Address https://gelex.eu/eli/EU/act/2014/1382@2014-10-22/sv

Contents

1. Preamble
2. 1. Artikel 1
   2. Artikel 2
3. ANNEX
4. BILAGA I Förteckning som avses i artikel 3 i denna förordning
5. FÖRTECKNING ÖVER PRODUKTER MED DUBBLA ANVÄNDNINGSOMRÅDEN
6. a)
7. 1. a)
8. b)
9. c)
10. d)
11. e)
12. f)
13. KATEGORI 0 KÄRNMATERIAL, ANLÄGGNINGAR OCH UTRUSTNING
14. 0A a)
15. 0B Teknisk anmärkning:
16. 0B a)
17. 7. a)
18. 13. a)
19. 14. a)
20. 5. a)
21. 6. a)
22. 0C a)
23. KATEGORI 1 SÄRSKILDA MATERIAL OCH DÄRTILL HÖRANDE UTRUSTNING
24. 1A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:
25. 1A a)
26. 1. a)
27. 4. a)
28. 1A Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
29. 1A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
30. 1A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: a)
31. 1B Teknisk anmärkning: 1.2. Teknisk anmärkning:
32. 1B a)
33. 1B Teknisk anmärkning: 1.2. a)
34. a)
35. b)
36. c)
37. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3.
38. 1C Teknisk anmärkning: a)
39. a)
40. b)
41. c)
42. 1. Teknisk anmärkning:
43. 1. a)
44. d)
45. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. a)
46. 1. a)
47. 2. a)
48. 3. a)
49. 4. a)
50. 5. a)
51. 1. Teknisk anmärkning:
52. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: a)
53. 1. Teknisk anmärkning:
54. 2. Teknisk anmärkning:
55. 3. a)
56. 1. a)
57. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:
58. 4. a)
59. 1. a)
60. 2. a)
61. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. a)
62. a)
63. b)
64. c)
65. d)
66. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. d)
67. 1. a)
68. 2. a)
69. a)
70. b)
71. a) 1C011 a)Teknisk anmärkning:
72. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: a)
73. a)
74. b)
75. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
76. 1. Teknisk anmärkning:
77. 2. a) Teknisk anmärkning:
78. 3. a)
79. 4. a)
80. 5. Teknisk anmärkning:
81. 5. a)
82. 6. a)
83. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1:
84. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: a)
85. 1. a)
86. 2. a)
87. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: a)
88. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
89. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
90. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
91. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
92. 1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
93. 4. a)
94. 6. Teknisk anmärkning:
95. 5. a)
96. 1E a)
97. 1. a)
98. 3. a)
99. KATEGORI 2 MATERIALBEARBETNING
100. 2A Teknisk anmärkning:
101. 2A a)
102. 2. a)
103. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2.
104. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
105. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5. a)
106. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. a)
107. a)
108. b)
109. 1. a)
110. 2. a)
111. 4. a)
112. c)
113. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar:
114. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: a)
115. 1. a)
116. 2. a)
117. 1. Teknisk anmärkning:
118. 1. a)
119. 2. a)
120. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
121. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
122. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)
123. 1. a)
124. a)
125. b)
126. b.
127. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a) Teknisk anmärkning:
128. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: a)
129. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: a)
130. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
131. 2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
132. 1. a)
133. 2. a)
134. 3. a)
135. a)
136. b)
137. c)
138. d)
139. e)
140. f)
141. g)
142. h)
143. i)
144. 2. a)
145. 1. a)
146. 2D a)
147. 2E Tabell 1.2.3.A.B.B.1.B.2.B.3.B.4.C.D.E.F.G. Ytbeläggningstekniker
148. 2E a)
149. 1. a)
150. 2. a)
151. a)
152. b)
153. c)
154. d)
155. e)
156. f)
157. g)
158. KATEGORI 3 ELEKTRONIK
159. 3A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2.
160. 3A a)
161. 1. a)
162. 2. a)
163. 5. Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. 3A001 a) 5.Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.
164. 5. a)
165. 5. Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. b)
166. 2. a)
167. 6. a)
168. 7. 3A001 a) 7.Tekniska anmärkningar: 1.2.3.
169. 7. a)
170. 10. a)
171. 11. a)
172. 12. Teknisk anmärkning:
173. 13. Teknisk anmärkning:
174. 13. a)
175. 4. a)
176. 3. a)
177. 4. a)
178. 3. Teknisk anmärkning:
179. 8. a)
180. 9. Tekniska anmärkningar: 1.2.
181. 9. a)
182. 10. Teknisk anmärkning:
183. 1. Teknisk anmärkning:
184. 1. Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.
185. 4. Teknisk anmärkning:
186. 5. Tekniska anmärkningar: 1.2.
187. 6. Teknisk anmärkning:
188. 3. Teknisk anmärkning:
189. 3A Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
190. 1. a)
191. 2. a)
192. 3A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
193. 3A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)
194. 3B a)
195. 1. a)
196. 3. a)
197. 3C a)
198. 3D Teknisk anmärkning:
199. 3E a)
200. KATEGORI 4 DATORER
201. 4A a)
202. 4D a)
203. 4E a)
204. Förkortningar som används i denna tekniska anmärkning
205. Sammanfattning av beräkningsmetoden för APP 1.2.3.4. Teknisk anmärkning:
206. Sammanfattning av beräkningsmetoden för APP 1.2.3.4.
207. KATEGORI 5 TELEKOMMUNIKATION OCH INFORMATIONSSÄKERHET
208. DEL 1 TELEKOMMUNIKATION
209. 5A1 Teknisk anmärkning:
210. 5A1 a)
211. 1. a)
212. 2. a)
213. 3. a)
214. a)
215. b)
216. 4. a)
217. 5. Tekniska anmärkningar:
218. 5. a)
219. 6. Tekniska anmärkningar: 1.2.
220. a)
221. b)
222. c)
223. a.
224. b.
225. c.
226. 5B1 a)
227. 2. a)

