovirus);

2. Potato spindle tuber viroid;

bacteriën, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1. Xanthomonas albilineans;

2. Xanthomonas axonopodis pv. citri (Xanthomonas campestris pv. citri A) [Xanthomonas campestris pv. citri];

3. Xanthomonas oryzae pv. oryzae (Pseudomonas campestris pv. oryzae);

4. Clavibacter michiganensis subsp. sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. sepedonicum of Corynebacterium sepedonicum);

5. Ralstonia solanacearum, ras 3, biovar 2;

schimmels, natuurlijk, versterkt of gemodificeerd, in de vorm van geïsoleerde levende culturen of als materiaal dat opzettelijk met dergelijke culturen is geïnoculeerd of besmet, als hieronder:

1. Colletotrichum kahawae (Colletotrichum coffeanum var. virulans);

2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae);

3. Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei);

4. Puccinia graminis ssp. graminis var. graminis/Puccinia graminis ssp. graminis var. stakmanii (Puccinia graminis [syn. Puccinia graminis f. sp. tritici]);

5. 1C354 c. Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum);

6. Magnaporthe oryzae (Pyricularia oryzae);

7. Peronosclerospora philippinensis (Peronosclerospora sacchari);

8. Sclerophthora rayssiae var. zeae;

9. Synchytrium endobioticium;

10. Tilletia indica;

11. Thecaphora solani.

Giftige chemische stoffen, als hieronder: Noot 1: Voor uitvoer naar Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens worden in 1C450 niet bedoeld chemische mengsels die een of meer van de in de punten 1C450.a.1. en.a.2. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 1 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 2: Voor uitvoer naar staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens worden in 1C450 niet bedoeld chemische mengsels die een of meer van de in de punten 1C450.a.1. en.a.2. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 3: 1C450 heeft geen betrekking op chemische mengsels die een of meer van de in de punten 1C450.a.4., .a.5., . a.6. en.a.7. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 4: 1C450 heeft geen betrekking op producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik.

1. amiton: O,O-diethyl-S-[2-(diëthylamino)ethyl]fosforothioaat (78-53-5) en de overeenkomstige gealkyleerde of geprotoneerde zouten;

2. PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormethyl)-1-propeen (382-21-8);

3. ZIE DE LIJST VAN MILITAIRE GOEDEREN voor BZ: 3-quinuclidinylbenzilaat (6581-06-2);

4. fosgeen: carbonyldichloride (75-44-5);

5. chloorcyaan (506-77-4);

6. cyaanwaterstof (74-90-8);

7. chloorpicrine: trichloornitromethaan (76-06-2);

Voorlopers van giftige chemische stoffen, als hieronder: Noot 1: Voor uitvoer naar Staten die geen partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens worden in 1C450 niet bedoeld chemische mengsels die een of meer van de in de punten 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. en.b.6. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 10 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 2: Voor uitvoer naar Staten die partij zijn bij het Verdrag inzake chemische wapens worden in 1C450 niet bedoeld chemische mengsels die een of meer van de in de 1C450.b.1., .b.2., .b.3., .b.4., .b.5. en.b.6. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 3: 1C450 heeft geen betrekking op chemische mengsels die een of meer van de in punt 1C450.b.8. vermelde chemische stoffen bevatten en waarin geen van de afzonderlijk vermelde stoffen meer dan 30 gewichtspercent van het mengsel vertegenwoordigt. Noot 4: 1C450 heeft geen betrekking op producten waarvan is vastgesteld dat het gaat om verpakte consumptiegoederen voor de detailhandelverkoop voor persoonlijk gebruik of verpakte consumptiegoederen voor individueel gebruik.

1. chemische stoffen, andere dan die welke zijn opgenomen in de lijst van militaire goederen of in 1C350, die een fosforatoom bevatten met daaraan gebonden een methyl-, ethyl- of (normale of iso-) propylgroep maar geen andere koolstofatomen; Noot: 1C450.b.1. heeft geen betrekking op Fonofos: O-ethyl-S-fenylethyl-fosfonthiolthionaat (944-22-9);

2. 1C450 b. andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fosforamidodihalogeniden dan N,N-dimethylaminofosforyldichloride; N.B.: Zie 1C350.57. voor N,N-dimethylaminofosforyldichloride.

3. andere dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]-N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]fosforamidaten dan diethyl-N,N-dimethylfosforamidaat, dat genoemd wordt in 1C350;

4. andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethyl-2-chloriden en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethylchloride of N,N-diisopropyl-(beta)-amionoethylchloride - hydrochloride, die genoemd worden in 1C350;

5. N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethaan-2-olen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethanol (96800), en N,N-diethylaminoethanol (100-37-8) die genoemd worden in 1C350; Noot: 1C450.b.5. heeft geen betrekking op:

5. a.

N,N-dimethylaminoethanol (108-01-0) en overeenkomstige geprotoneerde zouten;

geprotoneerde zouten van N,N-diethylaminoethanol (100-37-8);

6. andere N,N-dialkyl-[methyl-, ethyl- of (normaal of iso) propyl]aminoethaan-2-thiolen en overeenkomstige geprotoneerde zouten dan N,N-diisopropyl-(beta)-aminoethaanthiol, dat genoemd wordt in 1C350;

7. Zie 1C350 voor ethyldiethanolamine (139-87-7);

8. methyldiethanolamine (105-59-9).

1D Programmatuur 1D001 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van goederen, bedoeld in 1B001, 1B002 en 1B003. 1D002 Programmatuur voor de ontwikkeling van laminaten of composieten met een organische matrix, een metaalmatrix of een koolstofmatrix. 1D003 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast om apparatuur de mogelijkheid te bieden de functies uit te oefenen van apparatuur bedoeld in 1A004.c. of 1A004.d. 1D101 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de werking of het onderhoud van in 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 of 1B119 bedoelde goederen. 1D103 Programmatuur, speciaal ontwikkeld voor de analyse van de beperking van de zichtbaarheid zoals de radarreflectie, het ultraviolet/infrarood of akoestisch beeld. 1D201 Programmatuur, speciaal ontwikkeld voor het gebruik van de in 1B201 bedoelde goederen.

1E Technologie 1E001 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor de ontwikkeling of productie van apparatuur of materialen bedoeld in 1a001.b, 1a001.c, 1A002 tot en met 1A005, 1A006.b., 1A007, 1B en 1C. 1E002 Andere technologie, als hieronder: 1E101 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van goederen, bedoeld in 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115 tot en met 1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C 111 tot en met 1C118, 1D101 of 1D103. 1E102 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot betreffende de ontwikkeling van programmatuur bedoeld in 1D001, 1D101 of 1D103. 1E103 Technologie voor het regelen van de temperatuur, druk of atmosfeer in autoclaven of hydroclaven indien gebruikt voor de productie van composieten of halffabricaten van composieten. 1E104 Technologie voor de productie van pyrolytisch gevormde materialen op een mal, doorn of ander substraat van gassen die ontleden bij temperaturen van 1573 K (1300 °C) tot 3173 K (2900 °C) en drukken van 130 Pa tot 20 kPa. Noot: 1E104 omvat tevens technologie voor het samenstellen van voorlopergassen, schema’s en gegevens in verband met stroomsnelheden en procesregeling. 1E201 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van goederen, bedoeld in 1A002, 1A007, 1A202, 1A225 tot en met 1A227, 1B201, 1B225 tot en met 1B234, 1C002.b.3 of.b.4., 1C010.b., 1C202, 1C210, 1C216, 1C225 tot en met 1C241 of 1D201. 1E202 Technologie overeenkomstig de algemene technologieopmerking betreffende de ontwikkeling of de productie van goederen, bedoeld in 1A007, 1A202, 1A225 tot en met 1A227. 1E203 Technologie overeenkomstig algemene technologienoot betreffende de ontwikkeling van programmatuur, bedoeld in 1D201.

1E a.

technologie voor de ontwikkeling of productie van polybenzothiazolen of polybenzoxazolen;

technologie voor de ontwikkeling of productie van fluorelastomeerverbindingen die ten minste één vinylethermonomeer bevatten;

technologie voor het ontwerpen of de productie van de volgende basismaterialen of keramische materialen, niet zijnde composieten:

1. basismaterialen met alle volgende eigenschappen:

1. a.

met een van de onderstaande samenstellingen:

1. enkelvoudige of meervoudige oxiden van zirkonium en meervoudige oxiden van silicium of aluminium;

2. enkelvoudige nitriden van boor (de kubische kristalvormen);

3. enkelvoudige of meervoudige carbiden van silicium of boor; of

4. enkelvoudige of meervoudige nitriden van silicium;

met een van de onderstaande totale hoeveelheden metallische verontreiniging (exclusief opzettelijke toevoegingen):

1. minder dan 1000 ppm voor enkelvoudige oxiden of carbiden; of

2. minder dan 5000 ppm voor meervoudige verbindingen of enkelvoudige nitriden; en

zijnde een van de navolgende materialen:

1. zirkoonoxide (CAS 1314-23-4) met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 1 μm terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 5 μm;

2. andere basismaterialen met een gemiddelde deeltjesgrootte kleiner dan of gelijk aan 5 terwijl niet meer dan 10 % van de deeltjes groter is dan 10 μm; of

3. met alle volgende eigenschappen:

3. a.

plaatjes waarvan de verhouding tussen lengte en dikte groter is dan 5;

whiskers waarvan de verhouding tussen lengte en diameter groter is dan 10, bij een diameter kleiner dan 2 μm; en

continu of stapelvezels met een diameter kleiner dan 10 μm;

2. keramische materialen, niet zijnde composieten, samengesteld uit de materialen bedoeld in 1E002.c.1.; Noot: 1E002.c.2. heeft geen betrekking op de technologie voor het ontwerpen of vervaardigen van slijpmiddelen.

technologie voor de productie van aromatische polyamidevezels;

1E002 technologie voor het installeren, onderhouden en repareren van materialen, bedoeld in 1C001;

technologie voor het repareren van composieten, laminaten of materialen, bedoeld in 1A002, 1C007.c. of 1C007.d. Noot: 1E002.f. heeft geen betrekking op technologie voor de reparatie van casco’s van civiele vliegtuigen met koolstof-stapel- of continuvezelmateriaal en epoxyharsen, die is vermeld in de handleidingen van de vliegtuigfabrikant.

g. Technische noot:

bibliotheekprogramma’s (parametrische technische gegevensbestanden), speciaal ontworpen of aangepast om apparatuur de mogelijkheid te bieden de functies uit te oefenen van apparatuur bedoeld in 1A004.c. of 1A004.d. Voor de toepassing van 1E002.g. wordt onder bibliotheekprogramma’s (parametrische technische gegevensbestanden) verstaan een verzameling technische gegevens, welker raadpleging de prestaties van relevante apparatuur of systemen kan verhogen.

CATEGORIE 2 MATERIAALBEWERKING

2A Technische noot:

Systemen, Apparatuur en Onderdelen N.B.: Voor stillopende rollagers, zie de lijst van militaire goederen. 2A001 Wrijvingsloze rollagers of rollagersystemen, als hieronder, en onderdelen daarvan: N.B.: ZIE OOK 2A101 Noot: 2A001 heeft geen betrekking op kogels met toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens klasse 5 ISO-norm 3290 of slechter. 2A101 Andere dan onder 2A001 vermelde radiale kogellagers, met alle toleranties volgens ISO 492 tolerantieklasse 2 (of ANSI/ABMA Std 20 tolerantieklasse ABEC-9 of RBEC 9, of andere nationale equivalenten), of beter en met alle hierna volgende eigenschappen: 2A225 Kroezen vervaardigd van metalen die bestand zijn tegen vloeibare actinidemetalen, als hieronder: 2A226 Afsluiters met alle volgende eigenschappen: Voor afsluiters met verschillende inlaat- en uitlaatopeningen heeft de in 2A226 bedoelde nominale afmeting betrekking op de kleinste diameter.

2A a.

kogellagers of lagers met rollers uit één stuk, met alle toleranties volgens opgave van de fabrikant volgens ISO-norm 492, tolerantieklasse 4 (of nationale equivalenten), of beter, en met zowel ringen als rolelementen (ISO 5593), gemaakt van monel of beryllium; Noot: 2A001.a. heeft geen betrekking op kegelvormige rollagers.

2A001 niet gebruikt;

actieve magnetische lagersystemen waarbij gebruik wordt gemaakt van:

1. materialen met fluxdichtheden van 2,0 T of groter en een vloeigrens van meer dan 414 MPa;

2. volledig elektromagnetische 3D-homopolaire instelstroom - ontwerpen voor aandrijvers; of

3. positiesensoren voor gebruik bij hoge temperaturen (450 K (177 °C) en hoger).

een diameter boorgat binnenring tussen 12 en 50 mm;

een buitendiameter buitenring tussen 25 en 100 mm; en

een dikte tussen 10 en 20 mm.

kroezen met beide hiernavolgende eigenschappen:

1. een inhoud van 150 cm3 tot 8000 cm3; en

2. vervaardigd van of bekleed met een van de onderstaande materialen, of een combinatie van de onderstaande materialen, met een gehalte aan onzuiverheden van 2 gewichtspercenten of minder:

2. a.

calciumfluoride (CaF2);

calciumzirkonaat (metazirkonaat) (CaZrO3);

ceriumsulfide (Ce2S3);

erbiumoxide (Er2O3);

hafniumoxide (HfO2);

magnesiumoxide (MgO);

legering van genitrideerd niobium-titaan-wolfraam (ca. 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W);

ytttriumoxide (yttria) (Y2O3); of

zirkoniumoxide (ZrO2);

kroezen met beide hiernavolgende eigenschappen:

1. een inhoud van 50 cm3 tot 2000 cm3; en

2. vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 99,9 gewichtspercenten of hoger;

kroezen met alle hiernavolgende eigenschappen:

1. een inhoud van 50 cm3 tot 2000 cm3;

2. vervaardigd van of gevoerd met tantaal, met een zuiverheid van 98 gewichtspercenten of hoger; en

3. bekleed met tantaalcarbide, -nitride of -boride of ongeacht welke combinatie hiervan.

een nominale afmeting van 5 mm of groter;

met balgafdichting; en

geheel vervaardigd van of gevoerd met aluminium, aluminiumlegering, nikkel of een nikkellegering die 60 gewichtspercenten of meer nikkel bevat.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2.

Test-, inspectie- en productieapparatuur Parallelle hulpcontourassen, bijvoorbeeld de w-as op horizontale kotterbanken of een tweede roterende hulpas waarvan de hartlijn parallel loopt met de roterende hoofdas, worden niet bij het totale aantal contourassen gerekend. Roterende assen hoeven niet over 360° draaibaar te zijn. Een roterende as kan worden aangedreven door een lineair mechanisme (bijvoorbeeld een draadspil of een tandheugel met rondsel). Voor de toepassing van 2 B is het aantal assen dat gelijktijdig kan samenwerken voor contourbesturen het aantal assen waarlangs of waarrond tijdens de bewerking van het werkstuk gelijktijdige en samenhangende bewegingen worden verricht tussen het werkstuk en een gereedschap. Dit omvat niet eventuele extra assen waarlangs of waarrond andere relatieve bewegingen in de machine worden verricht zoals: De benaming van de assen dient in overeenstemming te zijn met de internationale norm ISO 841 - Machines met numerieke besturing - benamingen van assen en bewegingen. Voor de toepassing van 2B001 tot en met 2B009 wordt een kantelspil beschouwd als een roterende as. Een aangegeven instelnauwkeurigheid op grond van metingen overeenkomstig norm ISO 230/2 of nationale equivalenten mag voor elk model werktuigmachine worden gebruikt als alternatief voor individuele machinetests. Aangegeven instelnauwkeurigheid betekent de nauwkeurigheidswaarde die wordt meegedeeld aan de bevoegde autoriteiten van de lidstaat waarin de exporteur is gevestigd als representatieve waarde voor de nauwkeurigheid van een specifiek machinemodel. Bepaling van de aangegeven instelnauwkeurigheid Voor de toepassing van 2B001.a. tot en met 2B001.c. wordt de meetonzekerheid voor de instelnauwkeurigheid van werktuigmachines zoals bepaald in de Internationale Norm ISO 230/2 (2006) of nationale equivalenten, niet in aanmerking genomen. 2B001 Werktuigmachines en combinaties daarvan, voor het verspanen (of snijden) van metalen, keramische materialen of composieten, die volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor numerieke besturing, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 2B201 Noot 1: 2B001 heeft geen betrekking op werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van tandwielen. Zie voor dergelijke machines 2B003. Noot 2: 2B001 heeft geen betrekking op werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen: Noot 3: Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001a., b., of.c. worden beoordeeld. N.B.: Voor werktuigmachines voor optische afwerking, zie 2B002. 2B002 Numeriek bestuurde werktuigmachines voor optische afwerking, die zijn uitgerust voor selectieve materiaalverwijdering met het oog op de productie van niet-sferische optische oppervlakken, met alle volgende eigenschappen: Voor de toepassing van 2B002 is: 2B003 Numeriek bestuurde en handgestuurde werktuigmachines en speciaal ontworpen onderdelen, regelapparatuur en toebehoren daarvoor, speciaal ontworpen voor het snijden, afwerken, slijpen of wetten van geharde (Rc = 40 of meer) rechte, schroef- en dubbelgeschroefde tandwielen met een steekdiameter groter dan 1250 mm en een kopbreedte gelijk aan of groter dan 15 % van de steekdiameter, afgewerkt tot een kwaliteit gelijk aan of beter dan AGMA 14 (gelijkwaardig aan ISO norm 1328, klasse 3). 2B004 Hete isostatische persen, met alle hieronder vermelde eigenschappen, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor: N.B.: ZIE OOK 2B104 EN 2B204 De binnenmaat betreft de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komt en omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt. N.B.: Voor speciaal ontworpen matrijzen, mallen en gereedschappen, zie 1B003, 9B009 en de lijst van militaire goederen. 2B005 Speciaal ontworpen apparatuur voor de afzetting, verwerking en procesbesturing van anorganische deklagen, bekledingen en oppervlakmodificaties, als hieronder, voor niet elektronische substraten door middel van de in de tabel en bijbehorende noten na 2E003.f. omschreven procedés en speciaal daarvoor ontworpen geautomatiseerde onderdelen voor de hantering, positionering, manipulatie en besturing: Noot: 2B005 heeft geen betrekking op apparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase, voor boogverdamping, sputteren, ‹ion-plating›, of ionenimplantatie die speciaal is ontworpen voor snij- of werktuigmachines. 2B006 Tweedimensionele maatinspectie- en meetsystemen, meetapparatuur en samenstellingen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 2B206. Noot: 2B006 omvat andere dan onder 2B001 omschreven werktuigmachines die als meettoestel kunnen worden gebruikt indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter dan de criteria neergelegd voor de meettoestelfunctie. 2B007 Robots, met een of meer van de hieronder vermelde eigenschappen, en speciaal ontworpen besturingsapparatuur en eindeffectoren daarvoor: N.B.: ZIE OOK 2B207. 2B008 Samenstellingen of eenheden, speciaal ontworpen voor werktuigmachines, maatinspectie- of meetsystemen of apparatuur, als hieronder: Noot: 2B008.a en 2B008.b besturingseenheden die zijn ontworpen om plaatsbepalingsinformatie voor een teruggekoppelingsbesturing te bepalen, bv. van het inductieve type, gekalibreerde schalen, infraroodsystemen of laser-systemen. 2B009 Forceer-(spin-forming) of vloei-(flow-forming) draaibanken, die, volgens de technische specificatie van fabrikant, kunnen worden uitgerust met numerieke besturings-eenheden of computerbesturing, en die beide volgende eigenschappen bezitten: N.B.: ZIE OOK 2B109 EN 2B209. Voor de toepassing van 2B009 worden machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, beschouwd als vloeidraaibanken. 2B104 Isostatische persen, anders dan bedoeld in 2B004, met alle volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK 2B204. 2B105 Ovens voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD), anders dan bedoeld in 2B005.a, ontworpen of aangepast voor het verdichten van koolstof-koolstofcomposieten. 2B109 Vloeidraaibanken (‹flow-forming machines›) die niet onder 2B009 vallen, en speciaal ontworpen onderdelen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 2B209. Noot: 2B109 heeft geen betrekking op machines die niet kunnen worden gebruikt voor de productie van onderdelen en uitrusting (bv. motorhuizen) voor voortstuwingssystemen als bedoeld in 9A005, 9A007.a. of 9A105.a. Voor de toepassing van 2B109 worden machines die de functies van forceren en vloeidraaien combineren, beschouwd als vloeidraaibanken. 2B116 Systemen en apparatuur voor het beproeven door middel van trillingen en componenten daarvoor, als hieronder: In 2B116 betekent onbelaste tafel een vlakke tafel of een vlak oppervlak, zonder klemmen of hulpstukken. 2B117 Apparatuur en procesregeleenheden, met uitzondering van die bedoeld in 2B004, 2B005.a, 2B104 of 2B105, ontworpen of aangepast voor de verdichting en pyrolyse van composiet raketstraalpijpen en neuskegels voor terugkeervoertuigen (‹reentry›). 2B119 Balanceermachines en aanverwante uitrusting, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 2B219. 2B120 Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels die alle navolgende eigenschappen hebben: Noot 1: 2B120 heeft geen betrekking op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of voor medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008. Noot 2: Bewegingssimulatoren of kwalificatietafels als bedoeld in 2B120 blijven onder de regeling vallen, ongeacht of de sleepringen dan wel de geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen worden aangebracht op het ogenblik van uitvoer. 2B121 Andere dan de in 2B120 aangegeven insteltafels (apparatuur, geschikt voor precieze roterende instelling in elke as), die alle navolgende eigenschappen hebben: Noot: 2B121 heeft geen betrekking op draaitafels die zijn ontworpen of aangepast voor werktuigmachines of medische uitrusting. Voor de controle op draaitafels voor werktuigmachines, zie 2B008. 2B122 Centrifuges die versnellingen van meer dan 100 g kunnen overbrengen en die ontworpen of aangepast zijn om sleepringen of geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen te bevatten die geschikt zijn om elektrisch vermogen, signaalinformatie dan wel beiden, over te brengen. Noot: Centrifuges als bedoeld in 2B122 blijven onder de regeling vallen, ongeacht of de sleepringen dan wel de geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen worden aangebracht op het ogenblik van uitvoer. 2B201 Werktuigmachines en iedere andere combinatie daarvan, anders dan bedoeld in 2B001, voor het verspanen of snijden van metalen, keramische materialen of composieten, die volgens de technische specificaties van de fabrikant kunnen worden uitgerust met elektronische toestellen voor gelijktijdig contourbesturen in twee of meer assen: Noot 1: 2B201 heeft geen betrekking op werktuigmachines voor speciale toepassingen die alleen dienen voor het vervaardigen van een van de volgende onderdelen: Noot 2: Werktuigmachines met ten minste twee van de drie volgende gebruiksmogelijkheden: draaien, frezen of slijpen (bv. een machine voor draaien waarmee ook kan worden gefreesd) moeten op basis van iedere toepasselijke rubriek 2B001.a. of 2B201.a. of b. worden beoordeeld. 2B204 Isostatische persen, anders dan die bedoeld in 2B004 of 2B104 en bijbehorende apparatuur, als hieronder: In 2B204 betreft de binnenmaat de kamer waarin zowel de werktemperatuur als de werkdruk tot stand komen en zij omvat geen spanstukken. Deze maat is gelijk aan de kleinste van ofwel de binnendiameter van de drukkamer ofwel de binnendiameter van de geïsoleerde ovenkamer, afhankelijk van het feit welke van de twee kamers zich in de andere bevindt. 2B206 Niet onder 2B006 opgenomen meetmachines, -instrumenten of -systemen, als hieronder: Noot 1: Werktuigmachines, geschikt voor gebruik als meettoestel, worden bedoeld indien hun prestaties gelijk zijn aan of beter zijn dan de criteria neergelegd voor de werktuigmachinefunctie of de meettoestelfunctie. Noot 2: Indien een machine als omschreven in 2B206 op enig punt in haar werkbereik de limieten overschrijdt, wordt de machine bedoeld. Alle parameters van meetwaarden in 2B206 vertegenwoordigen plus/minus-waarden, niet het totale meetbereik. 2B207 Robots, eindeffectoren en besturingseenheden, anders dan bedoeld in 2B007, als hieronder: 2B209 Vloei (‹flow-forming›)draaibanken, forceer(‹spin-forming›)draaibanken die vloei-draaifuncties kunnen verrichten, anders dan bedoeld in 2B009 of 2B109, en spillen, als hieronder: Noot: 2B209.a. omvat machines die slechts één enkele rol hebben die ontworpen is om metaal te vervormen, plus twee hulprollen ter ondersteuning van de spil, die echter niet rechtstreeks deelnemen aan het vervormingsproces. 2B219 Centrifugale balanceermachines voor het uitbalanceren in verscheidene vlakken, vast of draagbaar, horizontaal of verticaal, als hieronder: 2B225 Op afstand bediende manipulatoren die kunnen worden aangewend voor het doen verrichten van handelingen op afstand bij radiochemische scheidingswerkingen of in hete cellen, met een van de volgende eigenschappen: Op afstand bediende manipulatoren zorgen voor het mechanisch overbrengen van handelingen van een bediener naar een bedieningsarm en eindklem. Deze kunnen van het meester/slaaf-type zijn of worden bediend via een joystick of een toetsenbord. 2B226 Inductieovens, werkend met beheerste atmosfeer (vacuüm of inert gas) en stroombronnen daarvoor, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 3B. Noot: 2B226.a heeft geen betrekking op ovens, ontworpen voor het bewerken van halfgeleiderplakken (wafers). 2B227 Metallurgische smelt- en gietovens met vacuüm of op een andere wijze beheerste atmosfeer en bijbehorende apparatuur, als hieronder: 2B228 Apparatuur voor de vervaardiging of assemblage van rotoren, rotorrichtapparatuur, en matrijzen voor het vormen van balgen, als hieronder: 2B230 Alle soorten drukomzetters geschikt voor het meten van de absolute druk en met alle volgende eigenschappen: In 2B230 wordt onder drukomzetter verstaan een toestel dat een drukmeting omzet in een signaal. Voor de toepassing van 2B30 houdt nauwkeurigheid in non-lineariteit, hysteresis en herhaalbaarheid bij omgevingstemperatuur. 2B231 Vacuümpompen met alle volgende eigenschappen: De pompsnelheid wordt bepaald op het meetpunt met stikstofgas of lucht. De maximale onderdruk wordt berekend aan de invoerzijde van de pomp terwijl de invoer van de pomp is afgesloten. 2B232 Kanonsystemen voor hoge snelheden (spoel-, elektromagnetische en thermoelektrische types en andere geavanceerde systemen) die projectielen kunnen versnellen tot een snelheid van 1,5 km/s of meer. N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. 2B233 Compressoren met balgafdichting van het scroll-type en vacuümpompen met balgafdichting van het scroll-type met alle volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK 2B350.i. 2B350 Chemische productieapparatuur en onderdelen daarvan, als hieronder: Noot: Voor de toepassing van 2B350 zijn de materialen voor pakkingen, verpakking, afdichtingen, pakkingen, schroeven, sluitringen en andere materialen die een afdichtingsfunctie vervullen niet bepalend zijn voor de embargostatus, op voorwaarde dat deze elementen zijn ontworpen om verwisselbaar te zijn. Koolstofgrafiet is een composiet bestaande uit amorf koolstof en grafiet, met 8 of meer gewichtspercenten grafiet. Voor de hierboven opgesomde materialen wordt onder legeringen - voor zover de term niet vergezeld gaat van een specifieke concentratie van een chemisch element - verstaan legeringen waarin het geïdentificeerde metaal in een hoger gewichtspercent dan enig ander element aanwezig is. 2B351 Andere dan in 1A004 bedoelde controleapparatuur voor giftige gassen en de speciaal daarvoor ontworpen detectieonderdelen ervan, als hieronder, en detectoren; sensoren; en vervangbare sensorpatronen daarvoor: 2B352 Uitrusting, geschikt voor het manipuleren van biologische stoffen, als hieronder:

2B Technische noten: 1.2. a.

steenrechtsystemen in slijpmachines;

evenwijdige roterende assen om afzonderlijke werkstukken te bevestigen;

collineaire roterende assen om hetzelfde werkstuk te bewerken door het aan verschillende kanten in een klauwplaat te klemmen.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5. a.

selecteer vijf machines van een bepaald model voor beoordeling;

meet de nauwkeurigheid van de lineaire assen overeenkomstig ISO 230/2;

bepaal de A-waarden voor elke as van elke machine. De methode voor de berekening van de A-waarde is beschreven in de ISO-norm;

bepaal de gemiddelde waarde van de A-waarde van elke as. Deze gemiddelde waarde Â wordt de aangegeven waarde van elke as van het model (Âx Ây…);

aangezien de lijst in categorie 2 verwijst naar elke lineaire as, zullen er evenveel aangegeven waarden als lineaire assen zijn;

indien een as van een niet in 2B001.a tot en met 2B001.c of 2B201 bedoeld machinemodel een vastgestelde nauwkeurigheid heeft die gelijk is aan of minder is dan de gespecificeerde instelnauwkeurigheid van elk model werktuigmachine plus 2 μm, moet de fabrikant het nauwkeurigheidsniveau elke achttien maanden opnieuw bevestigen.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. a.

krukassen of nokkenassen;

gereedschappen of frezen;

extrusiewormen;

gegraveerde of geslepen delen van juwelen; of

tandprothesen.

werktuigmachines voor draaien met de volgende eigenschappen: Noot: 2B001.a. heeft geen betrekking op machines voor draaien die speciaal zijn ontworpen voor de productie van contactlenzen, met de volgende eigenschappen:

1. een instelnauwkeurigheid, inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 3,0 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (2006) of nationale equivalenten langs eender welke lineaire as; en

2. twee of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen;

a.

de besturing van de machine is beperkt tot het gebruik van programmatuur op het gebied van oogheelkunde voor de gegevensinvoer van de werkstukprogramma’s; en

b.

er is geen vacuümspaninrichting.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. met alle volgende eigenschappen:

1. a.

een instelnauwkeurigheid, inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 3,0 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (2006) of nationale equivalenten langs eender welke lineaire as; en

drie lineaire assen plus één roterende as die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen;

2. vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen en met een of meer van de volgende eigenschappen: N.B.: werktuigmachines met een parallel mechanisme worden gespecificeerd in 2B001.b.2.d.

2. a.

een instelnauwkeurigheid inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,0 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (2006) of nationale equivalenten langs een of meer lineaire as(sen) met een reislengte van minder dan 1 m;

2B001 b. 2. een instelnauwkeurigheid inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4,5 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (2006) of nationale equivalenten langs een of meer lineaire as(sen) met een reislengte gelijk aan of groter dan 1 m en minder dan 2 m;

een instelnauwkeurigheid inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4,5 + 7(L-2) μm (L is de reislengte in meters) overeenkomstig ISO-norm 230/2 (2006) of nationale equivalenten langs een of meer lineaire as(sen) met een reislengte gelijk aan of groter dan 2 m; of

d. Technische noot:

zijnde een werktuigmachine met een parallel mechanisme ‹parallel mechanism machine tool›; Een werktuigmachine met een parallel mechanisme is een werktuigmachine met meerdere staven die zijn gekoppeld aan een platform en aandrijvers; de afzonderlijke aandrijvers besturen de respectieve staven tegelijkertijd en onafhankelijk.

3. een instelnauwkeurigheid voor pasmal-boormachines, inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,0 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (2006) of nationale equivalenten langs elke lineaire as; of

4. gebruikmaken van een slagmes (‹fly cutters›) met alle volgende eigenschappen:

4. a.

een rondloopnauwkeurigheid (‹run out›) en axiale slag van de spil kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,0004 mm totale meetklokuitslag (TIR); en

een hoekafwijking van de sledebeweging langs een asslag van 300 mm (gieren, stampen of slingeren) kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 2 boogseconden totale meetklokuitslag (TIR);

werktuigmachines voor slijpen met een of meer van de volgende eigenschappen: Noot: 2B001.c. heeft geen betrekking op slijpmachines als hieronder:

1. met alle volgende eigenschappen:

1. a.

drie of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen; of

2. vijf of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen;

a.

uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende eigenschappen:

1. beperkt tot rondslijpen; en

2. een maximale buitendiameter of -lengte van het werkstuk van 150 mm;

b.

Machines die speciaal zijn ontworpen als pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een instelnauwkeurigheid inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 3,0 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (2006) of nationale equivalenten.

c.

vlakslijpers.

vonkmachines (EDM’s) van het draadloze type met twee of meer roterende assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen;

2B001 werktuigmachines voor het verspanen van metalen, keramische materialen of composieten, met de volgende eigenschappen:

1. verspanen van materiaal met één of meer van de volgende middelen:

1. a.

waterstraal of andere vloeistofstraal, met inbegrip van die met slijpmiddeltoevoegingen;

een elektronenbundel; of

een laser-straal; en

2. ten minste twee roterende assen met alle volgende eigenschappen:

2. a.

gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturing; en

een instelnauwkeurigheid kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,003°;

langgatboormachines of machines voor draaien die zijn aangepast voor langgatboren, met een maximum boordiepte van meer dan 5 m, alsmede speciaal daarvoor ontworpen onderdelen.

afwerking van de vorm tot op minder (d.w.z. beter) dan 1,0 μm nauwkeurig;

afwerking tot een ruwheid van minder (d.w.z. beter) dan 100 nm rms.

vier of meer assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen; en

die een of meer van de navolgende procedés gebruiken:

1. magnetorheologisch afwerkingsprocedé (MRF);

2. elektrorheologisch afwerkingsprocedé (ERF);

3. afwerking met behulp van een energetische deeltjesbundel;

4. afwerking met behulp van een opblaasbaar membraan, of

5. afwerking met behulp van een vloeistofstraal.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten:

1. MRF een materiaalverwijderingsprocedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een abrasieve magnetische vloeistof waarvan de viscositeit via een magnetisch veld wordt gecontroleerd.

2. ERF is een verwijderingsprocedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een abrasieve vloeistof waarvan de viscositeit via een elektrisch veld wordt gecontroleerd.

3. Bij afwerking met behulp van een energetische deeltjesbundel wordt gebruikgemaakt van Reactive Atom Plasma-technologie (RAP)(reactief atomair plasma) of ionenbundels om op selectieve manier materiaal te verwijderen.

4. Afwerking met behulp van een opblaasbaar membraan is een procedé waarbij gebruik wordt gemaakt van een onder druk gezet membraan dat aldus wordt vervormd zodat het in contact komt met een klein oppervlak van het werkstuk.

5. Bij afwerking met behulp van een vloeistofstraal wordt voor de materiaalverwijdering gebruikgemaakt van een vloeistofstroom.

met de mogelijkheid de temperatuur in de afgesloten ruimte te beheersen, terwijl de drukkamerholte een binnendiameter heeft van 406 mm of meer, en

met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. een maximaal mogelijke werkdruk groter dan 207 MPa;

2. een gecontroleerde thermische omgeving van meer dan 1773 K (1500 °C); of

3. de mogelijkheid van impregnering met koolwaterstoffen en verwijdering van de overblijvende gasvormige afvalproducten.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: a.

Productieapparatuur voor chemische afzetting uit de dampfase (CVD) met alle onderstaande mogelijkheden: N.B.: ZIE OOK 2B105.

1. een aangepast procedé voor een van onderstaande technieken:

1. a.

pulserende CVD;

thermische afzetting met beheerste nucleatie (CNTD); of

met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD; en

2. met een of meer van de volgende eigenschappen:

2. a.

omvat roterende afdichtingen voor hoog-vacuüm (minder dan of gelijk aan 0,01Pa), of

omvat in-situregulering van de dikte van de bekledingslaag;

Productieapparatuur voor ionenimplantatie met een bundelstroomsterkte van 5 mA of hoger;

Productieapparatuur voor elektronenstraalverdampen (EB-PVD) welke een voedingssysteem gespecificeerd voor meer dan 80 kW omvat, met een van de volgende eigenschappen:

1. een laserbesturingssysteem dat door middel van het vloeistofniveau de toevoersnelheid van de ingot nauwkeurig reguleert; of

2. een computergestuurde, volgens het principe van de fotoluminescentie van de geïoniseerde atomen in de dampstroom werkende monitor die de mate van afzetting van een uit twee of meer elementen bestaande bekledingslaag reguleert;

2B005 Productieapparatuur voor plasmaspuiten met een van de volgende eigenschappen:

1. werkend bij een beheerste verlaagde druk (minder dan of gelijk aan 10 kPa, gemeten binnen een afstand van 300 mm boven de opening van het spuitpistool) in een vacuümkamer geschikt voor het bereiken van een druk van 0,01 Pa voorafgaande aan het spuitproces; of

2. omvat in-situregulering van de dikte van de bekledingslaag;

Productieapparatuur voor sputteren, geschikt voor een stroomdichtheid van 0,1 mA/mm2 of hoger bij een afzettingssnelheid van 15 μm/h of meer;

Productieapparatuur voor boogverdampen welke een net van gekoppelde elektromagneten omvat voor de besturing van de punt van de boogontlading op de kathode;

productieapparatuur voor ‹ion-plating› voor het in situ meten van ofwel:

1. de dikte van de bekledingslaag op het substraat en beheersing van de snelheid van afzetting; of

2. optische eigenschappen.

a. Technische noot:

computergestuurde of numeriek bestuurde coördinatenmeetmachines (CMM), met een driedimensionale (volumetrische) maximaal toelaatbare lengtemeetfout (E0,MPE) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte) gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/1000) μm (L is de gemeten lengte in mm), overeenkomstig ISO-norm 10360-2 (2009); De E0,MPE van de door de fabrikant opgegeven meest accurate configuratie van de CMM (bv. beste van de volgende: tastkop, lengte tastnaald, bewegingsparameters, omgeving) en inclusief alle compensaties moet worden vergeleken met de drempel van 1,7+L/1000 μm.

meetinstrumenten voor lineaire en hoekverplaatsingen, als hieronder:

1. Technische noot:

meetinstrumenten voor lineaire verplaatsingen met een of meer van de volgende eigenschappen: Noot: laser-interferometers voor het meten van verplaatsingen vallen uitsluitend onder 2B006.b.1.c. In punt 2B006.b.1. moet onder lineaire verplaatsing worden verstaan de verandering van de afstand tussen de meetpen en het gemeten voorwerp. Noot: 2B006.b.1. heeft geen betrekking op interferometermeetsystemen met een automatisch controlesysteem dat ontworpen is om geen terugkoppeltechnieken te gebruiken, die een laser bevatten voor het meten van fouten in de sledebeweging van machinewerktuigen, meetmachines of dergelijke apparatuur.

meetsystemen van het contactloze type met een resolutie gelijk aan of kleiner (beter) dan 0,2 μm binnen een meetgebied tot en met 0,2 mm;

b. Technische noot:

2B006 b. 1. lineaire variabele verschilomzetters (Linear Variable Differential Transformers of LVDT) met beide volgende eigenschappen: In punt 2B006.b.1.b. is een volledig werkgebied de helft van de totale mogelijke lineaire verplaatsing van de LVDT. LVDT’s met een volledig werkgebied tot en met ± 5 mm kunnen bijvoorbeeld een totale mogelijke lineaire verplaatsing van 10 mm hebben.

1. met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. a.

Lineariteit gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % gemeten van 0 tot het volledige werkgebied, voor LVDT’s met een volledig werkgebied tot en met ± 5 mm; of

Lineariteit gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % gemeten van 0 tot 5 mm voor LVDT’s met een volledig werkgebied groter dan ± 5 mm; en

2. verloop gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,1 % per dag bij een standaardomgevingstemperatuur in de testruimte ± 1 K;

meetsystemen met alle volgende eigenschappen:

1. zij bevatten een laser; en

2. zij handhaven, bij een temperatuur van 20 ± 1 °C, gedurende ten minste 12 uur:

2. a.

een resolutie over hun volledige schaal van 0,1 μm of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger); en

het vermogen om een meetonzekerheid te bereiken die gelijk is aan of minder bedraagt (d.w.z. nauwkeuriger is) dan 0,2 + L/2000) μm (L is de gemeten lengte in mm) op ieder punt in een meetgebied, gecompenseerd voor de refractieve luchtindex; of

samenstellingen speciaal ontworpen om in systemen als bedoeld in 2B006.b.1.c. terugkoppelcapaciteit te leveren;

2. meetinstrumenten voor hoekverplaatsingen met een nauwkeurigheid gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,00025°; Noot: 2B006.b.2. heeft geen betrekking op optische instrumenten, zoals autocollimatoren, die gebruikmaken van gecollimeerd licht (bv. laserlicht) voor de bepaling van hoekverplaatsingen van een spiegel.

apparatuur voor het meten van oppervlakteruwheid (met inbegrip van oppervlakteonvolkomenheden) met een gevoeligheid van 0,5 nm of minder (d.w.z. nauwkeuriger) door het meten van optische verstrooiing.

a. Technische noot:

geschikt voor onvertraagde (‹in real time›), volledig driedimensionale beeldverwerking of volledig driedimensionale beeldanalyse voor het maken of wijzigen van programma’s of voor het maken of wijzigen van numerieke programmagegevens; Deze beperking van de beeldanalyse sluit een bepaling van de derde dimensie door middel van beschouwing vanuit een vaste hoek niet uit, noch een beperkte interpretatie van grijstinten voor de waarneming van diepte of structuur voor de toegestane taken (2 1/2 D).

2B007 speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen voor gebruik in ruimten met mogelijk explosieve munitie; Noot: 2B007.b. heeft geen betrekking op robots, die speciaal zijn ontworpen voor verfspuitcabines.

c. Technische noot:

speciaal ontworpen of gekwalificeerd als bestand zijnde tegen een totale stralingsdosis van een stralingsniveau hoger dan 5 × 103 Gray (silicium) zonder verslechtering van de werking; of De term Gy(silicium) verwijst naar de energie in Joule per kilogram die wordt geabsorbeerd door een onbeschermde hoeveelheid silicium bij blootstelling aan ioniserende straling.

speciaal ontworpen voor gebruik op een hoogte van meer dan 30000 m.

lineaire plaatsbepalers die een totale nauwkeurigheid hebben kleiner (dwz. nauwkeuriger) dan (800 + (600 × L/1000)) nm (waarbij L de effectieve lengte is in mm); N.B.: Voor laser-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.1.c. en d.

roterende plaatsbepalers die een nauwkeurigheid hebben kleiner (dwz. nauwkeuriger) dan 0,00025°; N.B.: Voor laser-systemen, zie ook noot bij 2B006.b.2.

samengestelde draaitafels of kantelspillen die volgens de technische specificaties van de fabrikant de mogelijkheden van werktuigmachines kunnen vergroten tot aan of boven de niveaus bedoeld in 2B.

drie of meer bestuurde assen waarvan er minstens twee gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen; en

een walskracht van meer dan 60 kN.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: a.

een maximale werkdruk van 69 MPa of meer;

ontworpen om een beheerste temperatuur van 873 K (600 °C) of meer te handhaven; en

met een binnenkamerdiameter van 254 mm of meer.

vloeidraaibanken die de volgende eigenschappen bezitten:

1. volgens de technische specificatie van de fabrikant kunnen zij worden uitgerust met numerieke besturings-eenheden of met een computerbesturing, ook indien zij bij aflevering niet met dergelijke eenheden zijn uitgerust, en

2. meer dan twee assen die gelijktijdig kunnen samenwerken voor contourbesturen.

speciaal ontworpen onderdelen van in 2B009 of 2B109.a. bedoelde vloeidraaibanken.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.

systemen voor het beproeven door middel van trillingen, waarbij gebruik wordt gemaakt van terugkoppel- of gesloten-kringtechnieken en welke een digitale besturing bevatten, die geschikt zijn om een systeem te laten trillen met een versnelling gelijk aan of groter dan 10 g RMS (eff.) tussen 20 Hz en 2 kHz en die krachten gelijk aan of groter dan 50 kN, met onbelaste tafel gemeten, kunnen overbrengen;

b. Technische noot:

digitale besturingseenheden, in combinatie met speciaal ontworpen programmatuur voor het testen door middel van trillingen, met een real-time-regelbandbreedte van meer dan 5 kHz en ontworpen voor gebruik met de systemen, bedoeld in 2B116.a; In 2B116.b. wordt onder real-time-regelbandbreedte verstaan de maximumsnelheid waarmee een besturingseenheid een volledige cyclus van bemonstering, gegevensverwerking en verzending van controlesignalen kan uitvoeren.

trillingsopwekkers, met of zonder bijbehorende versterkers, geschikt om een kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met onbelaste tafel gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a.;

beproevingsopstellingen en elektronische eenheden ontworpen om verscheidene trillingsopwekkers in een geheel trillingssysteem te combineren, geschikt om een totale effectieve kracht gelijk aan of groter dan 50 kN uit te oefenen, met een onbelaste tafel gemeten, en geschikt voor de systemen, bedoeld in 2B116.a.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a.

balanceermachines die alle navolgende eigenschappen bezitten: Noot: 2B119.a. heeft geen betrekking op balanceermachines die ontworpen of aangepast zijn voor tandheelkundige of andere medische uitrusting.

1. niet geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen met een gewicht van meer dan 3 kg;

2. geschikt voor het uitbalanceren van rotors/samenstellingen bij een omwentelingssnelheid hoger dan 12500 t.p.m.;

3. 2B119 a. geschikt voor het corrigeren van onbalans in twee of meer vlakken; en

4. geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende specifieke onbalans van 0,2 g mm per kg rotorgewicht;

b. Technische noot:

indicatorkoppen die zijn ontworpen of aangepast voor gebruik met de in 2B119.a. aangegeven machines. Indicatorkoppen worden soms ook balanceerinstrumenten genoemd.

twee of meer assen;

ontworpen of aangepast om sleepringen of geïntegreerde onderbrekingsvoorzieningen te bevatten die geschikt zijn om elektrisch vermogen, signaalinformatie dan wel beiden, over te brengen; en

met een van de volgende eigenschappen:

1. voor elke aparte as alle navolgende eigenschappen hebben:

1. a.

geschikt voor kwalificaties van 400 graden/s of meer, of 30 graden/s of minder; en

een kwalificatieresolutie gelijk aan of minder dan 6 graden/s en een nauwkeurigheid gelijk aan of minder dan 0,6 graden/s;

2. met een kwalificatiestabiliteit in het slechtste geval gelijk aan of beter (minder) dan een gemiddelde afwijking van 0,05 % over ten minste 10 graden; of

3. een instelnauwkeurigheid gelijk aan of minder (beter) dan 5 boogseconden.

twee of meer assen; en

een instelnauwkeurigheid gelijk aan of minder (beter) dan 5 boogseconden.

werktuigmachines voor frezen met een of meer van de volgende eigenschappen: Noot: 2B201.a. heeft geen betrekking op werktuigmachines voor frezen met de volgende eigenschappen:

1. een instelnauwkeurigheid, inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 6 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) of nationale equivalenten langs eender welke lineaire as; of

2. twee of meer roterende contourassen;

a.

axiale verplaatsing langs de x-as groter dan 2 m; en

b.

totale instelnauwkeurigheid langs de x-as groter (slechter) dan 30 μm.

werktuigmachines voor slijpen, met een van de volgende eigenschappen: Noot: 2B201.b. heeft geen betrekking op de volgende werktuigmachines voor slijpen:

1. een instelnauwkeurigheid, inclusief alle compensaties, die gelijk is aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) of nationale equivalenten langs eender welke lineaire as; of

2. twee of meer roterende contourassen.

a.

uitwendige, inwendige en uitwendig-inwendige rondslijpmachines met de volgende eigenschappen:

1. beperkt tot een maximale buitendiameter of lengte van het werkstuk van 150 mm; en

2. assen beperkt tot x, z en c;

b.