EUROPEISKA KOMMISSIONEN HAR ANTAGIT DENNA FÖRORDNING

med beaktande av fördraget om Europeiska unionens funktionssätt,

med beaktande av rådets förordning (EG) nr 428/2009 av den 5 maj 2009 om upprättande av en gemenskapsordning för kontroll av export, överföring, förmedling och transitering av produkter med dubbla användningsområden, särskilt artikel 15.3, och

av följande skäl:

(1) Enligt förordning (EG) nr 428/2009 ska produkter med dubbla användningsområden verkningsfullt kontrolleras när de exporteras från eller transiteras genom unionen eller levereras till ett tredjeland på grund av förmedlingstjänster som tillhandahålls av en förmedlare som är bosatt eller etablerad i unionen.

(2) I bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 fastställs en gemensam förteckning över produkter med dubbla användningsområden som omfattas av kontroller i unionen. Beslut om produkter som är föremål för kontroll fattas inom ramen för Australiengruppen, Missile Technology Control Regime, Nuclear Suppliers Group, Wassenaar-arrangemanget och konventionen om kemiska vapen.

(3) Förteckningen över produkter med dubbla användningsområden i bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 behöver uppdateras med jämna mellanrum för att säkerställa full överensstämmelse med internationella säkerhetsförpliktelser, garantera öppenhet och bibehålla exportörernas konkurrenskraft. För att underlätta för exportkontrollmyndigheter och andra aktörer att ta del av texterna bör en uppdaterad och konsoliderad version av bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 offentliggöras.

(4) I förordning (EG) nr 428/2009 ges kommissionen befogenhet att genom delegerade akter uppdatera förteckningen över produkter med dubbla användningsområden i bilaga I i enlighet med de relevanta skyldigheter och åtaganden samt ändringar av dessa som medlemsstaterna har godtagit som medlemmar i de internationella icke-spridningssystemen och överenskommelserna om exportkontroll eller genom ratificering av relevanta internationella fördrag.

(5) Förordning (EG) nr 428/2009 bör därför ändras i enlighet med detta.

HÄRIGENOM FÖRESKRIVS FÖLJANDE.

Artikel 1

Bilaga I till förordning (EG) nr 428/2009 ska ersättas med texten i bilagan till den här förordningen.

Artikel 2

Denna förordning träder i kraft dagen efter det att den har offentliggjorts i Europeiska unionens officiella tidning.