Pasmal-slijpmachines zonder z-as of w-as, met een totale instelnauwkeurigheid die kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) is dan 4 μm overeenkomstig ISO-norm 230/2 (1988) of nationale equivalenten.

tandwielen;

krukassen of nokkenassen;

gereedschappen of frezen;

extrusiewormen.

isostatische persen met beide volgende eigenschappen:

1. geschikt voor een maximale werkdruk van 69 MPa of meer; en

2. met een drukkamerholte met een binnendiameter van meer dan 152 mm;

2B204 matrijzen, mallen en regelapparatuur, speciaal ontworpen voor isostatische persen, bedoeld in 2B204.a.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: a. Technische noot:

computergestuurde of numeriek bestuurde coördinatenmeetmachines met een of beide volgende eigenschappen: De E0,MPE van de volgens ISO 10360-2(2009) door de fabrikant opgegeven meest accurate configuratie van de CMM (bv. beste van de volgende: tastkop, lengte tastnaald, bewegingsparameters, omgevingen) en inclusief alle compensaties moet worden vergeleken met de drempel van 1,7 + L/800 μm.

1. slechts 2 assen en een maximaal toelaatbare lengtemeetfout langs een van de assen (eendimensionaal), geïdentificeerd als een combinatie van E0x,MPE, E0y,MPE, of E0z,MPE, gelijk aan of kleiner (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,25 + L/1000) μm (waarbij L de gemeten lengte is in mm) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte), overeenkomstig ISO 10360-2(2009); of

2. drie of meer assen en een driedimensionale (volumetrische) maximaal toelaatbare lengtemeetfout (E0,MPE) gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan (1,7 + L/800) μm (waarbij L de gemeten lengte is in mm) op enig punt in het werkbereik van de machine (d.w.z. binnen de aslengte), volgens ISO 10360-2(2009);

systemen voor het gelijktijdig testen van lineaire en hoekverplaatsingen van halve bolmantels, met beide volgende eigenschappen:

1. meetonzekerheid langs elke lineaire as gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 3,5 μm per 5 mm; en

2. hoekafwijking gelijk aan of minder (d.w.z. nauwkeuriger) dan 0,02°.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: a.

robots of eindeffectoren, speciaal ontworpen volgens nationale veiligheidsnormen die gelden voor het hanteren van brisante springstoffen (bijvoorbeeld volgens elektrische normen voor brisante springstoffen);

besturingseenheden, speciaal ontworpen voor de in 2B207.a vermelde robots of eindeffectoren.

machines met beide volgende eigenschappen:

1. drie of meer rollen (actieve of leirollen); en

2. volgens de technische specificatie van de fabrikant uitgerust kunnen worden met numerieke besturings-eenheden of computerbesturing;

spillen voor het precisievormgeven van rotoren, ontworpen voor het vormen van cilindrische rotoren met een binnendiameter van 75 mm - 400 mm.

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van flexibele rotors met een lengte van 600 mm of meer en met alle volgende eigenschappen:

1. een nuttige of tapdiameter groter dan 75 mm;

2. geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg; en

3. geschikt voor het uitbalanceren bij een omwentelingssnelheid hoger dan 5000 t.p.m.;

centrifugale balanceermachines ontworpen voor het uitbalanceren van holle cilindrische rotoronderdelen en met alle volgende eigenschappen:

1. een tapdiameter groter dan 75 mm;

2. geschikt voor een massa van 0,9 tot 23 kg;

3. geschikt voor het uitbalanceren tot op een resterende onbalans van 0,01 kg × mm/kg per vlak of nauwkeuriger; en

4. van het type met riemaandrijving.

geschikt om te werken bij een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer (opereren door de wand heen); of

geschikt om de afstand over de bovenkant van een hete-celwand met een dikte van 0,6 m of meer te overbruggen (opereren over de wand heen).

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: a.

ovens met alle volgende eigenschappen:

1. geschikt voor werktemperaturen hoger dan 1123 K (850 °C);

2. met inductiespoelen met een diameter van 600 mm of minder; en

3. ontworpen voor een ingaand vermogen van 5 kW of meer;

speciaal voor in 2B226.a. omschreven inductieovens ontworpen stroombronnen met een opgegeven vermogen van 5 kW of meer.

vlamboogovens voor hersmelten en gieten met beide volgende eigenschappen:

1. met een verbruikscapaciteit van de elektrode tussen 1000 cm3 en 20000 cm3; en

2. geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1973 K (1700 °C);

ovens voor het smelten met elektronenstralen en ovens voor het verstuiven en smelten met een plasma met beide volgende eigenschappen:

1. een vermogen van 50 kW of meer; en

2. geschikt om te werken bij een smelttemperatuur hoger dan 1473 K (1200 °C);

computersystemen voor besturing en controle, speciaal geconfigureerd voor de in 2B227.a. en 2B227.b. bedoelde ovens.

rotorassemblageapparatuur voor de assemblage van rotorbuisdelen, schijven en deksels van gascentrifuges; Noot: 2B228.a. omvat zeer nauwkeurige spillen, klemmen en machines voor krimppassen;

b. Technische noot:

rotorrichtapparatuur voor het richten van de rotorbuisdelen van een gascentrifuge ten opzichte van een gemeenschappelijke as; Gewoonlijk bestaat de apparatuur in 2B228.b. uit zeer nauwkeurige meetsondes gekoppeld aan een computer die vervolgens de werking van bijvoorbeeld de voor het richten van de rotorbuisdelen gebruikte pneumatische plunjers bestuurt.

c. Technische noot:

balgvormende spillen en matrijzen voor de productie van balgen met een enkele winding. De in 2B228.c. bedoelde balgen hebben alle volgende eigenschappen:

1. binnendiameter van 75 mm tot 400 mm,

2. lengte van 12,7 mm of meer;

3. dikte van de enkele winding groter dan 2 mm; en

4. vervaardigd van aluminiumlegeringen met een hoge sterkte, maragingstaal of stapel- en continuvezelmateriaal met een hoge sterkte.

drukopneemelementen vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, aluminiumoxide (alumina of saffier), nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel of volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren;

eventuele afdichtingen die essentieel zijn voor het afdichten van het drukopneemelement en die rechtstreeks in contact komen met het procesmedium, vervaardigd van of beschermd door aluminium, aluminiumlegeringen, aluminiumoxide (alumina of saffier), nikkel of nikkellegeringen met meer dan 60 gewichtspercenten nikkel of volledig gefluoreerde koolwaterstofpolymeren; en

2B230 met een van de twee volgende eigenschappen:

1. een volledig bereik van minder dan 13 kPa en een nauwkeurigheid beter dan ± 1 % over het gehele bereik; of

2. een volledig bereik van 13 kPa of groter en een nauwkeurigheid beter dan ± 130 Pa wanneer wordt gemeten bij 13 kPa.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: Technische noten: 1.2. a.

een toevoerhals van 380 mm of groter;

een pompsnelheid van 15 m3/s of meer; en

geschikt voor het bereiken van een maximale onderdruk beter dan 13 mPa.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.

geschikt voor een inlaatvolumedebiet van 50 m3/uur of meer;

geschikt voor een drukverhouding van 2:1 of meer; en

alle oppervlakken die in contact komen met het procesgas is gemaakt van een van de volgende materialen:

1. aluminium of aluminiumlegering;

2. aluminiumoxide;

3. roestvast staal;

4. nikkel of nikkellegering;

5. fosforbrons; of

6. fluorpolymeren.

reactorvaten of reactors, met of zonder roerwerk, met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 liter) en minder dan 20 m3 (20000 liter), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

3. 2B350 a. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

5. tantaal of legeringen ervan;

6. titaan of legeringen ervan;

7. zirkonium of legeringen ervan, of

8. niobium (columbium) of legeringen ervan;

roerwerken ontworpen voor gebruik in reactorvaten of reactors als aangegeven in 2B350.a., en voor gebruik in dergelijke roerwerken ontworpen schoepen, bladen en assen, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

5. tantaal of legeringen ervan;

6. titaan of legeringen ervan;

7. zirkonium of legeringen ervan, of

8. niobium (columbium) of legeringen ervan;

opslagtanks en vaten met een totaal inwendig (geometrisch) volume van meer dan 0,1 m3 (100 l), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

4. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

5. tantaal of legeringen ervan;

6. titaan of legeringen ervan;

7. zirkonium of legeringen ervan, of

8. niobium (columbium) of legeringen ervan;

warmtewisselaars of condensors met een warmte-uitwisseloppervlak van meer dan 0,15 m2 en minder dan 20 m2, en voor gebruik in dergelijke warmtewisselaars of condensors ontworpen buizen, platen, spoelen of blokken (kernen), waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

4. grafiet of koolstofgrafiet;

5. 2B350 d. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

6. tantaal of legeringen ervan;

7. titaan of legeringen ervan;

8. zirkonium of legeringen ervan;

9. siliciumcarbide;

10. titaancarbide; of

11. niobium (columbium) of legeringen ervan;

distillatiekolommen of absorptiekolommen met een inwendige diameter van meer dan 0,1 m, en voor gebruik in dergelijke distillatiekolommen of absorptiekolommen ontworpen vloeistofverdelers, dampverdelers of vloeistofcollectoren, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

4. grafiet of koolstofgrafiet;

5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

6. tantaal of legeringen ervan;

7. titaan of legeringen ervan;

8. zirkonium of legeringen ervan, of

9. niobium (columbium) of legeringen ervan;

op afstand bedienbare vulapparatuur waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom; of

2. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

g. Technische noten: 1.2.

kleppen en onderdelen, als hieronder: Voor de toepassing van 2B350.g. wordt onder corrosiebestendige materialen een van de volgende materialen verstaan: Onder nominale afmeting wordt verstaan de kleinste diameter van de inlaat- en uitlaatopeningen.

1. kleppen, met beide volgende eigenschappen:

1. a.

een nominale afmeting groter dan 10 mm (3/8″); en

alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden geproduceerd, verwerkt of ingesloten, zijn gemaakt van corrosiebestendig materiaal;

2. kleppen, anders dan bedoeld in 2B350, met alle volgende eigenschappen;

2. a.

een nominale afmeting gelijk aan of groter dan 25,4 mm (1″) en gelijk aan of kleiner dan 101,6 mm (4″);

omhulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen;

een sluitingselement dat ontworpen is om verwisselbaar te zijn; en

alle oppervlakken van de omhulsels (klephuizen) of voorgevormde binnenbekledingen die in direct contact komen met de chemicaliën die worden geproduceerd, verwerkt of ingesloten, zijn gemaakt van corrosiebestendig materiaal;

3. 2B350 g. Onderdelen, ontworpen voor kleppen bedoeld in 2B350.g.1 of 2B350.g.2., waarvan alle oppervlakken die rechtstreeks in aanraking komen met de chemicaliën die worden geproduceerd, verwerkt of ingesloten, zijn gemaakt van corrosiebestendig materiaal als hieronder;

3. a.

omhulsels (afsluiters);

Voorgevormde binnenbekledingen;

g. Technische noten: 1.

a.

nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

b.

legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

c.

fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

d.

glas of glasbekleding (lining) (met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen);

e.

tantaal of tantaallegeringen;

f.

titaan of titaanlegeringen;

g.

zirkonium of zirkoniumlegeringen;

h.

niobium (columbium) of legeringen ervan; of

i.

onderstaand ceramisch materiaal:

1. siliciumcarbide met een zuiverheidsgraad van 80 gewichtspercenten of meer;

2. aluminiumoxide (alumina) met een zuiverheidsgraad van 99,9 gewichtspercenten of meer;

3. zirkoniumoxide (zirconia).

meerwandige buizen met een lektestaansluiting, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt of zijn opgeslagen, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

3. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

4. grafiet of koolstofgrafiet;

5. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

6. tantaal of legeringen ervan;

7. titaan of legeringen ervan;

8. zirkonium of legeringen ervan, of

9. niobium (columbium) of legeringen ervan;

i. Technische noot:

2B350 pompen met meervoudige afdichting en pompen zonder afdichting, met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 0,6 m3 per uur, of vacuümpompen met door de fabrikant opgegeven maximale pompsnelheid van meer dan 5 m3 per uur bij standaardtemperatuur (273 K (0 °C)) en druk (101,3 kPa) anders dan bedoeld in 2B233, en voor gebruik in dergelijke pompen ontworpen omhulsels (pomphuizen), voorgevormde binnenbekledingen, schoepen, vleugelraderen of straalpompverdeelstukken, waarvan alle oppervlakken die in direct contact komen met de chemicaliën die worden verwerkt, gemaakt zijn van een of meer van de volgende materialen: In 2B350.i verwijst de term afdichting alleen naar de afdichtingen die rechtstreeks in aanraking te komen met de chemicaliën die worden verwerkt (of daarvoor zijn ontworpen) en die voorzien in een afdichtingsfunctie waarbij een roterende of op-en-neergaande aandrijfas door de kast van een pomp heen gaat.

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. keramische materialen;

3. ferrosilicium (ijzerlegeringen met een hoog siliciumgehalte);

4. fluorpolymeren (polymere of elastomere materialen die meer dan 35 gewichtspercenten fluor bevatten);

5. glas, met inbegrip van verglaasde of geëmailleerde lagen of glasbekleding (‹lining›);

6. grafiet of koolstofgrafiet;

7. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten;

8. tantaal of legeringen ervan;

9. titaan of legeringen ervan;

10. zirkonium of legeringen ervan, of

11. niobium (columbium) of legeringen ervan;

verbrandingsovens ontworpen om chemicaliën bedoeld in 1C350 te vernietigen, met speciaal ontworpen afvaltoevoersystemen en speciale transportfaciliteiten en een gemiddelde verbrandingskamertemperatuur van meer dan 1273 K (1000 °C), waarvan alle oppervlakken van het afvaltoevoersysteem die in direct contact komen met de afvalproducten, gemaakt zijn van of bekleed zijn met een of meer van de volgende materialen:

1. legeringen met meer dan 25 gewichtspercenten nikkel en meer dan 20 gewichtspercenten chroom;

2. keramiek; of

3. nikkel of legeringen die meer dan 40 gewichtspercenten nikkel bevatten.

2B Technische noten: 1.2.3.4.5.6. Technische noten: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noot: Technische noten: Technische noot: Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.

geschikt om in continubedrijf chemische strijdgassen of chemische stoffen als bedoeld in 1C350 waar te nemen bij concentraties van minder dan 0,3 milligram/m3 lucht; of

geschikt om cholinesteraseremmende werking waar te nemen.

a. Technische noot:

complete installaties met fysische inperking van de klassen P3 en P4; P3- en P4- (BL3, BL4, L3, L4) inperkingsniveaus zijn gespecificeerd in de WHO Laboratory Biosafety Manual (3e editie, Genève 2004).

b. Technische noot:

Fermentoren en onderdelen, als hieronder: Voor de toepassing van 2B352.b omvatten fermentoren bioreactoren, bioreactoren voor eenmalig gebruik (wegwerpbare bioreactoren), chemostaten en continustroomsystemen.

1. fermentoren, geschikt voor het kweken van pathogene micro-organismen of levende cellen voor de productie van pathogene virussen of toxines, zonder aerosolvorming, met een totale capaciteit van 20 liter of meer;

2. onderdelen die ontworpen zijn voor fermentoren in 2B352.b.1., als hieronder:

2. a.

kweekkamers ontworpen om ter plaatse te worden gesteriliseerd of gedesinfecteerd;

houdinrichtingen (‹holding devices›) voor in kweekkamers;

Procesbesturingseenheden die in staat zijn tot het gelijktijdig monitoren en besturen van twee of meer parameters van het fermentatiesysteem (bv. temperatuur, pH, nutriënten, agitatie, opgeloste zuurstof, luchtstroom, schuimbeheersing);

c. Technische noot:

centrifuges, geschikt voor continu scheiden zonder aerosolvorming, met alle volgende eigenschappen: Met centrifuges zijn ook bedoeld decanteerflessen.

1. een doorstroomsnelheid van meer dan 100 liter per uur;

2. met componenten gemaakt van gepolijst roestvast staal of titaan;

3. met één of meer koppelingen binnen het met stoom steriliseerbare compartiment; en

4. geschikt voor in-situ-stoomsterilisatie in afgesloten toestand;

dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur en onderdelen, als hieronder: Noot: 2B352.d. heeft geen betrekking op apparatuur voor omgekeerde osmose, zoals gespecificeerd door de fabrikant.

1. dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur geschikt voor het scheiden van pathogene micro-organismen, virussen, toxines of celculturen met alle volgende eigenschappen:

1. a.

een totaal filteroppervlak van 1 m2 of meer; en

b. Technische noot:

met een van de volgende eigenschappen: In 2B352.d.1.b. slaat gesteriliseerd op het verwijderen van alle levensvatbare bacteriën uit de apparatuur door middel van fysieke (bv. stoom) of chemische agentia. Gedesinfecteerd betekent dat iedere mogelijke bacteriële infectiviteit in de apparatuur door middel van chemische agentia met een kiemdodende werking volledig is uitgeschakeld. Desinfectie en sterilisatie zijn te onderscheiden van reiniging, waarmee schoonmaakprocedés worden bedoeld die het bacteriële gehalte van de apparatuur verminderen zonder de bacteriële infectiviteit of levensvatbaarheid noodzakelijkerwijze volledig uit te schakelen.

1. in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden; of

2. filteronderdelen zijn wegwerpbaar of slechts voor eenmalig gebruik.

2. 2B352 d. Onderdelen van dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur (bv. modules, elementen, cassettes, patronen, eenheden of platen) met een filteroppervlak van 0,2 m2 of meer voor ieder onderdeel en bedoeld voor gebruik in de in 2B352.d. vermelde dwars- (tangentiële) stroomfiltratieapparatuur;

vriesdroogapparatuur, geschikt voor stoomsterilisatie en met een condensorcapaciteit van meer dan 10 kg ijs per 24 uur en minder dan 1000 kg ijs per 24 uur;

beschermings- of insluitingsmiddelen, als hieronder:

1. pakken van het type waarbij het lichaam geheel of half wordt omsloten, of van een externe luchttoevoer afhankelijke getuide, onder positieve druk werkende afzuigkappen Noot: Pakken die zijn ontworpen om met onafhankelijke ademhalingsapparatuur te worden gedragen, vallen niet onder 2B352.f.1.

2. biologische veiligheidskasten van klasse III of isolerende systemen met soortgelijke werkingsnormen; Noot: De isolerende systemen in 2B352.f.2. omvatten flexibele isolatoren, droge kasten, anaerobe kamers, handschoenkasten en afzuigkappen met laminaire stroming (gesloten met verticale stroming).

aerosol-inhalatiekamers ontworpen voor immuniteitsonderzoek met micro-organismen, virussen of toxinen met een capaciteit van 1 m3 of meer;

voor het drogen van toxinen of pathogene micro-organismen geschikte sproeidroogapparatuur, met alle volgende eigenschappen:

1. een waterverdampingscapaciteit ≥ 0,4 kg/uur en ≤ 400 kg/uur;

2. het vermogen om een typische gemiddelde productdeeltjesgrootte ≤ 10 μm te genereren met bestaande hulpstukken of met een minimale aanpassing van de sproeidroger met verneveldoppen die deeltjes van de vereiste grootte kunnen genereren; en

3. in-situ gesteriliseerd of gedesinfecteerd kunnen worden.

2C Materialen Geen.

2D Programmatuur 2D001 Programmatuur anders dan bedoeld in 2D002, als hieronder: Noot: 2D 001 heeft geen betrekking op programmatuur voor werkstukprogramma’s waarmee numerieke besturings-codes voor de bewerking van verschillende onderdelen worden gegenereerd. 2D002 Programmatuur voor elektronische toestellen, ook wanneer geïntegreerd in een elektronisch toestel of systeem, waardoor dergelijke toestellen of systemen kunnen functioneren als numerieke besturings-eenheid, en geschikt om meer dan vier assen gelijktijdig te laten samenwerken voor contourbesturen. Noot 1: 2D002 heeft geen betrekking op programmatuur die speciaal is ontworpen of aangepast voor de bediening van goederen die niet zijn vermeld in categorie 2. Noot 2: 2D002 heeft geen betrekking op programmatuur voor goederen die zijn vermeld in 2B002. Zie 2D001 en 2D003 voor programmatuur voor goederen vermeld in 2B002. Noot 3: 2D002 heeft geen betrekking op programmatuur die wordt geëxporteerd met, en het minimale vereiste is voor het gebruik van, goederen die niet zijn vermeld in categorie 2. 2D003 Programmatuur ontworpen of aangepast voor de werking van apparatuur, vermeld in 2B002, die het optische ontwerp, de metingen van het werkstuk en de functies voor de verwijdering van materiaal omzet in numerieke besturings- opdrachten voor het bereiken van de gewenste werkstukvorm. 2D101 Programmatuur speciaal ontworpen of aangepast voor het gebruik van apparatuur, bedoeld in 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 of 2B119 tot en met 2B122. N.B.: ZIE OOK 9D004. 2D201 Programmatuur speciaal ontworpen voor het gebruik van apparatuur, bedoeld in 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 of 2B227. 2D202 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van apparatuur vermeld in 2B201. Noot: 2D202 heeft geen betrekking op programmatuur voor werkstukprogramma’s waarmee wel opdrachtcodes voor numerieke besturing worden gegenereerd maar die geen rechtstreeks gebruik van apparatuur voor het bewerken van verscheidene onderdelen mogelijk maakt. 2D351 Andere programmatuur dan die als bedoeld in 1D003, speciaal ontworpen voor het gebruik van apparatuur, bedoeld in 2B351.

2D a.

Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling of productie van apparatuur, bedoeld in 2A001 of 2B001.

Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor het gebruik van in 2A001.c, 2B001 of 2B003 tot en met 2B009 bedoelde apparatuur.

2E Tabel 1.2.3.A.B.B.1.B.2.B.3.B.4.C.D.E.F.G. Afzettingstechnieken

Technologie 2E001 Technologie volgens de algemene technologienoot voor de ontwikkeling van apparatuur of programmatuur, bedoeld in 2A, 2B of 2D. Noot: 2E001 omvat technologie voor de integratie van de sondesystemen in de coördinaatmeetmachines gespecificeerd in 2B006.a. 2E002 Technologie volgens de algemene technologienoot voor de productie van apparatuur, bedoeld in 2A of 2B. 2E003 Andere technologie als hieronder: 2E101 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van apparatuur of programmatuur, bedoeld in 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119 tot en met 2B122 of 2D101. 2E201 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van apparatuur of programmatuur, bedoeld in 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b., 2B007.c., 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225 tot en met2B233, 2D201 of 2D202. 2E301 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van goederen, bedoeld in 2B350 tot en met 2B352. Bekledingsprocedé (1) Substraat Resulterende deklaag Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) superlegeringen aluminiden voor inwendige kanalen keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) siliciden carbiden diëlektrische lagen (15) diamant diamantachtige koolstof (17) composieten met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal-matrix siliciden carbiden vuurvaste metalen mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) aluminiden gelegeerde aluminiden (2) boriumnitride gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide (18) carbiden wolfraam mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) diamant diamantachtige koolstof (17) sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) diamant diamantachtige koolstof (17) Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) Fysieke afzetting uit de dampfase (PVD): Elektronenstraalverdampen (EB-PVD) superlegeringen gelegeerde siliciden gelegeerde aluminiden (2) McrAlX (5) Gemodificeerd zirkoniumoxide (12) siliciden aluminiden mengsels daarvan (4) keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) diëlektrische lagen (15) roestwerend staal (7) McrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) mengsels daarvan (4) composieten met een koolstof-koolstof-, keramische of metaalmatrix siliciden carbiden vuurvaste metalen mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) boriumnitride gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide (18) carbiden wolfraam mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) boriden beryllium sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) titaanlegeringen (13) boriden nitriden Fysieke afzetting uit de dampfase: weerstandsverhittingsverdamping met ionen (ion-plating) keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) composieten met een koolstof-koolstof-, keramische of metaalmatrix diëlektrische lagen (15) gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) Fysieke afzetting uit de dampfase: laser-verdamping keramische materialen (19) en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) siliciden diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) composieten met een koolstof-koolstof-, keramische of metaalmatrix diëlektrische lagen (15) gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide diëlektrische lagen (15) molybdeen en molybdeenlegeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en berylliumlegeringen diëlektrische lagen (15) sensorvenstermaterialen (9) diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof Fysieke afzetting uit de dampfase: boogverdampen superlegeringen gelegeerde siliciden gelegeerde aluminiden (2) McrAlX (5) polymeren (11) en composieten met een organische matrix boriden carbiden nitriden diamantachtige koolstof (17) (Pack) cementering (zie A hierboven voor ‹out-of-pack› cementering (10) composieten met een koolstof-koolstof-, keramische of metaalmatrix siliciden carbiden mengsels daarvan (4) titaanlegeringen (13) siliciden aluminiden gelegeerde aluminiden (2) vuurvaste metalen en legeringen (8) siliciden oxiden Plasmaspuiten superlegeringen McrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) mengsels daarvan (4) slijtbaar nikkelgrafiet slijtbare materialen met Ni-Cr-Al slijtbaar Al-Si-polyester gelegeerde aluminiden (2) aluminiumlegeringen (6) McrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) siliciden mengsels daarvan (4) vuurvaste metalen en legeringen (8) aluminiden siliciden carbiden roestwerend staal (7) MCrAIX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) mengsels daarvan (4) titaanlegeringen (13) carbiden aluminiden siliciden gelegeerde aluminiden (2) slijtbaar nikkelgrafiet slijtbare materialen met Ni-Cr-Al slijtbaar Al-Si-polyester Afzetting uit suspensie vuurvaste metalen en legeringen (8) ineengesmolten siliciden ineengesmolten aluminiden met uitzondering van weerstandsverhittingselementen composieten met een koolstof-koolstof-, keramische of metaalmatrix siliciden carbiden mengsels daarvan (4) Afzetting door middel van sputteren superlegeringen gelegeerde siliciden gelegeerde aluminiden (2) aluminiden gemodificeerd met edele metalen (3) MCrAlX (5) gemodificeerd zirkoniumoxide (12) platina mengsels daarvan (4) keramische materialen en glazen met een lage uitzettingscoëfficiënt (14) siliciden platina mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) titaanlegeringen (13) boriden nitriden oxiden siliciden aluminiden gelegeerde aluminiden (2) carbiden composieten met een koolstof-koolstof-, matrix keramische of metaalmatrix siliciden carbiden vuurvaste metalen mengsels daarvan (4) diëlektrische lagen (15) boriumnitride gecementeerde wolfraamcarbide (16) siliciumcarbide (18) carbiden wolfraam diëlektrische lagen (15) boriumnitride mengsels daarvan (4) molybdeen en molybdeen- legeringen diëlektrische lagen (15) beryllium en beryllium- legeringen boriden diëlektrische lagen (15) beryllium sensorvenster materialen (9) diëlektrische lagen (15) diamantachtige koolstof (17) vuurvaste metalen en legeringen (8) aluminiden siliciden carbiden oxiden Ionenimplantatie hoge temperatuur lager- staalsoorten toevoeging van chroom, (columbium) tantaal of niobium (columbium) titaanlegeringen (13) boriden nitriden beryllium en beryllium- legeringen boriden carbide (16) gecementeerde wolfraam nitriden carbiden

2E a.

technologie voor de ontwikkeling van interactieve grafische modellen als geïntegreerd onderdeel in numerieke besturings-eenheden voor het maken of wijzigen van werkstukprogramma’s;

technologie voor fabricageprocessen door middel van metaalbewerking, als hieronder:

1. technologie voor het ontwerpen van gereedschappen, matrijzen en klemmen, speciaal ontworpen voor de volgende processen:

1. a.

superplastisch vormen;

diffusielassen; of

direct hydraulisch persen;

2. technische gegevens bestaande uit procesmethoden of procesparameters als hieronder opgesomd, welke worden gebruikt voor het regelen van:

2. a.

superplastisch vormen van aluminium-, titaan- en superlegeringen:

1. oppervlaktevoorbehandeling;

2. reksnelheid;

3. temperatuur;

4. druk;

2E003 b. 2. diffusielassen van superlegeringen en titaanlegeringen:

1. oppervlaktevoorbehandeling;

2. temperatuur;

3. druk;

direct hydraulisch persen van aluminium- en titaanlegeringen:

1. druk;

2. cyclustijd;

heet isostatisch verdichten van titaan-, aluminium- en superlegeringen:

1. temperatuur;

2. druk;

3. cyclustijd;

technologie voor de ontwikkeling of productie van machines voor hydraulisch strekvormen en matrijzen daarvoor, voor de fabricage van vliegtuigconstructies;

technologie voor de ontwikkeling van generatoren van instructies voor werktuigmachines (bv. werkstukprogramma’s) op basis van ontwerpgegevens welke aanwezig zijn in numerieke besturings-eenheden;

technologie voor de ontwikkeling van integratie-programmatuur voor het inbouwen van expertsystemen in numerieke besturings-eenheden ten behoeve van geavanceerde beslissingsondersteuning voor verrichtingen op de werkvloer;

technologie voor het aanbrengen van anorganische deklagen of deklagen door anorganische modificatie van het oppervlak, omschreven in kolom 3 van onderstaande tabel, op niet elektronische substraten, gespecificeerd in kolom 2 van onderstaande tabel, door middel van procedés als omschreven in kolom 1 van onderstaande tabel en als gedefinieerd in de technische noten. Noot: De tabel en de technische noot zijn opgenomen na punt 2E301. N.B.: Deze tabel moet als volgt worden gelezen: voor een specifiek bekledingsprocedé (kolom 1) zijn de resulterende deklaag in kolom 3 en het substraat in kolom 2 alleen te combineren wanneer zij op gelijke hoogte, in dezelfde alinea, naast elkaar staan. Voorbeeld: voor het bekledingsprocedé chemische afzetting uit de damplaag (CVD) geldt dat siliciden wel geschikt zijn voor substraten van composieten met een koolstof-koolstof-, keramische of metaal-matrix, maar niet voor de substraten gecementeerde wolfraamcarbide (16) of siliciumcarbide (18). Deze laatste twee substraten staan namelijk niet recht naast de alinea in kolom 3 met de resulterende deklagen.

2E Tabel 1.2.3.A.B.B.1.B.2.B.3.B.4.C.D.E.F.G. Afzettingstechnieken TABEL - AFZETTINGSTECHNIEKEN - NOTEN 1.2.3.4.5.6.7.8.9.10.11.12.13.14.15.16.17.18.19.

Bekledingsprocedé behelst zowel het herstel en opknappen van de deklaag als het aanbrengen van een oorspronkelijke deklaag. Eénfasige of meerfase-bekledingen waarbij één of meer elementen worden afgezet vóór of tijdens het aanbrengen van de aluminidebekleding, worden, zelfs wanneer deze elementen door middel van een ander bekledingsprocedé worden afgezet, mede begrepen onder de term bekleding met gelegeerde aluminide; daaronder wordt echter niet begrepen het meerdere malen toepassen van éénfasige ‹pack› cementeringsprocedés om gelegeerde aluminiden te verkrijgen. Meerfase-bekleding waarbij het edele metaal of de edele metalen worden opgebracht door middel van een ander bekledingsprocedé voordat de aluminidebekleding wordt aangebracht, wordt mede begrepen onder de term met edelmetaal gemodificeerde aluminide-bekleding. Het begrip mengsels daarvan omvat geïnfiltreerd materiaal, samenstellingen met een verlopend gehalte, gelijktijdig afgezette materialen en afzettingen bestaande uit meerdere lagen en zij worden verkregen door middel van één of meer van de in de tabel vermelde bekledingsprocedés. Met MCrAlX wordt bedoeld een bekledingslegering waarbij M staat voor kobalt, ijzer, nikkel of combinaties daarvan en X staat voor hafnium, yttrium, silicium, tantaal in iedere hoeveelheid of voor andere opzettelijke toevoegingen van meer dan 0,01 gewichtspercent in verschillende verhoudingen en combinaties, met uitzondering van: Met aluminiumlegeringen worden bedoeld legeringen met een treksterkte van 190 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). Met roestwerend staal wordt bedoeld AISI (American Iron and Steel Institute) serie 300 of naar gelijkwaardige nationale normen geclassificeerde staalsoorten. Vuurvaste metalen en legeringen omvatten de volgende metalen en hun legeringen: niobium (columbium), molybdeen, wolfraam en tantaal. Sensorvenstermaterialen, als hierna: aluminiumoxide, silicium, germanium, zinksulfide, zinkselenide, galliumarsenide, diamant, galliumfosfide, saffier en de volgende metaalhaliden: sensorvenstermaterialen met een diameter groter dan 40 mm indien gemaakt van zirconiumfluoride en hafniumfluoride. Technologie voor het in één fase ‹pack› cementeren van massieve aerodynamische vlakken wordt niet bedoeld in categorie 2. Polymeren, als hierna: polyimide, polyester, polysulfide, polycarbonaten en polyurethanen. Gemodificeerd zirkoniumoxide verwijst naar toevoegingen van andere metaaloxiden, bv. calciumoxide, magnesiumoxide, yttriumoxide, hafniumoxide, zeldzame aardoxiden, enz. aan zirkoniumoxide teneinde bepaalde kristallografische fasen en fasesamenstellingen te stabiliseren. Warmtebarrièrebekledingen gemaakt van zirkoniumoxide, gemodificeerd met calciumoxide of magnesiumoxide door middel van mengen of versmelting worden niet bedoeld. Met titaanlegeringen worden uitsluitend bedoeld ruimtevaartlegeringen met een treksterkte van 900 MPa of meer gemeten bij 293 K (20 °C). Met glazen met een lage thermische uitzettingscoëfficiënt worden bedoeld glazen met een uitzettingscoëfficiënt van 1 × 10-7 K-1 of minder gemeten bij 293 K (20 °C). Diëlektrische lagen zijn bekledingen die zijn opgebouwd uit meerdere lagen bestaande isolatiematerialen waarbij gebruik wordt gemaakt van de interferentie-eigenschappen van een ontwerp dat is samengesteld uit materialen met uiteenlopende brekingsindexen voor de reflectie, transmissie of absorptie van verschillende golflengtebanden. Met diëlektrische lagen worden bedoeld meer dan vier diëlektrische lagen of composiete diëlektrische/metaallagen. Materialen voor snij- en vormwerktuigen bestaande uit wolfraamcarbide/(met kobalt, nikkel), titaancarbide/(met kobalt, nikkel), chroomcarbide/(met nikkel, chroom) en chroomcarbide/(met nikkel) zijn niet mede begrepen onder de gecementeerde wolfraamcarbide in de tabel. Niet bedoeld wordt technologie die speciaal is ontwikkeld voor het aanbrengen van diamantachtige koolstof op een van de volgende artikelen: magnetische diskdrives en koppen, apparatuur voor de vervaardiging van wegwerpartikelen, kleppen of tapkraantjes, akoestische membranen voor luidsprekers, automotoronderdelen, snijmachines, pons- en persmatrijzen, kantoorautomatiseringsapparatuur, microfoons of medische apparatuur of uit legeringen met minder dan 5 % beryllium gemaakte matrijzen voor het gieten of vormen van plastic. Siliciumcarbide omvat geen materiaal voor snij- of vormwerktuigen. Keramische substraten, zoals onder dit nummer gebruikt, omvatten geen keramische materialen met 5 % of meer gewichtspercent klei- of cementinhoud, als afzonderlijke bestanddelen dan wel in combinatie.

TABEL - AFZETTINGSTECHNIEKEN - NOTEN 1.2.3.4.5.

a.

CoCrAlY-bekledingen die minder dan 22 gewichtspercenten chroom bevatten, minder dan 7 gewichtspercenten aluminium en minder dan 2 gewichtspercenten yttrium;

b.

CoCrAlY-bekledingen die 22 tot 24 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,5 tot 0,7 gewichtspercent yttrium; of

c.

NiCrAlY-bekledingen die 21 tot 23 gewichtspercenten chroom bevatten, 10 tot 12 gewichtspercenten aluminium en 0,9 tot 1,1 gewichtspercent yttrium.

TABEL - AFZETTINGSTECHNIEKEN - TECHNISCHE NOOT

De definities van de in kolom 1 van de tabel vermelde procedés luiden als volgt:

a.

Chemische afzetting uit de dampfase (CVD) is een procedé voor deklaagbekleding of voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij een metaal, legering, composiet, diëlektrisch of keramisch materiaal op een verhit substraat wordt afgezet. In de nabijheid van een substraat worden gasvormige reagentia ontleed of gecombineerd, wat leidt tot de afzetting van het gewenste materiaal, zijnde een element, legering of samengesteld materiaal, op het substraat. De energie voor dit proces van ontleding of chemische reactie kan worden geleverd door de hitte van het substraat, door een gloeiontladingsplasma of door laser-bestraling. N.B. 1: CVD omvat de volgende procedés: ‹out-of-pack›-afzetting met gerichte gasstroom, pulserende CVD, thermische afzetting met beheerste kernenvorming (CNTD), met plasma versterkte of met plasma ondersteunde CVD-procedés. N.B. 2: ‹Pack› geeft aan dat een substraat is ingebed in een poedermengsel. N.B. 3: Het bij het ‹out-of-pack›-procedé gebruikte gasvormige materiaal wordt verkregen door toepassing van dezelfde basisreacties en parameters als bij het ‹pack› cementeringsprocedé, behalve dat het te bekleden substraat niet in contact komt met het poedermengsel.

b.

Thermische verdampingsafzetting (TE-PVD) (opdampen) is een procedé voor deklaagbekleding in een vacuümkamer bij een druk van minder dan 0,1 Pa waarin gebruik wordt gemaakt van een thermische energiebron voor het verdampen van het bekledingsmateriaal. Dit leidt tot de neerslag, of afzetting, van de verdampte stoffen op een in een geschikte positie geplaatst substraat. De toevoeging van gassen aan de vacuümkamer tijdens het bekledingsprocedé voor het opbouwen van een samengestelde bekleding is een gebruikelijke aanpassing van het procedé. Het gebruik van een ionen- of elektronenstraal, of plasma, teneinde de afzetting van de bekleding te activeren of te ondersteunen is eveneens een gebruikelijke aanpassing in deze techniek. Ook kunnen tijdens deze procedés monitoren worden gebruikt voor het tijdens het proces meten van de optische eigenschappen en de dikte van de bekledingslaag. Specifieke TE-PVD-procedés verlopen als volgt:

1. bij elektronenstraalverdampen (EB-PVD) wordt gebruikgemaakt van een elektronenstraal voor het verhitten en verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

2. bij weerstandsverhittingsverdampen met ionen wordt gebruikgemaakt van elektrische weerstandsverwarmingsbronnen in combinatie met één of meer botsende ionenstralen die een beheerste en gelijkmatige stroom verdampt bekledingsmateriaal leveren;

3. bij laser-verdamping wordt gebruikgemaakt van ofwel een pulserende ofwel een continue laser-straal voor het verdampen van het materiaal waaruit de deklaag wordt gevormd;

4. boogverdampen maakt gebruik van een uit het materiaal van de te vormen deklaag bestaande kathode welke opgebruikt wordt en waarbij een vonkoverslag op het oppervlak wordt gecreëerd door een kort aardcontact. De beheerste vlamboogbeweging erodeert het kathodeoppervlak waardoor een sterk geïoniseerd plasma ontstaat. De anode kan een kegel zijn die via een isolatie aan de rand van de kathode is bevestigd of de kamer wordt als anode gebruikt. Het aanleggen van een voorspanning op het substraat wordt gebruikt bij het uit de gezichtslijn opbrengen van deklagen. N.B.: Het aanbrengen van deklagen door middel van een niet beheerste vlamboog zonder een voorspanning op het substraat is niet mede begrepen in deze definitie.

5. ‹Ion-plating› is een speciale aanpassing van een algemeen TE-PVD-procedé waarbij een plasma of een ionenbron wordt gebruikt voor het ioniseren van de af te zetten stoffen, en waarbij een negatieve voorspanning wordt aangelegd op het substraat teneinde de stoffen gemakkelijker aan het plasma te kunnen onttrekken. Het toevoegen van reactieve stoffen, de verdamping van vaste stoffen in de proceskamer en het gebruik van monitoren voor het tijdens het proces meten van de optische eigenschappen en de dikte van de bekledingslaag zijn gebruikelijke aanpassingen van het procedé.

c.

‹Pack› cementering is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een substraat wordt ingebed in een poedermengsel, een zgn. ‹pack›, dat bestaat uit: Het substraat en het poedermengsel bevinden zich in een retort die wordt verhit tot 1030 K (757 °C) à 1375 K (1102 °C) gedurende een tijd lang genoeg voor afzetting van de laag.

1. de metaalhoudende poeders die moeten worden afgezet (gewoonlijk aluminium, chroom, silicium of combinaties daarvan);

2. een activerende stof (gewoonlijk een halogenide zout), en

3. een inerte stof, meestal aluminiumoxide.

d.

Plasmaspuiten is een deklaagbekledingsprocedé waarbij een spuitpistool, dat een plasma produceert en reguleert, bekledingsmaterialen in poeder- of draadvorm krijgt toegevoerd, deze smelt en naar een substraat drijft, waarop zich een integraal gehechte laag vormt. Plasmaspuiten zoals hier bedoeld is ofwel plasmaspuiten bij lage druk ofwel plasmaspuiten met hoge snelheid. N.B. 1: Lage druk wil zeggen minder dan de atmosferische omgevingsdruk. N.B. 2: Met hoge snelheid wordt bedoeld een uitstroomsnelheid van het gas uit het mondstuk hoger dan 750 m/s bij 293 K (20 °C) en 0,1 MPa.

e.

Afzetting uit suspensie is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak of voor deklaagbekleding waarbij een metaalhoudend of keramisch poeder met een organische bindstof in suspensie wordt gebracht in een vloeistof en op een substraat wordt aangebracht door spuiten, dompelen of penselen; vervolgens droging aan de lucht of in een oven; en warmtebehandeling om de gewenste laag te verkrijgen.

f.

Afzetting door middel van sputteren is een deklaagbekledingsprocedé dat is gebaseerd op een verschijnsel van pulsoverdracht, waarbij positief geladen ionen worden versneld door een elektrisch veld naar het oppervlak van een trefplaat (deklaagmateriaal). De kinetische energie van de botsende ionen is voldoende om ervoor te zorgen dat atomen aan het oppervlak van de trefplaat vrijkomen en worden afgezet op een in een geschikte positie geplaatst substraat. N.B. 1: De tabel verwijst uitsluitend naar afzetting door sputteren met een triode, magnetron of naar reactief sputteren, welke methoden worden toegepast om de hechting van de bekleding en de afzetsnelheid te vergroten, en naar hoogfrequent (RF) versterkte afzetting door sputteren, wat wordt toegepast om de verdamping van niet-metaalhoudende bekledingsmaterialen mogelijk te maken. N.B. 2: Ionenstralen met lage energie (minder dan 5 keV) kunnen worden toegepast om de afzetting in gang te zetten.

g.

Ionenimplantatie is een procedé voor bekleding door modificatie van het oppervlak waarbij het te legeren element wordt geïoniseerd, wordt versneld door een potentiaalgradiënt en in het substraatoppervlak wordt geïmplanteerd. De definitie omvat mede procedés waarbij tegelijk met de ionenimplantatie elektronenstraalverdamping of afzetting door middel van sputtering plaatsvindt.

CATEGORIE 3 ELEKTRONICA

3A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2.