Denna förordning är till alla delar bindande och direkt tillämplig i alla medlemsstater. Utfärdad i Bryssel den 22 oktober 2014. På kommissionens vägnar José Manuel Barroso Ordförande

ANNEX

BILAGA

BILAGA I Förteckning som avses i artikel 3 i denna förordning

FÖRTECKNING ÖVER PRODUKTER MED DUBBLA ANVÄNDNINGSOMRÅDEN

Med denna förteckning genomförs internationella överenskommelser om kontroll av produkter med dubbla användningsområden, bl.a. Wassenaar-arrangemanget, Missile Technology Control Regime (MTCR), Nuclear Suppliers' Group (NSG), dvs. gruppen av länder som levererar kärnmaterial, Australiengruppen och konventionen om kemiska vapen.

ALLMÄNNA ANMÄRKNINGAR TILL BILAGA I 1.2.3.4.

För kontroll av varor som är konstruerade eller modifierade för militär användning, se relevant förteckning (relevanta förteckningar) för kontroll av militära varor som upprätthålls av de enskilda medlemsstaterna. Hänvisningarna i denna bilaga med anmärkningen SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING är till samma förteckning. Syftet med kontrollerna i denna bilaga ska inte omintetgöras genom export av varor som inte är underställda kontroll (inklusive anläggning) men som innehåller en eller flera beståndsdelar vilka är underställda kontroll, när den eller de beståndsdelar som är underställda kontroll utgör huvudbeståndsdelen av varan och det är möjligt att avlägsna den och använda den för andra ändamål. ANM.: Vid bedömning huruvida en eller flera beståndsdelar ska betraktas som huvudbeståndsdel ska hänsyn tas till kvantitet, värde, tekniskt kunnande samt andra omständigheter som är av betydelse för att bedöma huruvida en eller flera av de kontrollerade beståndsdelarna är en huvudbeståndsdel av de varor som anskaffas. Varor som specificeras i denna bilaga inbegriper både nya och begagnade varor. I vissa fall förtecknas kemikalier med namn och CAS-nummer. Förteckningen gäller kemikalier med samma strukturformel (inklusive hydrater) oberoende av namn eller CAS-nummer. CAS-nummer visas som ett bidrag till identifieringen av en viss kemikalie eller blandning, oberoende av nomenklatur. CAS-nummer kan inte användas som enda identifikation, eftersom vissa former av den förtecknade kemikalien har olika CAS-nummer, medan blandningar som innehåller en förtecknad kemikalie också kan ha olika CAS-nummer.

ANMÄRKNING RÖRANDE KÄRNTEKNIK (Nuclear Technology Note – NTN)

(Denna anmärkning ska läsas jämförd med kategori 0, avsnitt E.) Teknik som har direkt samband med varor som finns upptagna under kategori 0 ska kontrolleras enligt bestämmelserna för kategori 0. Teknik som erfordras för utveckling, produktion eller användning av varor som omfattas av kontroll, omfattas av kontroll även om den kan tillämpas på varor som inte omfattas av kontroll. Godkännande av export av varor medger även export till samma slutanvändare av det minimum av teknik som erfordras för installation, drift, underhåll och reparation av varan. Kontroll av överföring av teknik gäller inte allmänt tillgänglig information eller vetenskaplig grundforskning.

ALLMÄN ANMÄRKNING RÖRANDE TEKNIK (General Technology Note – GTN)

(Denna anmärkning ska läsas jämförd med kategorierna 1–9, avsnitt E.) Export av teknik som erfordras för utveckling, produktion eller användning av varor som kontrolleras i kategorierna 1–9, kontrolleras i den ordning som föreskrivs i kategorierna 1–9. Teknik som erfordras för utveckling, produktion eller användning av varor som omfattas av kontroll, omfattas av kontroll även om den kan tillämpas på varor som inte omfattas av kontroll. Kontrollen gäller inte sådan teknik som utgör ett nödvändigt minimum för installation, drift, underhåll (kontroll) eller reparation av varor som inte är underställda kontroll eller för vilka exporttillstånd har beviljats. ANM.: Denna anmärkning medger inte export av teknik som specificeras i avsnitten 1E002.e, 1E002.f, 8E002.a och 8E002.b. Kontroll av överföring av teknik gäller inte allmänt tillgänglig information, grundforskning eller det minimum av information som behövs för patentansökningar.