Systemen, Apparatuur en Onderdelen Noot 1: De embargostatus van in 3A001 of 3A002 omschreven apparatuur en onderdelen, anders dan die welke zijn omschreven in 3A001.a.3. tot en met 3A001.a.10., 3A001.a.12. of 3A001.a.13., die speciaal zijn ontworpen voor apparatuur waarvoor een uitvoervergunning vereist is, of die dezelfde functionele eigenschappen hebben, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. Noot 2: De embargostatus van geïntegreerde schakelingen als omschreven in 3A001.a.3. tot en met 3A001.a.9., 3A001.a.12. of 3A001.a.13 die onveranderbaar zijn geprogrammeerd of ontworpen voor een specifieke functie, wordt eveneens bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur. N.B.: Wanneer de fabrikant of de aanvrager de embargostatus van de andere apparatuur niet kan bepalen, wordt de embargostatus bepaald op grond van 3A001.a.3. tot en met 3A001.a.9., 3A001.a.12 en 3A001.a.13. 3A 3A001 Elektronische onderdelen en de speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, als hieronder: 3A002 Universele elektronische apparatuur, als hieronder: 3A003 Temperatuurregelingssystemen met nevelkoeling die gebruikmaken van apparatuur met een gesloten vloeistofcirculatie en -reconditioneringscircuit in een lucht- en waterdicht omhulsel waarin met speciaal daartoe ontworpen spuitmonden een diëlektrische vloeistof op elektronische componenten wordt verneveld om deze binnen de gebruikstemperatuur te houden, en speciaal hiervoor ontworpen onderdelen. 3A101 Elektronische uitrusting, elementen en onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als hieronder: 3A102 Thermische batterijen ontworpen of aangepast voor raketten. In de zin van 3A102 zijn thermische batterijen batterijen voor eenmalig gebruik die een vast, niet-geleidend anorganisch zout als elektrolyt bevatten. Deze batterijen bevatten een pyrolytisch materiaal dat bij ontbranding het elektrolyt doet smelten en de batterij activeert. In 3A102 wordt onder raketten verstaan complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km; 3A201 Elektronische onderdelen, anders dan vermeld in 3A001, als hieronder: 3A225 Frequentieomzetters of frequentiegeneratoren anders dan die, welke zijn vermeld in 0B 001.b.13., te gebruiken als: aandrijfeenheden met variabele of vaste frequentie, met alle volgende eigenschappen: N.B. 1: Programmatuur speciaal ontworpen voor het verbeteren of leveren van de prestaties van een frequentieomzetter of frequentiegenerator om te voldoen aan de eigenschappen van 3A225, wordt in 3D225 beschreven. N.B. 2: Technologie in de vorm van codes of sleutels voor het verbeteren of leveren van de prestaties van een frequentieomzetter of frequentiegenerator om te voldoen aan de eigenschappen van 3A225, wordt in 3E225 beschreven. Noot: 3A225 heeft geen betrekking op frequentieomzetters of frequentiegeneratoren als deze aan hardware, programmatuur of technologie verbonden beperkingen hebben die de prestaties verlagen tot beneden de bovengenoemde, op voorwaarde dat zij voldoen aan het volgende: De in 3A225 bedoelde frequentieomzetters zijn ook bekend als ‹converters› of ‹inverters›. De in 3A225 bedoelde frequentieomzetters kunnen op de markt verschijnen als generatoren, elektronische testapparatuur, wisselstroomvoedingen, en aandrijfeenheden met variabele of aanpasbare snelheid of frequentie (Variable Speed Drives (VSDs), Variable Frequency Drives (VFDs), Adjustable Frequency Drives (AFDs), or Adjustable Speed Drives (ASDs)). 3A226 Gelijkstroombronnen met hoog vermogen, anders dan bedoeld in 0B001.j.6., met beide volgende eigenschappen: 3A227 Hoogspanningsgelijkstroombronnen, anders dan vermeld in 0B001.j.5., met beide volgende eigenschappen: 3A228 Schakelelementen, als hieronder: 3A229 Pulsgeneratoren met hoge stroomsterkte, als hieronder: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. 3A230 Snelle pulsgeneratoren en pulskoppen daarvoor, met beide van de volgende eigenschappen: In 3A230 is de pulsstijgtijd gedefinieerd als het tijdsinterval dat verstrijkt tussen het bereiken van 10 % van de piekspanning en 90 % van de piekspanning. Pulskoppen zijn pulsvormende netwerken die zijn ontworpen om te worden voorzien van een voltagestapfunctie (‹voltage step›) en een verscheidenheid aan pulsvormen te vormen, waaronder van het type rechthoekig, driehoekig, ‹step›, puls-, exponentieel of ‹monocycle›. pulskoppen kunnen integraal deel uitmaken van de pulsgenerator, een ‹plug-ins› module van de inrichting vormen of als extern apparaat erop aangesloten worden. 3A231 Neutronengeneratorsystemen, met inbegrip van buizen, met beide volgende eigenschappen: 3A232 Andere dan de in 1A007 bedoelde meervoudige ontstekingssystemen, als hieronder: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. N.B.: Zie 1A007.b. voor detonatoren. Noot: 3A232 heeft geen betrekking op detonators die uitsluitend gebruikmaken van primaire springstoffen, zoals loodazide. 3A233 Massaspectrometers, anders dan vermeld in 0B002.g., die ionen met een massa van 230 atomaire massa eenheden (a.m.e.) of meer kunnen meten en die een oplossend vermogen hebben dat beter is dan 2 a.m.e. op 230 a.m.e., en ionenbronnen hiervoor, als hieronder: de door middel van elektronbeschieting werkende massaspectrometers bedoeld in 3A233.d. staan ook bekend als massaspectrometers met elektronimpact (‹electron impact mass spectrometers›) of massaspectrometers met elektronionisatie (‹electron ionization mass spectrometers›). In 3A233.d.2 wordt onder koudeval verstaan een systeem waarmee gasmoleculen worden gevangen door ze te condenseren of bevriezen op koude oppervlakken. Voor de toepassing van 3A233.d.2 wordt een kryogene vacuümpomp met een gesloten systeem en gasvormig helium niet beschouwd als een koudeval. 3A234 Striplines om te voorzien in een lage-inductiviteitspad naar ontstekers met de volgende eigenschappen:

3A a.

Universele geïntegreerde schakelingen, als hieronder: Noot 1: De vraag of een uitvoervergunning is vereist voor (al dan niet afgewerkte) plakken (‹wafers›) waarin de functie reeds is vastgelegd, dient te worden beoordeeld aan de hand van de parameters in 3A001.a. Noot 2: Geïntegreerde schakelingen omvatten de volgende typen:

monolithische geïntegreerde schakelingen;

hybride geïntegreerde schakelingen;

multichip geïntegreerde schakelingen;

geïntegreerde schakelingen van het filmtype met inbegrip van geïntegreerde schakelingen van silicium op saffier;

optische geïntegreerde schakelingen;

driedimensionale geïntegreerde schakelingen.

1. geïntegreerde schakelingen, ontworpen of gespecificeerd als bestand tegen één of meer van de volgende parameters:

1. a.

een totale dosis ioniserende straling van 5 × 103 Gray (silicium) of meer;

storing bij een dosistempo van 5 × 106 Gray (silicium)/s of meer; of

een fluentie (geïntegreerde flux) van neutronen (gelijk aan 1 MeV) van 5 × 1013 n/cm2 of meer op silicium, of het equivalent daarvan voor andere materialen; Noot: 3A001.a.1.c. heeft geen betrekking op MIS-condensatoren (Metal Insulator Semiconductors).

2. microprocessor-microschakelingen, microcomputer-microschakelingen, microbesturing-microschakelingen, geïntegreerde geheugenschakelingen vervaardigd van samengesteld halfgeleidermateriaal, analoog/digitaal-omzetters, digitaal/analoog-omzetters, elektro-optische of optisch geïntegreerde schakelingen voor signaalverwerking, door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen, op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet bekend is, of FFT (Fast Fourier Transform)-processoren, elektrisch wisbare PROM’s (EEPROM’s), flash-geheugens of statische RAM’s (SRAM’s): Noot: 3A001.a.2. heeft geen betrekking op geïntegreerde schakelingen voor toepassingen in civiele automobielen of treinen.

2. a.

gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur hoger dan 398 K (125 °C);

gespecificeerd om te werken bij een omgevingstemperatuur lager dan 218 K (- 55 °C);

gespecificeerd om te werken over het gehele omgevingstemperatuurbereik van 218 K (- 55 °C) tot 398 K (125 °C);

3. microprocessor-microschakelingen, microcomputer-microschakelingen en microbesturingmicroschakelingen, gefabriceerd van een samengestelde halfgeleider en werkend met een klokfrequentie vanaf 40 MHz; Noot: 3A001.a.3 heeft mede betrekking op digitale signaalprocessoren, digitale array-processoren en digitale coprocessoren.

4. niet gebruikt;

5. Technische noten: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. 3A001 a. 5.Technische noten: 1.2.3.4.

3A001 a. geïntegreerde schakelingen voor analoog/digitaalomzetters (ADC’s) en digitaal/analoogomzetters (DAC’s), als hieronder: Een scheidend vermogen van n bits komt overeen met een kwantisering van 2n niveaus. Het aantal bits in het outputwoord komt overeen met het scheidend vermogen van de ADC. De outputsnelheid is de maximale outputsnelheid van de omzetter, ongeacht de architectuur of de overbemonstering. Voor meerkanalen-ADC’s worden de outputs niet samengevoegd en is de outputsnelheid de maximale outputsnelheid van één kanaal. Voor interleaved-ADC’s en meerkanalen-ADC’s met interleaved-modus worden de outputs samengevoegd en is de outputsnelheid de maximale gecombineerde outputsnelheid van alle outputs samen. Verkopers kunnen de outputsnelheid ook omschrijven als de bemonsteringssnelheid, de conversiesnelheid of de verwerkingssnelheid. Deze wordt vaak uitgedrukt in megahertz (MHz) of megasamples per seconde (MSPS). Voor de meting van de outputsnelheid komt één outputwoord per seconde overeen met één Hertz of één sample per seconde. Meerkanalen-ADC’s zijn toestellen waarin meer dan één ADC is geïntegreerd en die zo zijn ontworpen dat elke ADC een aparte analoge input heeft. Interleaved-ADC’s zijn toestellen met meerdere ADC-eenheden die dezelfde analoge input op verschillende tijdstippen bemonsteren, zodat bij het samenvoegen van de outputs de analooginput doeltreffend is bemonsterd en op een hogere bemonsteringsnelheid is omgezet. Het storingsvrij dynamisch bereik (Spurious Free Dynamic Range - SFDR) wordt gedefinieerd als de verhouding van de rms-waarde van de draaggolffrequentie (maximale signaalcomponent) aan de ingang van de DAC tot de rms-waarde van de volgende grootste ruis- of harmonische distorsiecomponent aan de uitgang. Het SFDR wordt rechtstreeks bepaald aan de hand van de specificatietabel of van de grafiek waarin het SFDR tegen de frequentie wordt uitgezet. Een signaal wordt gedefinieerd als zijnde ‹full scale› wanneer de amplitude groter is dan -3 dBfs (‹full scale›). ‹Adjusted update rate› voor DAC’s:

5. a.

ADC’s met één of meer van de volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK 3A101.

1. een scheidend vermogen van 8 bit of meer maar minder dan 10 bit, met een outputsnelheid van meer dan 1000 miljoen woorden per seconde;

2. een scheidend vermogen van 10 bit of meer maar minder dan 12 bit, met een outputsnelheid van meer dan 300 miljoen woorden per seconde;

3. een scheidend vermogen van 12 bit en een outputsnelheid van meer dan 200 miljoen woorden per seconde,

4. een scheidend vermogen van meer dan 12 bit maar niet meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 125 miljoen woorden per seconde; of

5. een scheidend vermogen van meer dan 14 bit en een outputsnelheid van meer dan 20 miljoen woorden per seconde;

5. Technische noten: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. b.

digitaal/analoogomzetters (DAC’s) met één of meer van de volgende eigenschappen:

1. een scheidend vermogen van 10 bit of meer met een ‹adjusted update rate› van 3500 miljoen samples per seconde (MSPS) of meer; of

2. een scheidend vermogen van 12 bit of meer met een ‹adjusted update rate› van 1250 MSPS of meer en met één of meer van de volgende eigenschappen:

2. a.

een stabilisatietijd (‹settling time›) van minder dan 9 ns tot 0,024 % van ‹full scale› bij een ‹full scale›-stap; of

een storingsvrij dynamisch bereik (Spurious Free Dynamic Range - SFDR) van meer dan 68 dBc (draaggolf) bij de synthese van een ‹full scale› analoog signaal van 100 MHz of de hoogst aangegeven ‹full scale› analoge signaalfrequentie van minder dan 100 MHz;

5. Technische noten: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. 3A001 a. 5.Technische noten: 1.2.3.4. a.

in conventionele DAC’s (zonder interpolatie) geeft de ‹adjusted update rate› het tempo weer waarin het digitale signaal in een analoog signaal wordt geconverteerd en de analoge uitgangswaarden door de DAC worden aangepast. DAC’s waarbij zonder interpolatiefunctie kan worden gewerkt (interpolatiefactor één) worden beschouwd als conventionele DAC’s (zonder interpolatie).

in interpolerende DAC’s (overbemonsterende DAC’s) is de ‹adjusted update rate› de ‹update rate› van de DAC gedeeld door de kleinste interpolatiefactor. De ‹adjusted update rate› van interpolerende DAC’s kan met verschillende termen worden aangegeven, waaronder:

snelheid van gegevensinvoer (input data rate)

snelheid van woordinvoer (input word rate)

bemonsteringssnelheid (input sample rate)

maximale totale snelheid van de invoerbus (maximum total input bus rate)

maximale snelheid van de DAC-klok voor DAC-klokinvoer (‹clock input›).

6. elektro-optische of optische geïntegreerde schakelingen voor signaalverwerking met alle volgende eigenschappen:

6. a.

een of meer inwendige laser-dioden,

een of meer inwendige lichtdetectie-elementen; en

optische golfgeleiders;

7. 3A001 a. 7.Technische noten: 1.2.3.

door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen met één van de volgende eigenschappen: Noot: 3A001.a.7. omvat: Door de gebruiker te programmeren logische bouwstenen worden ook door de gebruiker te programmeren ‹gate arrays› of door de gebruiker te programmeren ‹logic arrays› genoemd. Het in 3A001.a.7.a. bedoelde maximaal aantal digitale inputs/outputs wordt ook het maximaal aantal user-inputs/outputs of maximaal beschikbaar aantal inputs/outputs genoemd, afhankelijk van het feit of de geïntegreerde schakeling al dan niet verpakt is. Totale unilaterale piek seriële transceiver datasnelheid is het product van de seriële unilaterale transceiver gegevens pieksnelheid maal het aantal zendontvangers op de FPGA.

7. a.

een maximaal aantal enkelvoudige digitale inputs/outputs van 500 of meer; of

een totale unilaterale piek seriële transceiver datasnelheid van 200 Gb/s of meer;

Simple Programmable Logic Devices - eenvoudige programmeerbare logische bouwstenen (SPLD’s)

Complex Programmable Logic Devices - complexe programmeerbare logische bouwstenen (CPLD’s)

‹Field Programmable Gate Arrays› - door de gebruiker te programmeren ‹gate arrays› (FPGA’s)

‹Field Programmable Logic Arrays› - door de gebruiker te programmeren ‹logic arrays› (FPLA’s)

Field Programmable Interconnects - door de gebruiker te programmeren interconnects (FPIC’s)

8. niet gebruikt;

9. geïntegreerde schakelingen voor neurale netwerken;

10. op bestelling geïntegreerde schakelingen waarbij ofwel de functie ofwel de embargostatus van de apparatuur waarin de geïntegreerde schakelingen zullen worden toegepast, niet aan de fabrikant bekend is, met één of meer van de volgende eigenschappen:

10. a.

meer dan 1500 in-/uitgangspunten;

een typische voortplantingsvertragingstijd van de basispoort van minder dan 0,02 ns; of

een werkfrequentie vanaf 3 GHz;

11. digitale geïntegreerde schakelingen, anders dan als omschreven in 3A001.a.3. tot en met 3A001.a.10. of 3A001.a.12., die zijn gebaseerd op een samengestelde halfgeleider en met een van beide volgende eigenschappen:

11. a.

een ‹gate count› equivalent van meer dan 3000 (twee ingangspoorten), of

een ‹toggle›frequentie vanaf 1,2 GHz;

12. Technische noot:

FFT (‹Fast Fourier Transform›)-processoren met een nominale uitvoeringstijd, voor een N-punt complexe FFT van minder dan (N log2 N)/20480 ms, waarbij N het aantal punten is; Wanneer N gelijk is aan 1024 punten, geeft de formule in 3A001.a.12. een uitvoeringstijd van 500 μs.

13. Technische noot:

Directe digitale Synthesizer (DDS) geïntegreerde schakelingen met één of meer van de volgende eigenschappen: De DAC-klokfrequentie kan worden gespecificeerd als de hoofdklokfrequentie of de invoerklokfrequentie.

13. a.

Een digitaal/analoog-omzetter(DAC)klokfrequentie van 3,5 GHz of meer en een DAC-resolutie van 10 bit of meer, maar minder dan 12 bit; of

Een DAC-klokfrequentie van 1,25 GHz of meer en een DAC-resolutie van 12 bit of meer;

b. Technische noot:

Microgolf- of millimetergolfelementen, als hieronder: Voor de toepassing van 3A001.b kan er op de productinformatiebladen naar de parameter verzadigd piekuitgangsvermogen worden verwezen als uitgangsvermogen, verzadigd uitgangsvermogen, maximaal uitgangsvermogen, piekuitgangsvermogen of piekvermogen van de omhullende.

1. 3A001 b. elektronische vacuümbuizen en kathoden, als hieronder: Noot 1: 3A001.b.1. heeft geen betrekking op buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen ongeacht welke frequentieband en die alle volgende eigenschappen hebben: Noot 2: 3A001.b.1. heeft geen betrekking op niet voor gebruik in de ruimte gekwalificeerde buizen met alle volgende eigenschappen:

1. a.

niet meer dan 31,8 GHz; en

door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

een gemiddelde vermogensdichtheid aan de uitgang van 50 W of minder; en

buizen die zijn ontworpen of gespecificeerd om te werken binnen ongeacht welke frequentieband en die alle volgende eigenschappen hebben:

1. meer dan 31,8 GHz doch niet meer dan 43,5 GHz; en

2. door de ITU toegewezen voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

lopende golfbuizen voor puls- of ongedempte golven, als hieronder:

1. buizen die werken bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;

2. buizen met een kathodeverhittingselement dat in minder dan drie seconden het gespecificeerde RF-vermogen bereikt;

3. gekoppelde trilholtebuizen of afgeleiden daarvan, met een fractionele bandbreedte van meer dan 7 % of een piekvermogen van meer dan 2,5 kW;

4. spiraalbuizen of afgeleiden daarvan, met één of meer van de volgende eigenschappen:

4. a.

een momentele bandbreedte van meer dan één octaaf, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 0,5;

een momentele bandbreedte van een octaaf of minder, en een product van gemiddeld vermogen (in kW) en frequentie (in GHz) van meer dan 1; of

voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd;

dwarsveld (‹crossed field›)-versterkerbuizen met meer dan 17 dB versterking;

geïmpregneerde kathoden, ontworpen voor elektronische buizen geschikt voor het voortbrengen van een continue emissiestroomdichtheid groter dan 5 A/cm2 bij gespecificeerde werkomstandigheden;

2. monolithisch geïntegreerde microgolf-schakelingen- (MMIC-)vermogensversterkers met: Noot 1: niet gebruikt. Noot 2: de embargostatus van MMIC’s waarvan de nominale werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.2.a. tot 3A001.b.2.h., wordt bepaald door het laatste verzadigde piekuitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. Noot 3: de noten 1 en 2 onder 3A houden in dat in 3A001.b.2. niet worden bedoeld MMIC’s die speciaal zijn ontworpen voor andere toepassingen zoals telecommunicatie, radars en motorvoertuigen.

2. a.

nominale werkfrequenties vanaf 2,7 GHz tot en met 6,8 GHz met een fractionele bandbreedte van meer dan 15 %, en met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 75 W (48,75 dBm) op elke frequentie vanaf 2,7 GHz tot en met 2,9 GHz;

2. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 55 W (47,4 dBm) op elke frequentie vanaf 2,9 GHz tot en met 3,2 GHz;

3. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 40 W (46 dBm) op elke frequentie vanaf 3,2 GHz tot en met 3,7 Ghz, of

4. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 20 W (43 dBm) op elke frequentie vanaf 3,7 GHz tot en met 6,8 GHz;

3A001 b. 2. nominale werkfrequenties vanaf 6,8 GHz tot en met 16 GHz met een fractionele bandbreedte van meer dan 10 %, en met één of meer van de volgende eigenschappen:

1. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 10 W (40 dBm) op elke frequentie vanaf 6,8 GHz tot en met 8,5 GHz; of

2. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 5 W (37 dBm) op elke frequentie vanaf 8,5 GHz tot en met 16 GHz;

een nominaal werkvermogen met verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 3 W (34,77 dBm) op elke frequentie vanaf 16 GHz tot en met 31,8 GHz, en met een fractionele bandbreedte van meer dan 10 %;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 0,1 nW (-70 dBm) op elke frequentie vanaf 31,8 GHz tot en met 37 GHz;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 1 W (30 dBm) op elke frequentie vanaf 37 GHz tot en met 43,5 GHz, en met een fractionele bandbreedte van meer dan 10 %;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 31,62 mW (15 dBm) op elke frequentie vanaf 43,5 GHz tot en met 75 GH, en met een fractionele bandbreedte van meer dan 10 %;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 10 mW (10 dBm) op elke frequentie vanaf 75 GHz tot en met 90 GHz, en met een fractionele bandbreedte van meer dan 5 %; of

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 0,1 nW (-70 dBm) op elke frequentie vanaf 90 GHz;

3. discrete microgolftransistors, met: Noot 1: De embargostatus van een transistor waarvan de nominale werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.3.a. tot en met 3A001.b.3.e., wordt bepaald door het laagste verzadigde piekuitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. Noot 2: 3A001.b.3 omvat kale blokjes, blokjes gemonteerd op dragers, of blokjes gemonteerd in pakketten. Naar sommige discrete transistors kan ook verwezen worden als vermogensversterkers, maar de status van deze discrete transistors wordt bepaald door 3A001.b.3.

3. a.

nominale werkfrequenties vanaf 2,7 GHz tot en met 6,8 GHz en met één of meer van de volgende eigenschappen:

1. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 400 W (56 dBm) op elke frequentie vanaf 2,7 GHz tot en met 2,9 GHz,

2. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 205 W (53,12 dBm) op elke frequentie vanaf 2,9 GHz tot en met 3,2 GHz;

3. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 115 W (50,61 dBm) op elke frequentie vanaf 3,2 GHz tot en met 3,7 GHz; of

4. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 60 W (47,78 dBm) op elke frequentie vanaf 3,7 GHz tot en met 6,8 GHz;

nominale werkfrequenties vanaf 6,8 GHz tot en met 31,8 GHz en met één of meer van de volgende eigenschappen:

1. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 50 W (47 dBm) op elke frequentie vanaf 6,8 GHz tot en met 8,5 GHz;

2. 3A001 b. 3. b. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 15 W (41,76 dBm) op elke frequentie vanaf 8,5 GHz tot en met 12 GHz;

3. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 40 W (46 dBm) op elke frequentie vanaf 12 GHz tot en met 16 GHz; of

4. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 7 W (38,45 dBm) op elke frequentie vanaf 16 GHz tot en met 31,8 GHz;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 0,5 (27 dBm) op elke frequentie vanaf 31,8 GHz tot en met 37 GHz;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 1 W (30 dBm) op elke frequentie vanaf 37 GHz tot en met 43,5 GHz;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 0,1 nW (-70 dBm) op elke frequentie vanaf 43,5 GHz;

4. microgolf-halfgeleiderversterkers en microgolfassemblages/-modules die microgolf-halfgeleiderversterkers bevatten met: N.B.: MMIC-vermogenversterkers moeten worden beoordeeld aan de hand van de criteria in 3A001.b.2. Noot 1: niet gebruikt. Noot 2: de embargostatus van een object waarvan de nominale werkfrequentie frequenties in meer dan één frequentiegebied omvat, als omschreven in 3A001.b.4.a. tot 3A001.b.4.e., wordt bepaald door het laagste verzadigde piekuitgangsvermogen waarvoor een embargo geldt. Noot 3: 3A001.b.4. omvat zend-/ontvangstmodules en zendmodules.

4. a.

nominale werkfrequenties vanaf 2,7 GHz tot en met 6,8 GHz met een fractionele bandbreedte van meer dan 15 %, en met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 500 W (57 dBm) op elke frequentie vanaf 2,7 GHz tot en met 2,9 GHz;

2. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 270 W (54,3 dBm) op elke frequentie vanaf 2,9 GHz tot en met 3,2 GHz;

3. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 200 W (53 dBm) op elke frequentie vanaf 3,2 GHz tot en met 3,7 GHz; of

4. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 90 W (49,54 dBm) op elke frequentie vanaf 3,7 GHz tot en met 6,8 GHz;

nominale werkfrequenties vanaf 6,8 GHz tot en met 31,8 GHz met een fractionele bandbreedte van meer dan 10 %, en met één of meer van de volgende eigenschappen:

1. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 70 W (48,54 dBm) op elke frequentie vanaf 6,8 GHz tot en met 8,5 GHz;

2. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 50 W (47 dBm) op elke frequentie vanaf 8,5 GHz tot en met 12 GHz;

3. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 30 W (44,77 dBm) op elke frequentie vanaf 12 GHz tot en met 16 GHz; of

4. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 20 W (43 dBm) op elke frequentie vanaf 16 GHz tot en met 31,8 GHz;

een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 0,5 (27 dBm) op elke frequentie vanaf 31,8 GHz tot en met 37 GHz;

3A001 b. 4. een nominaal werkvermogen met een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 2 W (33 dBm) op elke frequentie vanaf 37 GHz tot en met 43,5 GHz, en met een fractionele bandbreedte van meer dan 10 %;

nominale werkfrequenties vanaf 43,5 GHz en met één van de volgende eigenschappen:

1. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 0,2 W (23 dBm) op elke frequentie vanaf 43,5 GHz tot en met 75 GHz, en met een fractionele bandbreedte van meer dan 10 %;

2. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 20 mW (13 dBm) op elke frequentie vanaf 75 GHz tot en met 90 GHz, en met een fractionele bandbreedte van meer dan 5 %; of

3. een verzadigd piekuitgangsvermogen hoger dan 0,1 nW (-70 dBm) op elke frequentie vanaf 90 GHz; of

nominale werkfrequenties vanaf 2,7 GHz en met alle volgende eigenschappen:

1. een piekverzadigingsvermogen (in watt), Psat, groter dan 400 gedeeld door de gekwadrateerde maximale werkfrequentie (in GHz) [Psat > 400 W*GHz2/fGHz2];

2. een fractionele bandbreedte van 5 % of meer; en

3. Technische noot:

twee loodrecht op elkaar staande zijden met ofwel een lengte d (in cm) die kleiner is dan of gelijk is aan 15 gedeeld door de laagste werkfrequentie in GHz [d ≤ 15 cm*GHz/fGHz]; 2,7 GHz moet gebruikt worden als de laagste werkfrequentie (fGHz) in de formule in 3A001.b.4.f.3. voor versterkers die een nominale werkfrequentie hebben van 2,7 GHz en lager [d ≤ 15 cm*GHz/2,7 GHz].

5. elektronisch of magnetisch afstembare banddoorlaat of bandsperfilters met meer dan vijf afstembare resonatoren, geschikt om af te stemmen over een frequentieband van 1,5:1 (fmax./fmin.) in minder dan 10 μs bij:

5. a.

een banddoorlaatbandbreedte van meer dan 0,5 % van de centrale frequentie; of

een bandsperbandbreedte van minder dan 0,5 % van de centrale frequentie;

6. niet gebruikt;

7. converters en harmonische mixers, ontworpen voor het vergroten van het frequentiebereik van apparatuur als beschreven in 3A002.c., 3A002.d., 3A002.e. 3A002.f. boven de daarin aangegeven grenzen;

8. 3A001 b. microgolfvermogensversterkers die buizen als omschreven in 3A001.b.1. bevatten en alle volgende eigenschappen bezitten: Noot: 3A001.b.8 heeft geen betrekking op apparatuur die is ontworpen of gespecificeerd voor een frequentieband die door de ITU toegewezen is voor radiocommunicatiediensten, maar niet voor radiodeterminatie.

8. a.

werkfrequenties hoger dan 3 GHz;

een gemiddeld vermogen per massaeenheid aan de uitgang van meer dan 80 W/kg; en

een volume van minder dan 400 cm3.

9. Technische noten: 1.2.

Microgolfvermogensmodules (MPM) bestaande uit ten minste een lopende-golfbuis, een monolithisch geïntegreerde microgolf-schakeling en een geïntegreerde elektronische vermogensregelaar, met alle volgende eigenschappen: De berekening van het volume in 3A001.b.9.b. wordt aan de hand van het volgende voorbeeld toegelicht: voor een nominaal maximumvermogen van 20 W bedraagt het volume: 20 W × 10 cm3/W = 200 cm3. De opstarttijd in 3A001.b.9.a. is de tijd die verloopt tussen volledig uitgeschakeld en volledig operationeel; hieronder is dus ook de opwarmtijd van de MPM begrepen.

9. a.

een opstarttijd, van uitgeschakeld naar volledig operationeel, van minder dan 10 seconden;

een volume van minder dan het nominale maximumvermogen in watt, vermenigvuldigd met 10 cm3/W; en

een momentele brandbreedte groter dan 1 octaaf (fmax. > 2fmin.) en een of meer van de volgende eigenschappen:

1. voor frequenties gelijk aan of kleiner dan 18 GHz, een RF-uitgangsvermogen van meer dan 100 W; of

2. een frequentie groter dan 18 GHz;

10. Technische noot:

oscillatoren en een samenbouw van oscillatoren die van alle onderstaande functionaliteiten zijn voorzien: In 3A001.b.10. staat F voor de verschuiving van de werkfrequentie in Hz en f voor de werkfrequentie in MHz.

10. a.

enkelzijband (SSB) faseruis, in dBc/Hz, beter dan - (126 + 20log10F-20log10f) om het even waar in het bereik van 10 Hz < F < 10 kHz; en

enkelzijband (SSB) faseruis, in dBc/Hz, beter dan - (114 + 20log10F-20log10f) om het even waar in het bereik van 10 kHz ≤ F < 500 kHz;

11. frequentiesynthesizer, samenstellingen met een frequentiewisseltijd, overeenkomstig een van de volgende eigenschappen: N.B.: Voor signaalanalysatoren, signaalgeneratoren, netwerkanalysatoren en microgolftestontvangers voor algemeen gebruik, zie respectievelijk 3A002.c., 3A002.d., 3A002.e. en 3A002.f.

11. a.

minder dan 156 ps;

minder dan 100 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 1,6 GHz binnen het synthesized frequentiebereik van hoger dan 4,8 GHz tot ten hoogste 10,6 GHz;

minder dan 250 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 10,6 GHz tot ten hoogste 31,8 GHz;

minder dan 500 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 31,8 GHz tot ten hoogste 43,5 GHz;

3A001 b. 11. minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 43,5 GHz tot ten hoogste 56 GHz;

minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 2,2 GHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 56 GHz tot ten hoogste 75 GHz; of

minder dan 1 ms binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van meer dan 75 GHz.

Elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor: Noot: 3A001.c. heeft geen betrekking op elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven, die van een specifieke band-, laag- of hoogdoorlaatfilter, bandsperfilter dan wel van specifieke resonantiefunctie voorzien zijn.

1. Technische noot:

elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische oppervlaktegolven en van akoestische golven die langs de oppervlakte scheren (‹surface wave›), met één of meer van de volgende eigenschappen: Onderdrukking van de zijlobben: is de maximale waarde van de onderdrukking zoals gespecificeerd in de technische toelichting.

1. a.

een draaggolffrequentie groter dan 6 GHz;

een draaggolffrequentie groter dan 1 GHz, doch kleiner dan 6 GHz, en één van de volgende eigenschappen:

1. een onderdrukking van de zijlobben groter dan 65 dB;

2. een product van de maximale vertragingstijd (tijd in μs en bandbreedte in MHz) groter dan 100;

3. een bandbreedte van meer dan 250 MHz; of

4. een dispersieve vertraging groter dan 10 μs; of

een draaggolffrequentie van 1 GHz of lager, en met één of meer van de volgende eigenschappen:

1. een product van de maximale vertragingstijd (tijd in μs en bandbreedte in MHz) groter dan 100;

2. een dispersieve vertraging groter dan 10 μs; of

3. een onderdrukking van de zijlobben groter dan 65 dB en een bandbreedte van meer dan 100 MHz;

2. elementen waarbij gebruik wordt gemaakt van akoestische golven in de gehele massa van het materiaal (‹bulk wave›) en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen met frequenties hoger dan 6 GHz;

3. akoestisch-optische signaalverwerkende elementen die gebruikmaken van een wisselwerking tussen akoestische golven (‹bulk wave› of ‹surface wave›) en lichtgolven en die geschikt zijn voor directe verwerking van signalen of beelden, met inbegrip van, doch niet beperkt tot, spectrale analyse, correlatie of convolutie;

Elektronische elementen of schakelingen die onderdelen bevatten vervaardigd van supergeleidende materialen die speciaal zijn ontworpen om te werken bij temperaturen beneden de kritische temperatuur van ten minste een van de supergeleidende bestanddelen en met een of meer van de volgende functies:

1. stroomschakelen voor digitale schakelingen die gebruikmaken van supergeleidende poorten waarbij het product van de vertragingstijd per poort (in seconden) en het energieverlies per poort (in watt) kleiner is dan 1014 J; of

2. frequentieselectie bij alle frequenties met toepassing van afstemkringen met een Q-waarde hoger dan 10000.

3A001 Hoge-energiecomponenten, als hieronder:

1. Technische noten: 1.2.3.4.

Cellen, als hieronder: Voor de toepassing van 3A001.e.1. wordt de energiedichtheid (Wh/kg) berekend uit de nominale spanning vermenigvuldigd met de nominale capaciteit in ampère-uur (Ah) gedeeld door de massa (in kg). Indien de nominale capaciteit niet is opgegeven, wordt de energiedichtheid berekend uit de nominale spanning in het kwadraat vermenigvuldigd met de ontladingstijd (in uur), gedeeld door de ontladingsbelasting (in ohm) en de massa (in kg). Voor de toepassing van 3A001.e.1. wordt een cel gedefinieerd als een elektrochemisch element dat voorzien is van positieve en negatieve elektroden, alsook een elektrolyt, en dat een bron van elektrische energie is. Het is de basisbouwsteen van een batterij. Voor de toepassing van 3A001.e.1.a. is een primaire cel een cel die niet ontworpen is om door enige andere bron te worden opgeladen. Voor de toepassing van 3A001.e.1.b. is een secundaire cel een cel die ontworpen is om door een externe elektrische bron te worden opgeladen. Noot: 3A001.e.1. heeft geen betrekking op batterijen, met inbegrip van ééncellige batterijen.

1. a.

primaire cellen met een energiedichtheid groter dan 550 Wh/kg bij 20 °C;

secundaire cellen met een energiedichtheid groter dan 300 Wh/kg bij 20 °C;

2. condensatoren geschikt voor hoge-energieopslag, als hieronder: N.B.: ZIE OOK 3A201.a. en de lijst van militaire goederen.

2. a.

condensatoren met een herhalingssnelheid van minder dan 10 Hz (‹single shot›-condensatoren) met alle volgende eigenschappen:

1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;

2. een energiedichtheid gelijk aan of hoger dan 250 J/kg; en

3. een totale energie gelijk aan of groter dan 25 kJ;

condensatoren met een herhalingssnelheid van 10 Hz of meer (‹repetition-rated›-condensatoren) met alle volgende eigenschappen:

1. een toelaatbare spanning gelijk aan of hoger dan 5 kV;

2. een energiedichtheid gelijk aan of groter dan 50 J/kg;

3. een totale energie gelijk aan of meer dan 100 J; en

4. een levensduur gelijk aan of langer dan 10000 cyclussen van laden en ontladen.

3. supergeleidende elektromagneten en solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor volledig opladen of ontladen in minder dan een seconde, met alle volgende eigenschappen: N.B.: ZIE OOK 3A201.b. Noot: 3A001.e.3. heeft geen betrekking op supergeleidende elektromagneten of solenoïden die speciaal zijn ontworpen voor medische apparatuur voor beeldvorming door middel van magnetische resonantie (Magnetic Resonance Imaging - MRI).

3. a.

de in de eerste seconde tijdens de ontlading geleverde energie is meer dan 10 kJ;

de binnendiameter van de stroomvoerende wikkelingen is groter dan 250 mm; en

de apparatuur heeft een nominale magnetische inductie van meer dan 8 T of een nominale totale stroomdichtheid in de wikkeling hoger dan 300 A/mm2;

4. Technische noot:

3A001 e. zonnecellen, CIC ‹(cell-interconnect-coverglass›)-samenstellingen, zonnepanelen en zonne-‹arrays› die voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd zijn, met een gemiddeld minimumrendement van meer dan 20 % bij een werktemperatuur van 301 K (28 °C) onder gesimuleerde AM0- belichting van 1367 watt per vierkante meter (W/m2); AMO (Air Mass Zero) slaat op de spectrale bestralingssterkte van zonlicht in de buitenste atmosfeer van de aarde bij een afstand tussen zon en aarde van één astronomische eenheid (AE).

Roterende absolute positiecodeerapparaten met een nauwkeurigheid die gelijk is aan of lager is dan ± 1,0 boogseconde.

g. Technische noot:

Vastestof-thyristoren en -thyristormodules met pulswerking die elektrisch, optisch of door elektronenstraling geschakeld worden, met één of meer van de volgende eigenschappen: Noot 1: 3A001.g. omvat: Noot 2: 3A001.g. heeft geen betrekking op thyristoren en thyristormodules die zijn ingebouwd in apparatuur voor toepassingen in civiele treinen of civiele vliegtuigen. Voor de toepassing van 3A001.g. bevat een thyristormodule één of meer thyristoren.

1. maximale inschakel-stroomsteilheid (di/dt) van meer dan 30000 A/μs en een sperspanning van meer dan 1100 V; of

2. een maximale inschakel-stroomsteilheid (di/dt) van meer dan 2000 A/μs en alle volgende eigenschappen:

2. a.

een pieksperspanning gelijk aan of groter dan 3000 V; en

een piekstroom (stootstroom) gelijk aan of groter dan 3000 A

SCRs (gestuurde halfgeleidergelijkrichters)

ETTs (Electrical Triggering Thyristors)

LTTs (Light Triggering Thyristors)

IGCTs (Integrated Gate Commutated Thyristors)

GTOs (Gate Turn-off Thyristors - uitschakelbare thyristoren)

MCTs (MOS Controlled Thyristors)

Solidtrons

h. Technische noot:

Vermogenshalfgeleiderschakelaars, vermogendiodes of modules met alle onderstaande eigenschappen: Noot 1: De in 3A001.h. bedoelde periodieke piekblokkeerspanning omvat de afvoer-bronspanning, de collector-emittorspanning, de periodieke pieksperspanning en de periodieke piekblokkeerspanning. 3A001 h.Noot 2: 3A001.h. omvat: Noot 3: 3A001.h. heeft geen betrekking op controleschakelaars, diodes of modules die verwerkt zijn in apparatuur die is ontworpen voor toepassingen in civiele voertuigen, civiele spoorvoertuigen of civiele vliegtuigen. Voor de toepassing van 3A001.h. bevatten modules een of meer vermogenshalfgeleiderschakelaars of vermogendiodes.

1. geschikt voor een maximale operationele junctietemperatuur van meer dan 488 K (215 °C);

2. periodieke piekblokkeerspanning van meer dan 300 V; en

3. continue stroom van meer dan 1 A.

junctie-veldeffecttransistors (JFETs)

verticale junctie-veldeffecttransistors (VJFETs)

metaaloxide-halfgeleider-veldeffecttransistors (MOSFETs)

dubbel gediffundeerde metaaloxide-halfgeleider-veldeffecttransistors (DMOSFETs)

bipolaire transistors met geïsoleerde poort (IGTBs)

hoge-elektronenmobiliteittransistors (HEMTs)

bipolaire junctietransistors (BJTs)

thyristors en gestuurde halfgeleidergelijkrichters (SCRs)

uitschakelbare thyristors (GTOs)

Emitter Turn-Off Thyristors (ETOs)

PiN-diodes

Schottkydiodes

Opnameapparatuur en oscilloscopen, als hieronder:

1. niet gebruikt;

2. niet gebruikt;

3. niet gebruikt;

4. niet gebruikt;

5. Technische noten: 1.2.

‹waveform digitisers› en recorders voor registratie van kortstondige verschijnselen (‹transient recorders›) met beide volgende eigenschappen: Bij instrumenten met een parallelle busarchitectuur is de continue verwerkingscapaciteit het product van de hoogste word rate en het aantal bit in een woord. Continue verwerkingscapaciteit betekent de grootste snelheid waarmee het instrument gegevens kan uitsturen naar het massageheugen zonder verlies van informatie terwijl de bemonsteringssnelheid en analoog/digitaal-omzetting niet worden onderbroken.

5. a.

digitaliseringssnelheid van 200 miljoen monsters per seconde en een scheidend vermogen van 10 bit of meer; en

een continue verwerkingscapaciteit van 2 Gbit/s of meer.

6. Technische noot:

3A002 a. digitale instrumentatierecorders, gebruikmakend van magneetschijf-geheugentechniek, met alle volgende eigenschappen, en daarvoor bestemde speciaal ontworpen digitale recorders: Digitale instrumentatierecordersystemen kunnen worden geconfigureerd met een digitiser geïntegreerd binnen of buiten de digitale recorder.

6. a.

Snelheid van digitale instrumentatierecordersystemen van 100 miljoen monsters per seconde met een scheidend vermogen van 8 bit of meer; en

een continue verwerkingscapaciteit van 1 Gbit/s of meer.

7. Real-time oscilloscopen met een verticale kwadratisch gemiddelde (rms) ruisspanning van minder dan 2 % van de totale schaal op de verticale schaalinstelling die voorziet in de laagste ruisspanningswaarde voor een 3 dB-bandbreedte van 60 GHz of meer per kanaal; Noot: 3A002.a.7. heeft geen betrekking op oscilloscopen voor equivalenttijd-bemonstering.

niet gebruikt;

Radiofrequentie-signaalanalysatoren, als hieronder:

1. signaalanalysatoren met een 3 dB resolutiebandbreedte hoger dan 10 MHz binnen een frequentiebereik hoger dan 31,8 GHz, tot ten hoogste 37,5 GHz;

2. signaalanalysatoren met een Displayed Average Noise Level (DANL - gemiddeld ruisniveau) van minder (beter) dan -150 dBm/Hz binnen een frequentiebereik hoger dan 43,5 GHz, tot ten hoogste 75 GHz;

3. signaalanalysatoren met een frequentie van meer dan 75 GHz;

4. signaalanalysatoren met alle volgende eigenschappen: Noot: 3A002.c.4. heeft geen betrekking op signaalanalysatoren die uitsluitend gebruikmaken van bandbreedtefilters met constant percentage (ook wel octaaf- of deeloctaaffilters genoemd).

4. a.

een real-time bandbreedte van meer dan 85 MHz; en

b. Technische noten: 1.2.

100 % ontdekkingskans met een vermindering van minder dan 3 dB vanaf de volledige amplitude als gevolg van hiaten of venstereffecten van signalen met een duur van 15 μs of minder; Naar ontdekkingskans als bedoeld in 3A002.c.4.b. wordt ook wel verwezen als onderscheppingskans of ontvangstkans. Voor de toepassing van 3A002.c.4.b. is de periode van 100 % ontdekkingskans gelijkwaardig aan de minimale signaalduur die nodig is voor het gespecificeerde niveau van de meetonzekerheid.

5. Signaalanalysatoren met een frequentiemasker-trigger-functie met een 100 % kans op trigger (ontvangst) voor signalen met een duur van 15μs of minder;

d. Technische noten: 1.2.

‹Synthesized› signaalgeneratoren die uitgangsfrequenties afgeven waarvan de nauwkeurigheid en stabiliteit op korte of lange termijn wordt bepaald door, afgeleid van, of beheerst door de inwendige hoofdreferentie-oscillator met een of meer van de volgende eigenschappen: Noot 1: Voor de toepassing van 3A002.d. omvat de term ‹synthesized› signaalgeneratoren ook willekeurige-golfvormgeneratoren en functiegeneratoren. Noot 2: 3A002.d. heeft geen betrekking op apparatuur waarbij de uitgangsfrequentie wordt verkregen door het optellen of aftrekken van twee of meer kristaloscillatorfrequenties, waarna de uitkomst eventueel wordt vermenigvuldigd. Het maximale ‹synthesized› frequentiebereik van een willekeurige-golfvorm of functiegenerator wordt berekend door de bemonsteringssnelheid, in monsters per seconde, met een factor 2,5 te delen. In 3A002.d.1.a. wordt onder pulsduur verstaan het tijdsinterval tussen het moment waarop de voorkant van een puls 50 % van de piekwaarde bereikt en het moment waarop de achterkant van die puls 50 % van de piekwaarde bereikt.

1. geschikt voor het genereren van pulsgemoduleerde signalen met alle volgende eigenschappen, binnen het gesynthetiseerde frequentiebereik van 31,8 GHz tot ten hoogste 75 GHz.

1. a.

een pulsduur van minder dan 100 ns; en

in-/uitschakeltijd gelijk aan of hoger dan 65 dB;

2. 3A002 d. een uitgangsvermogen van meer dan 100 mW (20 dBm) binnen een ‹synthesized› frequentiebereik hoger dan 43,5 GHz tot ten hoogste 75 GHz;

3. een frequentiewisseltijd overeenkomstig één van de volgende eigenschappen:

3. a.

niet gebruikt;

minder dan 100 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 1,6 GHz binnen het synthesized frequentiebereik van hoger dan 4,8 GHz tot ten hoogste 10,6 GHz;

minder dan 250 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 10,6 GHz tot ten hoogste 31,8 GHz;

minder dan 500 μs voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het synthesized frequentiebereik van hoger dan 31,8 GHz tot ten hoogste 43,5 GHz;

minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 550 MHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 43,5 GHz tot ten hoogste 56 GHz; of

minder dan 1 ms voor elke frequentiewisseling van meer dan 2,2 GHz binnen het ‹synthesized› frequentiebereik van hoger dan 56 GHz tot ten hoogste 75 GHz;

4. Technische noot:

enkele zijband (SSB) faseruis, in dBc/Hz, gespecificeerd als al het volgende: In 3A002.d.4. staat F voor de verschuiving van de werkfrequentie in Hz en f voor de werkfrequentie in MHz.

4. a.

minder (beter) dan - (126 + 20log10F-20log10f) om het even waar in het bereik van 10 Hz < F < 10 kHz om het even waar in het ‹synthesized› frequentiebereik van meer dan 3,2 GHz maar niet meer dan 75 GHz; en

Minder (beter) dan - (114 + 20log10F-20log10f) om het even waar in het bereik van 10 kHz ≤ F < 500 kHz om het even waar in het ‹synthesized› frequentiebereik van meer dan 3,2 GHz maar niet meer dan 75 GHz; of

5. een maximale ‹synthesized› uitgangsfrequentie vanaf 75 GHz;

Netwerkanalysatoren met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. een uitgangsvermogen van meer dan 31,62 mW (15 dBm) binnen een werkfrequentiebereik hoger dan 43,5 GHz tot ten hoogste 75 GHz;

2. een uitgangsvermogen van meer dan 1 mW (0 dBm) binnen een werkfrequentiebereik hoger dan 75 GHz tot ten hoogste 110 GHz;

3. Technische noot:

3A002 e. Niet-lineaire vectormeetfunctie op frequenties hoger dan 50 GHz maar niet hoger dan 110 GHz; of Niet-lineaire vectormeetfunctie is het vermogen van een instrument om de testresultaten van apparaten in het grootsignaaldomein of niet-lineaire vervormingsbereik te analyseren.

4. een maximale werkfrequentie vanaf 110 GHz;

Microgolftestontvangers met beide volgende eigenschappen:

1. een maximale werkfrequentie vanaf 110 GHz; en

2. geschikt voor het gelijktijdig meten van amplitude en fase;

Atomaire frequentiestandaarden met een van de volgende eigenschappen:

1. voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd;

2. niet rubidium en een langetermijnstabiliteit van minder (beter) dan 1 × 10-11/maand; of

3. niet-voor gebruik in de ruimte gekwalificeerd met alle volgende eigenschappen:

3. a.

rubidiumstandaard;

langetermijnstabiliteit van minder (beter) dan 1 × 10-11/maand; en

totaal energieverbruik van minder dan 1 W.

analoog/digitaalomzetters, geschikt voor gebruik in raketten en ontworpen om te voldoen aan de militaire specificaties voor ruw gebruik voor apparatuur;

versnellers waarmee elektromagnetische straling kan worden geproduceerd in de vorm van remstraling afkomstig van versnelde elektronen met een energie van 2 MeV of meer en systemen die deze versnellers bevatten. Noot: 3A101.b. heeft geen betrekking op apparatuur speciaal bestemd voor medische doeleinden.