ALLMÄN ANMÄRKNING RÖRANDE PROGRAMVARA (General Software Note – GSN)

(Denna anmärkning har företräde framför bestämmelserna i kategorierna 0–9, avsnitt D.) Den programvara som beskrivs i kategorierna 0–9 omfattas inte av kontroll om den

a)

är allmänt tillgänglig för gemene man genom att ANM.: Punkt a i Allmän anmärkning rörande programvara tar inte bort kontrollen av programvara som specificeras i kategori 5 del 2 (Informationssäkerhet).

1. den säljs från lager vid ett försäljningsställe i detaljistledet utan restriktioner

1. a)

över disk,

b)

via postorderförsäljning,

c)

på elektronisk väg, eller

d)

via telefonförsäljning och

2. den kan installeras av användaren utan väsentlig medverkan av försäljaren,

b)

är allmänt tillgänglig, eller

c)

är en objektkod som utgör ett nödvändigt minimum för installation, drift, underhåll (kontroll) och reparation av varor för vilka exporttillstånd har beviljats. ANM.: Punkt c i Allmän anmärkning rörande programvara tar inte bort kontrollen av programvara som specificeras i kategori 5 del 2 (Informationssäkerhet).

REDAKTIONELL PRAXIS I EUROPEISKA UNIONENS OFFICIELLA TIDNING

I enlighet med bestämmelserna i punkt 6.5 på sidan 108 i Publikationshandboken (2011 års upplaga) ska, i texter som offentliggörs i Europeiska unionens officiella tidning Texten i den här bilagan följer denna praxis.

kommatecken användas som decimaltecken (t.ex. 3,67 cm),

mellanrum användas som tusenavskiljare (t.ex. 100000).

AKRONYMER OCH FÖRKORTNINGAR SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA

En akronym eller en förkortning, när den används som en definierad term, återfinns under Definition av termer som används i denna bilaga. AKRONYM ELLER FÖRKORTNING BETYDELSE ABEC Annular Bearing Engineers Committee AGMA American Gear Manufacturers' Association AHRS Attitude and Heading Reference Systems AISI American Iron and Steel Institute ALU aritmetisk logikenhet ANSI American National Standards Institute ASTM the American Society for Testing and Materials ATC flygkontrolltjänst AVLIS Atomic vapour laser isotope separation (isotopseparation med laser tillämpad på atomär ånga) CAD computer-aided-design (datorstödd konstruktion) CAS Chemical Abstracts Service CDU control and display unit (kontroll- och indikatorenhet) CEP circular error probable CNTD controlled nucleation thermal deposition CRISLA Chemical reaction by isotope selective laser activation (kemisk reaktion genom isotopselektiv laseraktivering) CVD kemisk förångningsdeposition CW kemisk krigföring CW (för laser) continuous wave DME Distance Measuring Equipment (avståndsmätningsradar) DS directionally solidified EB-PVD electron beam physical vapour deposition (fysisk förångningsdeposition med elektronstråle) EBU European Broadcasting Union (Europeiska radio- och tv-företagens samarbetsorganisation) ECM electro-chemical machining (elektrokemisk bearbetning) ECR electron cyclotron resonance (elektroncyklotronresonans) EDM electrical discharge machines (elektriska urladdningsmaskiner) EEPROMS electrically erasable programmable read only memory (elektriskt raderbart programmerbart read-only minne) EIA Electronic Industries Association EMC electromagnetic compatibility (elektromagnetisk kompatibilitet) Etsi European Telecommunications Standards Institute (Europeiska institutet för telestandarder) FFT Fast Fourier Transform (Fast Fourier-transformation) GLONASS global navigation satellite system GPS global positioning system (GPS-lokaliseringssystemet) HBT hetero-bipolar transistors HDDR high density digital recording (high density digital inspelning) HEMT high electron mobility transistors (transistorer med hög elektronmobilitet) Icao International Civil Aviation Organisation (Internationella civila luftfartsorganisationen) IEC International Electro-technical Commission (Internationella elektrotekniska kommissionen) IEEE Institute of Electrical and Electronic Engineers IFOV instantaneous-field-of-view ILS instrument landing system (instrumentlandningssystem) IRIG inter-range instrumentation group ISA internationell standardatmosfär ISAR inverse synthetic aperture radar ISO International Organization for Standardization (Internationella standardiseringsorganisationen) ITU International Telecommunication Union (Internationella teleunionen) JIS japansk industristandard JT Joule-Thomson LIDAR light detection and ranging LRU line replaceable unit MAC message authentication code Mach förhållandet mellan ett föremåls och ljudets hastighet (efter Ernst Mach) MLIS Molecular laser isotopic separation (isotopseparation med laser tillämpad på gasmolekyler) MLS mikrovågslandningssystem MOCVD metal organic chemical vapour deposition (metall-organisk kemisk förångningsdeposition) MRI magnetic resonance imaging MTBF mean-time-between-failures Mtops million theoretical operations per second (miljoner teoretiska operationer per sekund) MTTF mean-time-to-failure NBC Nuclear, Biological and Chemical (nukleära, biologiska och kemiska) NDT non-destructive test (icke-förstörande prov) PAR precision approach radar (precisionsinflygningsradar) PIN personal identification number (personidentifikationsnummer) ppm parts per million (delar per miljon) PSD power spectral density QAM quadrature-amplitude-modulation (kvadraturamplitudmodulering) RF radiofrekvens SACMA Suppliers of Advanced Composite Materials Association SAR synthetic aperture radar SC single crystal (enkristall) SLAR sidelooking airborne radar SMPTE Society of Motion Picture and Television Engineers SRA shop replaceable assembly SRAM static random-access memory SRM SACMA Recommended Methods (av SACMA rekommenderade metoder) SSB single sideband (enkelt sidband) SSR Sekundär övervakningsradar TCSEC trusted computer system evaluation criteria TIR total indicated reading (totalt indikatorutslag) UV ultraviolett UTS ultimate tensile strength (brottgräns) VOR very high frequency omni-directional range YAG yttrium/aluminium garnet (yttrium/aluminium-granat)