3A Technische noten: 1.2. a.

condensators met een van de volgende groepen eigenschappen:

1. a.

een toelaatbare spanning hoger dan 1,4 kV;

energieopslag groter dan 10 J;

capaciteit groter dan 0,5 μF; en

serie-inductantie minder dan 50 nH; of

2. a.

een toelaatbare spanning hoger dan 750 V;

capaciteit groter dan 0,25 μF; en

serie-inductantie minder dan 10 nH;

supergeleidende solenoïde elektromagneten met alle volgende eigenschappen: Noot: 3A201.b. heeft geen betrekking op magneten die speciaal zijn ontworpen voor en worden uitgevoerd als onderdeel van medische apparatuur voor beeldvorming door middel van kernmagnetische resonantie (‹Nuclear Magnetic Resonance› - NMR). De zinsnede als onderdeel van betekent niet noodzakelijkerwijs werkelijk als onderdeel van dezelfde zending. Afzonderlijke zendingen vanuit verschillende bronnen zijn toegestaan, mits in de bijbehorende exportdocumenten duidelijk wordt vermeld dat de zendingen als onderdeel van de beeldvormende systemen worden verzonden.

1. geschikt voor het opwekken van een magnetisch veld van meer dan 2 T;

2. L/D (lengte gedeeld door binnendiameter) groter dan 2;

3. de binnendiameter is groter dan 300 mm; en

4. een magneetveld dat over 50 % van het interne veld uniform is tot beter dan 1 %;

c. Technische noten: 1.2.3.4.

röntgen-generatoren met flitsontlading of gepulseerde elektronenversnellers met een van de volgende groepen eigenschappen: Noot: 3A201.c. heeft geen betrekking op versnellers die een bestanddeel zijn van toestellen ontworpen voor andere toepassingen dan elektronenbundels of röntgenstraling (b.v. elektronenmicroscopie) en versnellers ontworpen voor medische toepassingen. Het prestatiegetal wordt als volgt gedefinieerd: K = 1,7 × 103 × V2,65 × Q waarin V de elektronpiekenergie is in miljoen elektronvolt. Bij een bundelpulsduur korter dan of gelijk aan 1 μs is Q de totale versnelde lading in coulomb. Bij een bundelpulsduur langer dan 1 μs is Q de maximale versnelde lading in 1 microseconde. Q is gelijk aan de integraal van i over de tijd t, zijnde ofwel 1 μs ofwel de tijdsduur van de bundelpuls, welk van de twee het kortste is, (Q = ∫ idt), waarbij i de bundelstroom in ampère is en t de tijd in seconden. Piekvermogen = (piekspanning in volt) × (maximale bundelstroom in ampère). 3A201 c. In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de tijdsduur van de bundelpuls ofwel 1 μs ofwel de duur van de door een microgolfmodulatorpuls voortgebrachte deeltjesbundel, welk van de twee het kortste is. In machines die werken op basis van versnellende microgolftrilholtes is de maximale bundelstroom de gemiddelde stroom voor de duur van een bundelpuls.

1. a.

een elektronpiekenergie van 500 keV of meer doch minder dan 25 MeV; en

een prestatiegetal (K) van 0,25 of hoger; of

2. a.

een elektronpiekenergie van 25 MeV of meer; en

een piekvermogen groter dan 50 MW.

een meerfasige uitgang geschikt voor het leveren van een vermogen van 40 VA of groter;

geschikt om te werken in het frequentiegebied van 600 Hz of hoger; en

frequentieafwijking kleiner dan 0,2 %.

1. ze moeten worden teruggestuurd naar de oorspronkelijke fabrikant om de verbeteringen aan te brengen of de beperkingen op te heffen;

2. programmatuur zoals gespecificeerd in 3D225 is vereist om de prestaties te verbeteren of te leveren teneinde de eigenschappen van 3A225 te vervullen; of

3. technologie in de vorm van sleutels of codes zoals gespecificeerd in 3E225 is vereist om de prestaties te verbeteren of te leveren teneinde de eigenschappen van 3A225 te vervullen.

3A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.

over een periode van acht uur ononderbroken 100 V of meer kunnen produceren bij een stroom van 500 A of meer; en

met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur.

over een periode van acht uur ononderbroken 20 kV of meer kunnen produceren bij een stroom van 1 A of meer; en

met een stroom- of spanningsstabiliteit beter dan 0,1 % over een periode van acht uur.

buizen met koude kathode, al dan niet met gas gevuld, die op dezelfde wijze als een vonkbrug werken, en alle volgende eigenschappen hebben: Noot: Onder 3A228 vallen met gas gevulde krytronbuizen en vacuümsprytronbuizen.

1. drie of meer elektroden;

2. een maximale anodespanning van 2,5 kV of meer;

3. een maximale anodestroomsterkte van 100 A of meer; en

4. een anodevertragingstijd van 10 μs of minder;

gestuurde vonkbruggen met beide volgende eigenschappen:

1. een anodevertragingstijd van 15 μs of minder; en

2. een toelaatbare maximale stroomsterkte van 500 A of meer.

andere dan de in 3A001.g. of in 3A001.h. gespecificeerde modules of samenstellingen met een snelle schakelfunctie met alle volgende eigenschappen:

1. een maximale anodespanning hoger dan 2 kV;

2. een maximale anodestroomsterkte van 500 A of meer; en

3. een inschakeltijd van 1 μs of minder.

ontstekingsmechanismen met detonator (initiatorsystemen, ontstekers), met inbegrip van elektrisch gestarte, explosief gestarte en optisch gestarte ontstekingsmechanismen, anders dan die zijn vermeld in 1A007.a., ontworpen voor het starten van meerdere bestuurde detonatoren bedoeld in 1A007.b.;

modulaire elektrische pulsgeneratoren (pulseerders) met alle volgende eigenschappen: Noot: 3A229.b. omvat starters voor xenonflitslampen.

1. ontworpen voor draagbaar, mobiel of ruw gebruik;

2. in staat hun energie in minder dan 15 μs in een belasting van minder dan 40 ohm af te geven;

3. met een uitgangsstroomsterkte hoger dan 100 A;

4. geen enkele afmeting groter dan 30 cm;

5. gewicht minder dan 30 kg; en

6. gespecificeerd voor gebruik in een breed temperatuurgebied 223 K (-50 °C) tot 373 K (100 °C) of gespecificeerd als geschikt voor ruimtevaarttoepassingen.

Micro-ontstekingseenheden met alle volgende eigenschappen:

1. geen afmeting groter dan 35 mm;

2. een toelaatbare spanning gelijk aan of groter dan 1 kV; en

3. capaciteit gelijk aan of groter dan 100 nF.

een uitgangsspanning van meer dan 6 V in een weerstandsbelasting van minder dan 55 ohm, en

met een pulsstijgtijd van minder dan 500 ps.

3A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.

ontworpen om te werken zonder uitwendig vacuümsysteem; en

gebruikmaken van

1. elektrostatische versnelling voor het opwekken van een tritium-deuterium-kernreactie; of

2. elektrostatische versnelling voor het opwekken van een deuterium -deuterium-kernreactie en in staat 3 × 109 neutrons/s of meer aan output te leveren.

niet gebruikt;

opstellingen waarbij gebruik wordt gemaakt van enkel- of meervoudige detonatoren en die zijn ontworpen om door middel van een enkel ontstekingssignaal een explosief oppervlak van meer dan 5000 mm2 bijna gelijktijdig tot ontploffing te brengen met een ontstekingstijdmarge over het oppervlak van minder dan 2,5 μs.

inductief gekoppelde plasmamassaspectrometers (ICP/MS);

massaspectrometers werkend door middel van een gloeiontlading (GDMS);

massaspectrometers werkend door middel van thermische ionisatie (TIMS);

Massaspectrometers werkend door middel van elektronenbeschieting met beide volgende eigenschappen:

1. Een molecuulbundelinlaatsysteem dat een gecollimeerde bundel analytmoleculen injecteert in een regio van de ionenbron waar de moleculen zijn geïoniseerd met een elektronenbundel; en

2. Een of meer koudevallen die kunnen worden afgekoeld tot een temperatuur van 193 K (-80 °C);

niet gebruikt;

massaspectrometers uitgerust met een microfluoreer-ionenbron ontworpen voor actiniden of actinidefluoriden.

3A Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. Technische noten: 1.2. a.

een toelaatbare spanning hoger dan 2 kV; en

inductie van minder dan 20 nH.

3B Test-, inspectie- en productieapparatuur 3B001 Productieapparatuur voor halfgeleiderelementen of materialen, als hieronder, en speciaal ontworpen onderdelen en toebehoren daarvoor: 3B002 Testapparatuur, speciaal ontworpen voor het testen van afgewerkte of half-afgewerkte halfgeleiderelementen, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren:

3B a.

Apparatuur voor epitaxiale groei, als hieronder:

1. geschikt om een laag van een ander materiaal dan silicium met een laagdikte-uniformiteit beter dan ± 2,5 % over een afstand van 75 mm of meer te produceren; Noot: 3B001.a.1. omvat apparatuur voor atomaire-lagenepitaxie (ALE).

2. reactoren voor het chemisch neerslaan van organometaaldamp (MOCVD), ontworpen voor epitaxiale groei van samengestelde halfgeleiders van materiaal dat twee of meer van de volgende elementen bevat: aluminium, gallium, indium, arseen, fosfor, antimoon of stikstof;

3. apparatuur voor het opbrengen van epitaxiale lagen door middel van moleculaire bundels met gebruik van gasvormige of vaste bronnen;

Apparatuur ontworpen voor ionenimplantatie, met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. niet gebruikt;

2. wordt ontworpen en geoptimaliseerd voor gebruik bij een stralingsenergie van 20 keV of meer en een bundelstroomsterkte van 10 mA of meer voor het implanteren van waterstof, deuterium of helium;

3. geschikt voor direct schrijven;

4. een stralingsenergie van 65 keV of meer en een bundelstroomsterkte van 45 mA of meer om met hoge energie zuurstof te implanteren in een verwarmd substraat bestaande uit halfgeleidermateriaal; of

5. wordt ontworpen en geoptimaliseerd voor gebruik bij een stralingsenergie van 20 keV of meer en een bundelstroomsterkte van 10 mA om silicium te implanteren in een substraat bestaande uit halfgeleidermateriaal verwarmd tot 600 °C of meer;

Apparatuur voor het etsen door middel van anisotrope droge methoden (met plasma), met de volgende eigenschappen:

1. ontworpen of geoptimaliseerd om kritische afmetingen te produceren van 65 nm of minder; en

2. niet-uniformiteit binnen de ‹wafer› van maximaal 10 % 3σ, gemeten tot op 2 mm of minder van de rand;

Niet gebruikt;

e. Technische noten: 1.2.

Centrale ‹wafer›transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch laden van de ‹wafers› en met: Noot: 3B001.e. heeft geen betrekking op robotachtige automatische wafertransportsystemen die speciaal zijn ontworpen voor gelijktijdige bewerking van ‹wafers›. In 3B001.e. wordt onder halfgeleiderbewerkingstools verstaan, modulaire tools die fysische processen voor het produceren van functioneel verschillende halfgeleiders opleveren, zoals afzetting, ets, implantatie of thermische verwerking. In 3B001.e. wordt onder stapsgewijze bewerking van verscheidene ‹wafers› tegelijk verstaan, het vermogen om elke ‹wafer› met verschillende halfgeleiderbewerkingstools te bewerken, bijvoorbeeld door elke ‹wafer› van de ene naar de andere tool en vervolgens naar nog een derde tool over te brengen door middel van de centrale ‹wafer›transportsystemen met meerdere kamers, voor het automatisch laden van de ‹wafers›.

1. interfaces voor de in- en uitvoer van de ‹wafers›, waaraan meer dan twee functioneel verschillende halfgeleiderbewerkingstools als bedoeld in 3B001.a., 3B001.b. of 3B001.c. kunnen worden aangesloten; en

2. ontworpen ter vorming van een geïntegreerd systeem in een vacuümomgeving voor stapsgewijze bewerking van verscheidene ‹wafers› tegelijk;

3B001 Lithografische apparatuur, als hieronder:

1. repeteerapparatuur (‹step and repeat› (‹direct step on wafer›) apparatuur of ‹step and scan› (scanner) apparatuur) voor uitrichten en belichten ten behoeve van het bewerken van wafers, waarbij gebruik wordt gemaakt van foto-optische of röntgenmethoden, met één of beide van de volgende eigenschappen:

1. a.

golflengte van de lichtbron korter dan 245 nm; of

b. Technische noot:

in staat om patronen te produceren met een ‹minimum resolvable feature size› (MRF) van 95 nm of minder; De ‹minimum resolvable feature size› (MRF) wordt berekend volgens de volgende formule: MRFgolflengte van de lichtbron in nmK factornumerieke apertuur waarbij de K-factor = 0,35

2. Apparatuur voor imprintlithografie die structuren van 95 nm of minder kan produceren; Noot: 3B001.f.2. omvat:

apparatuur voor microcontactdruk

apparatuur voor warm pregen (hot embossing)

apparatuur voor nano-imprintlithografie

apparatuur voor S-FIL (Step and flash imprint lithography)

3. apparatuur die speciaal is ontworpen voor het vervaardigen van maskers of het bewerken van halfgeleiderelementen met gebruikmaking van directe schrijfmethoden, met alle volgende eigenschappen:

3. a.

gebruikmaken van afgebogen en gefocusseerde elektronen-, ionen- of laser-bundels; en

met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. een brandpuntsvlak kleiner dan 0,2 μm;

2. geschikt voor het maken van patroonelementen kleiner dan 1 μm; of

3. een overlay-nauwkeurigheid beter dan ± 0,20 μm (3 sigma);

maskers of fijne optische netwerken (‹reticles›) voor geïntegreerde schakelingen, vermeld in 3A001;

meerlagige maskers met een niet door 3B001.g. gespecificeerd faseverschuivingslaag en met een of meer van de volgende eigenschappen: Noot: 3B001.h. heeft geen betrekking op maskers bestaande uit verscheidene lagen met een faseverschuivingslaag die ontworpen zijn voor de fabricage van geheugenmedia die niet onder 3A001 vallen.

1. gemaakt op een maskerend onafgewerkt substraat van glas met een specifieke dubbelbreking van 7 nm/cm; of

2. ontworpen om te worden gebruikt door lithografische apparatuur met een lichtgolfengte van minder dan 245 nm;

imprintlithografie-templates ontworpen voor de in 3A001 gespecificeerde geïntegreerde schakelingen.

voor het testen van S-parameters van transistorelementen bij frequenties hoger dan 31,8 GHz;

niet gebruikt;

voor het testen van in 3A001.b.2. vermelde geïntegreerde schakelingen voor microgolven;

3C Materialen 3C001 Hetero-epitaxiale materialen bestaande uit een substraat met verscheidene gestapelde epitaxiaal gegroeide lagen van: Noot: 3C001.d. heeft geen betrekking op substraat met één of meer P-type epitaxiale lagen GaN, InGaN, AlGaN, InAlN, InAlGaN, GaP, InGaP, AlInP of InGaAlP, onafhankelijk van de volgorde van de elementen, behalve wanneer de P-type epitaxiale laag zich tussen N-type lagen bevindt. 3C002 ‹Resists› (gevoelige lagen), als hieronder, en substraten bekleed met de volgende ‹resists›: 3C003 Organisch-anorganische verbindingen, als hieronder: Noot: 3C003 heeft alleen betrekking op verbindingen waarvan het metallische, deels metallische of niet-metallische element direct gekoppeld is aan koolstof in het organische deel van het molecuul. 3C004 Hydriden van fosfor, arseen of antimoon, met een zuiverheid hoger dan 99,999 %, zelfs bij verdunning in edelgassen of waterstof. Noot: 3C004 heeft geen betrekking op hydriden die 20 mol % of meer edelgassen of waterstof bevatten. 3C005 Semigeleidende substraten of walsblokken, monokristallen of andere voorvormstukken (preforms) van siliciumcarbide (SiC), galliumnitride (GaN), aluminiumnitride (AlN) of aluminiumgalliumnitride (AlGaN), met een weerstand van meer dan 10000 ohm-cm bij een temperatuur van 20 °C. 3C006 De in 3C005 bedoelde substraten met ten minste één epitaxiale laag siliciumcarbide, galliumnitride, aluminiumnitride of aluminiumgalliumnitride.

3C a.

silicium (Si);

germanium (Ge);

siliciumcarbide (SiC); of

III/V gallium- of indium-verbindingen.

‹resists› ontworpen voor halfgeleiderlithografie, als hieronder:

1. positieve ‹resists› die optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik bij golflengten van minder dan 245 nm maar gelijk aan of meer dan 15 nm;

2. Positieve ‹resists› die zijn aangepast (geoptimaliseerd) voor het gebruik bij golflengten van minder dan 15 nm maar meer dan 1 nm;

alle ‹resists› ontworpen voor gebruik met elektronen- of ionenbundels met een gevoeligheid van 0,01 microcoulomb/mm2 of beter;

niet gebruikt;

alle ‹resists› die optimaal geschikt zijn gemaakt voor beeldvorming aan het oppervlak;

alle ‹resists› die ontworpen zijn of optimaal geschikt zijn gemaakt voor gebruik met de in 3B001.f.2. bedoelde imprintlithografieapparatuur, waarbij gebruik wordt gemaakt van een uithardingsproces onder invloed van warmte of licht.

organische metaalverbindingen van aluminium, gallium of indium met een zuiverheidsgraad (op metaalbasis) hoger dan 99,999 %;

organische arseen-, antimoon- en fosforverbindingen met een zuiverheidsgraad (op basis van de anorganische elementen) hoger dan 99,999 %.

3D Technische noot:

Programmatuur 3D001 Programmatuur (software), speciaal ontworpen voor de ontwikkeling of de productie van de apparatuur die is vermeld in 3A001.b. tot en met 3A002.g. of in 3B. 3D002 Programmatuur, speciaal ontworpen voor het gebruik van de apparatuur die is vermeld in 3B001.a. tot en met f., in 3B002 of 3A225. 3D003 Op fysische elementen gebaseerde simulatieprogrammatuur, speciaal ontworpen voor de ontwikkeling van lithografische, ets- of opdampingsprocedés voor het omzetten van maskerpatronen in specifieke topografische patronen in geleiders en diëlektrische of halfgeleidermaterialen. In 3D003 betekent op fysische elementen gebaseerde het gebruikmaken van berekeningen om een fysische oorzaak-en-gevolg-keten te berekenen op basis van fysische grootheden (bv. temperatuur, druk, diffusieconstanten en eigenschappen van halfgeleidermaterialen). Noot: Bibliotheken, ontwerpmodellen of daarmee samenhangende gegevens voor het ontwerpen van halfgeleiderelementen of geïntegreerde schakelingen worden beschouwd als technologie. 3D004 Programmatuur, speciaal ontworpen voor de ontwikkeling van apparatuur als vermeld in 3A003. 3D101 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor het gebruik van apparatuur als vermeld in 3A101.b. 3D225 Programmatuur speciaal ontworpen voor het verbeteren of leveren van de prestaties van frequentieomzetters of frequentiegeneratoren om te voldoen aan de eigenschappen van 3A225.

3E Technologie 3E001 Technologie volgens de algemene technologienoot voor de ontwikkeling of productie van apparatuur of materialen, vermeld in 3A, 3B of 3C; Noot 1: 3E001 heeft geen betrekking op technologie voor de productie van apparatuur of onderdelen die onder 3A003 vallen. Noot 2: 3E001 heeft geen betrekking op technologie voor de ontwikkeling of de productie van geïntegreerde schakelingen bedoeld in 3A001.a.3 tot en met 3A001.a.12, met de volgende eigenschappen: 3E002 Technologie volgens de algemene technologienoot, anders dan vermeld in 3E001, voor de ontwikkeling of de productie van een microprocessor-microschakelings-, een microcomputer-microschakelings- of een microbesturings-microschakelingskern met een logische rekeneenheid (ALU) met een toegangsbereik van 32 bit of meer en met één of meer van de volgende eigenschappen: Noot 1: 3E002 heeft geen betrekking op technologie voor de ontwikkeling of de productie van microprocessorkernen met alle volgende eigenschappen: Noot 2: 3E002 omvat ook technologie voor digitale signaalprocessoren en digitale <array> processoren. 3E003 Andere technologie voor de ontwikkeling of productie van: 3E101 Technologie overeenkomstig de algemene technologienoot voor het gebruik van apparatuur of programmatuur, vermeld in 3A001.a.1. of 2., 3A101, 3A102 of 3D101. 3E102 Technologie volgens de algemene technologienoot voor de ontwikkeling van programmatuur, vermeld in 3D101. 3E201 Technologie volgens de algemene technologienoot voor het gebruik van apparatuur, vermeld in 3A001.e.2., 3A001.e.3., 3A001.g., 3A201, 3A225 tot en met 3A234. 3E225 Technologie in de vorm van codes of sleutels voor het verbeteren of leveren van de prestaties van frequentieomzetters of frequentiegeneratoren om te voldoen aan de eigenschappen van 3A225.

3E a.

gebruik van technologie groter dan of gelijk aan 0,130 μm; en

bevat een meerlagenstructuur met drie of minder metaallagen.

a. Technische noot:

een vectorprocessor ontworpen om meer dan twee berekeningen op drijvende-kommavectoren (eendimensionale <arrays> van getallen van 32 bit of meer) gelijktijdig uit te voeren; Een vectorprocessor is een processor met ingebouwde instructies waarbij gelijktijdig verscheidene berekeningen worden uitgevoerd op drijvende-kommavectoren (eendimensionale <arrays> van getallen van 32 bit of meer), met ten minste één vector-ALU.

ontworpen om meer dan vier drijvendekommabewerkingen van 64 bit of hoger per cyclus uit te voeren; of

3E002 ontworpen om meer dan vier vastekomma-MAC(multiply-accumulate)-resultaten van 16 bit per cyclus te realiseren (bijvoorbeeld de digitale bewerking van analoge informatie die in digitale vorm is omgezet, ook bekend als digitale signaalbewerking). Noot: 3E002.c. heeft geen betrekking op technologie voor multimedia-uitbreidingen.

gebruik van technologie groter dan of gelijk aan 0,130 μm; en

meerlagenstructuren van vijf of minder metaallagen.

micro-elektronische vacuümelementen;

elektronische halfgeleiderelementen met een heterostructuur, zoals transistors met hoge elektronenmobiliteit (HEMT), hetero bipolaire transistors (HBT), elementen met een kwantumval of superrooster; Noot: 3E003.b. heeft geen betrekking op technologie voor hoge-elektronenmobiliteit-transistoren (HEMT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz en hetero-junction bipolaire transistoren (HBT) werkende bij frequenties van minder dan 31,8 GHz.,

supergeleidende elektronische elementen;

substraten van diamantfilm voor elektronische componenten;

SOI (silicon-on-insulator)-substraten voor geïntegreerde schakelingen met siliciumdioxide als isolator;

substraten van siliciumcarbide voor elektronische onderdelen;

elektronische vacuümbuizen werkende bij frequenties van 31,8 GHz of hoger.

CATEGORIE 4 COMPUTERS

Noot 1: Computers, aanverwante apparatuur of programmatuur die telecommunicatie- of lokaal netwerk- functies verrichten, dienen tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie). Noot 2: Besturingseenheden die zorgen voor de directe onderlinge verbinding van de hoofdlijnen of kanalen van de centrale verwerkingseenheden, het werkgeheugen en de schijvenbesturingseenheden worden niet beschouwd als telecommunicatieapparatuur als omschreven in categorie 5, deel 1 (Telecommunicatie). N.B.: Zie 5D001 voor de embargostatus van programmatuur die speciaal is ontworpen voor pakketschakelen. Noot 3: Computers, aanverwante apparatuur of programmatuur die cryptografische of cryptoanalytische functies verrichten of certificeerbare veiligheid op verscheidene niveaus of certificeerbare gebruikersisolatie verschaffen, of die de elektromagnetische compatibiliteit (EMC) beperken, dienen tevens te worden getoetst aan de criteria van categorie 5, deel 2 (Informatiebeveiliging).

4A Systemen, Apparatuur en Onderdelen 4A001 Elektronische computers en aanverwante apparatuur, met een of meer van de volgende en samenstellingen en speciaal ontworpen onderdelen daarvoor: N.B.: ZIE OOK 4A101. 4A003 Digitale computers, samenstellingen en aanverwante apparatuur daarvoor, zoals hieronder vermeld, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: Noot 1: 4A003 heeft mede betrekking op: Noot 2: De embargostatus van de in 4A003 omschreven digitale computers of aanverwante apparatuur wordt bepaald door de embargostatus van andere apparatuur of systemen, mits: 4A004 Computers, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen aanverwante apparatuur, samenstellingen en onderdelen daarvoor: 4A005 systemen, apparatuur en onderdelen daarvan, speciaal ontworpen of aangepast voor het maken, exploiteren of leveren van, of communiceren met, inbraakprogrammatuur. 4A101 Analoge computers, digitale computers of digitale differentiaalanalysators, anders dan bedoeld in 4A001.a.1., geschikt voor ruw gebruik en ontworpen of aangepast voor gebruik in ruimtelanceervoertuigen, vermeld in 9A004, of sonderingsraketten, vermeld in 9A104. 4A102 Hybride computers, speciaal ontworpen voor het modelleren, simuleren of integreren het ontwerp van ruimtelanceervoertuigen, bedoeld in 9A004, of sonderingsraketten, bedoeld in 9A104. Noot: Deze post is alleen van toepassing als de apparatuur wordt geleverd met programmatuur, vermeld in 7D103 of 9D103.

4A a.

speciaal ontworpen voor één van beide volgende eigenschappen:

1. geschikt voor werktemperaturen lager dan 228 K (-45 °C) of hoger dan 358 K (85 °C); of Noot: 4A001.a.1. heeft geen betrekking op computers die speciaal zijn ontworpen voor toepassingen in civiele automobielen, treinen of civiele vliegtuigen.

2. de stralingsbestendigheid overschrijdt één of meer van de volgende specificaties: a. totale dosis 5 × 103 Gy (silicium); b. storing bij dosistempo 5 × 106 Gy (silicium)/s; of c. storing éénmalige gebeurtenis 1 × 10-8 fout/bit/dag; Noot: 4A001.a.2. heeft geen betrekking op computers die speciaal zijn ontworpen voor toepassingen in burgerluchtvaartuigen.

niet gebruikt.

vectorprocessoren;

‹array›-processoren;

digitale signaalprocessoren;

logische processoren;

apparatuur voor beeldverbetering;

apparatuur voor signaalverwerking.

de digitale computers of aanverwante apparatuur essentieel zijn voor de werking van de andere apparatuur of systemen;

de digitale computers of de aanverwante apparatuur niet een voornaamste deel van de andere apparatuur of systemen vormen; en N.B. 1: De embargostatus van apparatuur voor signaalverwerking of beeldverbetering speciaal ontworpen voor andere apparatuur, waarvan de functies beperkt zijn tot die welke noodzakelijk zijn voor die andere apparatuur, wordt bepaald door de embargostatus van die andere apparatuur, ook indien het criterium betreffende het voornaamste deel wordt overschreden. N.B. 2: Zie categorie 5 (Deel 1 - Telecommunicatie) voor de embargostatus van digitale computers of aanverwante apparatuur voor telecommunicatieuitrusting.

de technologie voor de digitale computers en aanverwante apparatuur wordt bepaald door 4E.

niet gebruikt;

digitale computers met een aangepast piekvermogen (APP: Adjusted Peak Performance) van meer dan 8,0 gewogen TeraFLOPS (WT);

4A003 samenstellingen, speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren, zodat de APP van de samengevoegde processoren de in 4A003.b. bedoelde limiet overschrijdt; Noot 1: 4A003.c is uitsluitend van toepassing op samenstellingen en programmeerbare onderlinge verbindingen die de in 4A003.b bedoelde limiet niet te boven gaan, wanneer deze als niet-geïntegreerde samenstellingen worden geëxporteerd. 4A003.c heeft geen betrekking op samenstellingen die van zichzelf door de aard van hun ontwerp beperkt zijn tot gebruik als aanverwante apparatuur, vermeld in 4A003.e. Noot 2: Niet bedoeld in 4A003.c zijn samenstellingen, speciaal ontworpen voor een product of groep van producten waarvan de maximale configuratie de in 4A003.b bedoelde limiet niet te boven gaat.

niet gebruikt;

apparatuur die analoog-naar-digitaal-omzettingen kan uitvoeren en de in 3A001.a.5. bedoelde limiet te boven gaat;

niet gebruikt;

apparatuur, speciaal ontworpen voor het samenvoegen van de prestaties van digitale computers door het beschikbaar stellen van onderlinge externe verbindingen, welke communicatie met een éénrichtingsgegevenssnelheid groter dan 2,0 Gbyte/s per verbinding mogelijk maakt. Noot: 4A003.g. heeft geen betrekking op interne onderlinge verbindingen (zoals backplanes, buses), passieve onderlinge verbindingen, netwerktoegangsbesturingseenheden of communicatiekanaalbesturingseenheden.

systolic array-computers;

neurale computers;

optische computers.

4B Test-, inspectie- en productieapparatuur Geen.

4C Materialen Geen.

4D Programmatuur Noot: De embargostatus van programmatuur voor apparatuur, omschreven in andere categorieën, wordt in de desbetreffende categorie behandeld. 4D 4D001 Programmatuur als hieronder: 4D002 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor ondersteuning van technologie, vermeld in 4E. 4D003 Niet gebruikt. 4D004 Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor het maken, exploiteren of leveren van, of communiceren met, inbraakprogrammatuur.

4D a.

Programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling of productie van apparatuur, materialen of programmatuur, vermeld in 4A001 tot en met 4A004 of 4D.

Andere dan de onder 4D001.a. genoemde programmatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling of de productie van de onderstaande apparatuur:

1. digitale computers met een aangepast piekvermogen (APP: Adjusted Peak Performance) van meer dan 0,60 gewogen TeraFLOPS (WT);

2. samenstellingen, speciaal ontworpen of aangepast voor verhoging van de prestaties door samenvoeging van processoren zodat de APP van de samengevoegde processoren de limiet van 4D001.b.1. overschrijdt;

4E Technologie 4E001

4E a.

Technologie overeenkomstig de algemene Technologienoot voor de ontwikkeling, de productie of het gebruik van apparatuur of programmatuur, vermeld in 4A of 4D.

Andere dan de onder 4E001a genoemde technologie, speciaal ontworpen of aangepast voor de ontwikkeling of de productie van de onderstaande apparatuur:

1. digitale computers met een aangepast piekvermogen (APP: Adjusted Peak Performance) van meer dan 0,60 gewogen TeraFLOPS (WT);

Technologie voor de ontwikkeling van inbraakprogrammatuur.

TECHNISCHE NOOT BETREFFENDE AANGEPAST PIEKVERMOGEN (ADJUSTED PEAK PERFORMANCE) (APP)

APP is een aangepaste pieksnelheid waarbij digitale computers drijvendekommaoptellingen en -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer uitvoeren. APP wordt uitgedrukt in gewogen teraFLOPS (<Weighted TeraFLOPS (WT)>), in eenheden van 1012 aangepaste drijvendekommabewerkingen per seconde.

Afkortingen in deze technische noot

n aantal processoren in de digitale computer i processornummer (i,…n) ti cyclustijd processor (ti = 1/Fi) Fi processorfrequentie Ri piekrekensnelheid drijvendekommaberekeningen Wi aanpassingsfactor architectuur

Berekening van APP 1.2.3.4. Technische noot:

Bepaal voor elke processor i het piekaantal drijvendekommabewerkingen van 64-bit of meer FPOi per cyclus voor elke processor in de digitale computer. Noot: Bij de bepaling van FPO mag alleen rekening worden gehouden met drijvendekommaoptellingen en/of -vermenigvuldigingen van 64 bit of meer. Alle drijvendekommabewerkingen moeten worden uitgedrukt in bewerkingen per processorcyclus; bewerkingen die verscheidene cycli vereisen, kunnen worden uitgedrukt in fractionele resultaten per cyclus. Bij processoren die geen berekeningen met drijvendekommaoperanden van 64 bits of meer kunnen uitvoeren, is de effectieve rekensnelheid R gelijk aan nul. Bereken de drijvendekommarekensnelheid R voor elke processor Ri = FPOi/ti. Bereken het APP als APP = W1 × R1 + W2 × R2 + … + Wn × Rn. Voor vectorprocessoren is Wi = 0,9. Voor non-vectorprocessoren is Wi = 0,3. Noot 1: Voor processoren die in één cyclus samengestelde bewerkingen uitvoeren, zoals optellen en vermenigvuldigen, wordt elke bewerking geteld. Noot 2: Voor een pijplijnprocessor is de effectieve rekensnelheid R de hoogste pijplijnsnelheid, nadat de pijplijn vol is, of de snelheid zonder pijplijn. Noot 3: De rekensnelheid R van elke processor die een bijdrage levert, moet worden berekend als de maximumwaarde die theoretisch mogelijk is vooraleer het APP van de combinatie wordt afgeleid. Gelijktijdige bewerkingen worden geacht te bestaan wanneer de computerfabrikant in een handleiding of folder in verband met de computer stelt dat er zich samenlopende, parallelle of gelijktijdige bewerkingen of uitvoeringen voordoen. Noot 4: Processoren die zijn beperkt tot ‹input/output› en randapparatuurfuncties (bijvoorbeeld ‹disk drive›, communicatie en ‹video display›) worden bij de berekening van het APP niet in aanmerking genomen. Noot 5: Er worden geen APP-waarden berekend voor processorcombinaties die (onderling) zijn verbonden via lokale netwerken, ‹wide area networks›, gemeenschappelijke aansluitingen/apparatuur voor ‹input/output›, ‹input/output controllers› en eventuele via programmatuur geïmplementeerde communicatieverbindingen. Noot 6: Er worden APP-waarden berekend voor: Alle processoren en versnellers die gelijktijdig werken en op dezelfde matrijs gelegen zijn. Noot 7: Een vectorprocessor is een processor met ingebouwde instructies waarbij gelijktijdig verscheidene berekeningen worden uitgevoerd op drijvende-kommavectoren (eendimensionale <arrays> van getallen van 64 bit of meer), met ten minste 2 vectoriële functionele eenheden en ten minste 8 vectorregisters van ten minste 64 elementen elk.

Berekening van APP 1.2.3.4.

1. processorcombinaties die processoren omvatten welke speciaal zijn ontworpen om hogere prestaties te leveren doordat zij worden gecombineerd, gelijktijdig werken en een geheugen delen; of

2. combinaties van verscheidene geheugens/processoren die gelijktijdig werken met behulp van speciaal daarvoor ontworpen apparatuur.

CATEGORIE 5 TELECOMMUNICATIE EN INFORMATIEBEVEILIGING

DEEL 1 TELECOMMUNICATIE

5A1 Technische noot:

Systemen, Apparatuur en Onderdelen 5A001 Telecommunicatiesystemen, uitrusting, onderdelen en toebehoren, als hieronder: 5A101 Apparatuur voor telemetrie en afstandsbesturing, inclusief grondapparatuur die is ontworpen of aangepast voor voor raketten. In 5A101 worden onder raketten verstaan: complete raketsystemen en systemen voor onbemande luchtvaartuigen met een bereik van meer dan 300 km. Noot: 5A101 heeft geen betrekking op:

5A1 a.

Alle soorten telecommunicatieapparatuur met een van de volgende eigenschappen, functies of eigenschappen: Noot: 5A001.a.2. en 5A001.a.3. zijn niet van toepassing op apparatuur, ontworpen of aangepast voor gebruik aan boord van satellieten.

1. speciaal ontworpen om bestand te zijn tegen kortstondige elektronische gevolgen of elektromagnetische impulsie ten gevolge van een kernexplosie;

2. speciaal versterkt om bestand te zijn tegen gamma-, neutronen- of ionenstraling; of

3. speciaal ontworpen voor werktemperaturen buiten het gebied van 218 K (- 55 °C) tot 397 K (124 °C); Noot: 5A001.a.3. is uitsluitend van toepassing op elektronische apparatuur.

Telecommunicatiesystemen en -apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen en toebehoren, met een van de volgende eigenschappen, functies of eigenschappen:

1. Systemen voor vrije communicatie onder water met een of meer van de volgende eigenschappen:

1. a.

een akoestische draagfrequentie buiten het gebied tussen de 20 en 60 kHz;

gebruikmakend van een elektromagnetische draagfrequentie lager dan 30 kHz;

gebruikmakend van elektronenbundelbesturingstechnieken; of

gebruik makend van lasers of licht emitterende diodes (LEDs) met een golflengte aan de uitgang van meer dan 400 nm en minder dan 700 nm, in een lokaal netwerk;

2. Radiotransmissieapparatuur met werkfrequentie in de 1,5-87,5 MHz band en met alle volgende eigenschappen:

2. a.

automatisch aangeven en kiezen van frequenties en totale digitale overbrengsnelheid per kanaal voor een optimale transmissie; en

met een lineaire vermogensversterkerconfiguratie die verscheidene signalen tegelijk kan onderhouden bij een uitgangsvermogen van 1 kW of meer in het frequentiegebied van 1,5 MHz of hoger, doch lager dan 30 MHz, of van 250 W of meer in het frequentiegebied van 30 MHz of hoger, tot ten hoogste 87,5 MHz, over een momentele bandbreedte van één octaaf of meer en met een harmonisch/vervormingsuitgangsniveau beter dan -80 dB;

3. Radioapparatuur die gebruik maakt van spread spectrum-technieken, met inbegrip van ‹frequency hopping›-technieken, met uitzondering van de apparatuur als bedoeld in 5A001.b.4., met één of meer van de volgende eigenschappen: Noot: 5A001.b.3. heeft geen betrekking op apparatuur, ontworpen voor een uitgangsvermogen van maximaal 1 W.

3. a.

voor de gebruiker programmeerbare ‹spreading›-codes; of

een totaal uitgezonden bandbreedte die 100-maal of meer zo groot is als de bandbreedte van enig informatiekanaal en groter dan 50 kHz; Noot: 5a001.b.3.b heeft geen betrekking op radioapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met:

a.

civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen; of

b.

vaste of mobiele satellietgrondstations voor commerciële, civiele telecommunicatie.

4. 5A001 b. Radioapparatuur die gebruik maakt van ultrabreedband-modulatietechnieken, met door de gebruiker programmeerbare kanaliseringscodes, versleutelingscodes of netwerkidentificatiecodes, met een van de volgende eigenschappen:

4. a.

een bandbreedte van meer dan 500 MHz; of

een fractionele bandbreedte van 20 % of meer;

5. Technische noten:

Digitaal bestuurde radio-ontvangers met alle hiernavolgende eigenschappen: Noot: 5A001.b.5. heeft geen betrekking op radioapparatuur, speciaal ontworpen voor gebruik met civiele cellulaire radiocommunicatiesystemen. Kanaalwisseltijd: de tijd (d.w.z. vertraging) welke benodigd is om van de ene ontvangfrequentie over te schakelen naar een andere, om te arriveren op of binnen ± 0,05 % van de uiteindelijke gespecificeerde ontvangfrequentie. Producten met een gespecificeerd frequentiebereik van minder dan ± 0,05 % ten opzichte van hun centrumfrequentie worden aangemerkt als producten waarmee geen kanaalfrequentiewissel mogelijk is.

5. a.

met meer dan 1000 kanalen;

een kanaalwisseltijd van minder dan 1 ms;

die automatisch een deel van het elektromagnetische spectrum afzoeken of aftasten; en

die de ontvangen signaalfrequentie of het zendertype identificeren; of

6. Technische noten: 1.2.

Die gebruikmaken van digitale signaalverwerkings-functies met het oog op spraakcodering met een snelheid van minder dan 2400 bits/s: Voor spraakcodering met variabele snelheid is 5A001.b.6. van toepassing op de spraakcodering van continue spraak. Voor de toepassing van 5A001.b.6. wordt spraakcodering gedefinieerd als de techniek om samples van de menselijke stem te nemen en deze om te zetten in een digitaal signaal, rekening houdend met de specifieke kenmerken van de menselijke spraak.

c. Technische noot:

glasvezels met een lengte van meer dan 500 m die volgens de specificaties van de fabrikant een tijdens de normtest uitgeoefende trekspanning weerstaan van 2 × 109 N/m2 of meer; N.B.: Zie 8A002.a.3. voor voedingsleidingen voor gebruik onder water. Normtest houdt in het steekproefsgewijs testen tijdens of buiten de productielijn waarbij dynamisch een voorgeschreven trekspanning wordt uitgeoefend op vezel met een lengte tussen de 0,5 en 3 m, terwijl deze met een snelheid van 2 à 5 m/s tussen rollen met een diameter van ongeveer 150 mm doorloopt. De omgevingstemperatuur is hierbij nominaal 293 K (20 °C) en de relatieve vochtigheidsgraad 40 %. Voor het uitvoeren van de normtest mogen gelijkwaardige nationale normen worden gehanteerd.

Elektronisch fasegestuurde antennesystemen met een werkfrequentie vanaf 31,8 GHz; Noot: 5A001.d. heeft geen betrekking op elektronisch fasegestuurde antennesystemen opgebouwd uit een aantal identieke antennes voor landingssystemen met instrumenten die voldoen aan de ICAO-normen (International Civil Aviation Organisation) (microgolf landingssystemen (MLS)).

5A001 Radiorichtingzoekende apparatuur met een werkfrequentie van meer dan 30 MHz en met alle volgende eigenschappen, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen:

1. een momentele bandbreedte van 10 MHz of meer; en

2. een peillijn (‹line of bearing›: LOB) kunnen vinden naar niet-meewerkende radiozenders met een signaalduur van minder dan 1 ms;

Systemen voor interceptie of storing van mobieletelefooncommunicatie, en monitoringapparatuur daarvoor, als hieronder, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen: Noot: 5A001.f.1. en 5A001.f.2. zijn niet van toepassing op: N.B. 1: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN. N.B. 2: Voor radio-ontvangers zie 5A001.b.5.

1. systemen voor interceptie of storing ontworpen voor het extraheren van stemgeluid of gegevens, overgebracht over de etherinterface;

2. systemen voor interceptie die niet vermeld zijn in 5A001.f.1., ontworpen voor het extraheren van client-device of subscriber identifiers (bv., IMSI, TIMSI or IMEI), signalering of andere metadata die via de etherinterface worden verstuurd;

3. stoorapparatuur die speciaal is ontworpen of aangepast om opzettelijk en selectief mobieletelecommunicatiediensten te storen, onmogelijk te maken, te hinderen, de kwaliteit van die diensten te verslechteren of deze te deviëren, en met een of meer van de volgende mogelijkheden:

3. a.

simuleren van de functies van apparatuur van radiotoegangsnetwerken (RAN);

opsporen en gebruikmaken van specifieke eigenschappen van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bv. gsm); of

gebruikmaken van specifieke eigenschappen van het gebruikte protocol voor mobiele telecommunicatie (bv. gsm).

4. RF-controleapparatuur ontworpen of aangepast om de werking van de in 5A001.f.1., 5A001.f.2. of 5A001.f.3. genoemde items te identificeren;

a.

Speciaal ontworpen apparatuur voor het onderscheppen van analoge particuliere mobiele radio (PMR), IEEE 802.11 WLAN.

b.

Apparatuur ontworpen voor exploitanten van een mobiel telecommunicatienetwerk; of

c.

Apparatuur ontworpen voor de ontwikkeling of productie van mobiele telecommunicatieapparatuur of -systemen.

g. Technische noot:

Passieve lokaliseringssystemen of -apparatuur (PCL) speciaal ontworpen voor het opsporen en volgen van bewegende voorwerpen door het meten van weerkaatsingen van radiofrequentie-emissies in de omgeving, afkomstig van niet-radarzenders; Het begrip niet-radarzenders kan betrekking hebben op commerciële radiozenders, tv-zenders of basisstations voor cellulaire telecommunicatie. Noot: 5A001.g. heeft geen betrekking op:

a.

radioastronomische apparatuur; of

b.

systemen en toestellen waarvoor radiotransmissie vanuit het doel nodig is.

5A001 Apparaten en verwante apparatuur voor het tegengaan van geïmproviseerde explosieven (IED), als volgt: N.B.: ZIE OOK DE LIJST MILITAIRE GOEDEREN.

1. op radiofrequentie wekende zendapparatuur, niet vermeld in 5A001.f., die ontworpen of aangepast is om geïmproviseerde explosieven voortijdig te activeren of het initiëren daarvan te voorkomen.

2. Apparatuur die gebruik maakt van technieken waardoor radiocommunicaties op dezelfde frequentiekanalen kunnen worden uitgezonden als de in 5A001.h.1. gespecificeerde apparatuur.

niet gebruikt;

j. Technische noot:

Surveillancesystemen of -apparatuur voor netwerkcommunicaties van het internetprotocol (IP) en de speciaal daarvoor ontworpen onderdelen, die aan al het onderstaande voldoen: Noot: 5A001.j. heeft geen betrekking op apparatuur die speciaal ontworpen is voor een van de volgende functies: Hard selectors zijn gegevens of gegevensgroepen die bij een individu horen (bijv. achternaam, voornaam, e-mailadres, woonadres, telefoonnummer of lidmaatschappen).

1. Alle onderstaande functies kunnen uitvoeren op een carrier-grade IP-netwerk (bijv. national-grade IP-netwerk):

1. a.

analyse van de applicatiefuncties (bijv. laag 7 van het Open Systems Interconnection (OSI) model (ISO/IEC 7498-1));

extractie van de geselecteerde metadata en toepassingsinhoud (bijv. stem, video, berichten, bijlagen); en

indexering van de verzamelde gegevens; en

2. speciaal ontworpen zijn om de volgende functies uit te voeren:

2. a.

het uitvoeren van zoekopdrachten op basis van hard selectors; en

het in kaart brengen van het relationele netwerk van een individu of een groep personen.

a.

marketing;

b.

Quality of Service (QoS) van netwerken; of

c.

Quality of Experience (QoE).

5A1 Technische noot: a.

apparatuur, speciaal ontworpen of aangepast voor bemande vliegtuigen of satellieten;

grondapparatuur ontworpen of aangepast voor toepassingen te land of op zee;

apparatuur ontworpen voor commerciële, civiele of Safety of Life-GNSS-diensten (bv. gegevensintegriteit, vliegveiligheid).

5B1 a.

Apparatuur, en speciaal daarvoor ontworpen onderdelen of toebehoren, speciaal ontworpen voor de ontwikkeling, de productie van apparatuur, functies of eigenschappen, bedoeld in 5A001; Noot: 5B001.a. heeft geen betrekking op apparatuur voor het karakteriseren van glasvezels.

1. niet gebruikt;

2. a.

een transmissiegolflengte groter dan 1750 nm;

met de functie optische versterking, waarbij gebruik wordt gemaakt van versterkers van praseodymium-gedoteerde fluorvezel (PDFFA);

c. Technische noot:

gebruikmakend van coherente optische transmissie- of coherente optische detectietechnieken; of Noot: 5B001.b.2.c. is van toepassing op apparatuur, speciaal ontworpen voor de ontwikkeling van de systemen die gebruikmaken van een optische lokale oscillator in de ontvangende kant om te synchroniseren met een dragende laser. Voor 5B001.b.2.c. omvatten deze technieken optische heterodyne, homodyne of interadyne technieken.

gebruikmakend van analoge technieken en met een bandbreedte groter dan 2,5 GHz; of Noot: 5B001.b.2.d. heeft geen betrekking op apparatuur, speciaal ontworpen voor de ontwikkeling van commerciële tv-systemen.

1284 more provisions are not shown here; each has its own address.

Versions

2014-10-22