DEFINITION AV TERMER SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA Teknisk anmärkning: Anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:

Definitioner av termer mellan enkla citattecken ges i en teknisk anmärkning till den berörda produkten. Definitioner av termer mellan dubbla citationstecken är följande: ANM.: Hänvisningar till kategorier ges inom parentes efter den definierade termen. III/V-föreningar (3 6) är polykristallinska, binära eller komplexa monokristallinska produkter som består av beståndsdelar ur grupperna IIIA och VA i Mendelejevs periodiska system (t.ex. galliumarsenid, galliumaluminiumarsenid, indiumfosfid). Agens för kravallhantering (1) är ämnen som, när de används under förväntade förhållanden i samband med kravallhantering, hos människor snabbt framkallar sensorisk irritation eller funktionsnedsättande fysiska effekter som försvinner efter en kort period sedan exponeringen avbrutits. Tårgas ingår i agens för kravallhantering. Aktiva flygstyrsystem (7). Aktiva flygstyrsystem är system som verkar för att förhindra oönskade rörelser hos luftfartyg eller missiler genom att autonomt bearbeta utsignaler från flera sensorer och sedan åstadkomma nödvändiga förebyggande kommandon för att utöva automatisk styrning. Aktiva bildelement (pixel) (6 8). Aktiva bildelement är det minsta (ensamma) element i en halvledarmatris som har en fotoelektrisk överföringsfunktion när den utsätts för ljusstrålning (elektromagnetisk strålning). Alla tillgängliga kompensationer (2) innebär efter att hänsyn tagits till alla rimliga åtgärder som tillverkaren har till sitt förfogande för att minska alla systematiska felmarginaler för den särskilda modell av verktygsmaskin eller mätningsfel för den särskilda koordinatmätningsmaskin som avses. Allmänt tillgänglig (GTN NTN GSN). Här avses att en teknik eller programvara har gjorts tillgänglig utan restriktioner för dess vidare spridning. (Upphovsrättsliga inskränkningar innebär inte att teknik eller programvara inte är allmänt tillgänglig.) Anpassad för användning i krig (1). Härmed avses alla modifikationer eller urval (såsom en annan renhet, hållbarhetstid, virulens, spridningsegenskaper eller motståndskraft mot UV-strålning) som framtagits för att öka effektiviteten i fråga om att döda människor och djur, skada utrustningar, skördar eller miljön. Användartillgänglig programmeringsmöjlighet (6) avser möjligheten för en användare att sätta in, modifiera eller ersätta program på annat sätt än Användning (GTN NTN Alla) avser drift, installation (inklusive installation på plats), underhåll (kontroll), reparation, översyn och renovering. APP (4) är detsamma som justerad topprestanda. Asymmetrisk algoritm (5) är en krypteringsalgoritm där olika matematiskt relaterade nycklar används för kryptering och dekryptering. ANM.: Ett vanligt användningsområde för asymmetriska algoritmer är nyckelhantering. Automatisk målsökning (6). Härmed avses en processteknik som automatiskt bestämmer och som utmatning lämnar ett extrapolerat värde av målets mest sannolika position i realtid. Avstämbar (6) är en lasers förmåga att producera en kontinuerlig utgångssignal vid alla våglängder över ett område av flera laserövergångar. En linjevalbar laser kan producera diskreta våglängder inom en laserövergång och betraktas icke som avstämbar. Axialkast (camming) (2) är huvudspindelns axiella kast under ett varv mätt i ett plan vinkelrätt mot spindelns fästdorn, i en punkt nära fästdornets periferi. (Referens ISO 230/1 1986 punkt 5.63.) Bandspridning (5) avser teknik där innehållet i en relativt smalbandig kommunikationskanal sprids ut över ett mycket bredare frekvensspektrum. Bandspridnings-radar (6) – se radarbandspridning. Bildbehandling (4) är bearbetning av externt upphämtade informationsbärande bilder med hjälp av algoritmer som tidskompression, filtrering, extraktion, urval, korrelation, byte eller transformering mellan områden (t.ex. Fast Fourier-transform eller Walsh-transform). Det innefattar inte algoritmer som endast innehåller linjär- eller rotationsändringar av en enkel bild som translation, utdrag, registrering eller falsk färgsättning. Blandad (1). Härmed avses en blandning av termoplastiska fibrer och förstärkningsfibrer med avsikt att åstadkomma en fiberförstärkt matrisblandning i en total fiberblandning. Bränslecell (8) är en elektrokemisk anordning som omvandlar kemisk energi direkt till likströmselektricitet genom att förbruka bränsle från en extern källa. CEP (Troligt cirkulärt fel) (7) är ett mått på noggrannhet – radien av den cirkel med centrum i målet i vilken på ett specifikt avstånd 50 % av angivelserna pekar. Cirkulationsstyrda, antivridmomentstyrda eller cirkulationsstyrda riktningskontrollsystem (7) är system som använder luft som blåses över aerodynamiska ytor för att öka eller styra de krafter som genereras av ytorna. Civila luftfartyg (1 3 4 7) är de luftfartyg som förts upp på förteckningar över flygduglighetscertifiering som ges ut av civila luftfartsmyndigheter, för att civilt flyga på inrikes eller utrikes leder för civilt, privat eller affärsmässigt bruk. ANM.: Se även luftfartyg. CW-laser (6) är en laser som producerar en nominellt konstant utenergi under mer än 0,25 sekunder. Databaserade referensnavigerings- (Data-Based Referenced Navigation- DBRN) (7) system avser system som utnyttjar olika källor av tidigare uppmätta geokarteringsdata som integreras för att ge exakt navigeringsinformation under dynamiska förhållanden. Datakällor inbegriper batymetriska kartor, stjärnkartor, gravimetriska kartor, magnetkartor eller digitala, tredimensionella terrängkartor. Deformerbara speglar (6) (även kända som anpassningsbara optiska speglar) avser speglar som har Deltagande stat (7 9). Med deltagande stat avses en stat som deltar i Wassenaar-arrangemanget. (Se www.wassenaar.org) Diffusionsbondning (1 2 9) är en förening i fast fas av minst två separata metalldelar till ett enda stycke som har en gemensam styrka som är lika med det svagaste materialets, där den huvudsakliga mekanismen är en interdiffusion av atomer i gränssnittet. Digital dator (4 5) är utrustning som genom att anta en eller flera diskreta variabler, kan utföra allt det följande: ANM.: Förändring av en lagrad sekvens av instruktioner omfattar utbyte av en fast minnesenhet, men inte en fysisk förändring av tråddragning eller interna kopplingar. Digital överföringshastighet (def) är den totala bithastigheten för den information som överförs direkt på något slags medium. ANM.: Se även total digital överföringshastighet. Digitalt flygövervakningssystem för att optimera flygdata (7) avser ett system som automatiskt styr luftfartygets flygvariabler och bana för att uppnå uppdragets mål även om realtidsförändringar uppstår beroende på omständigheter eller andra luftfartyg. Direktverkande hydraulisk pressning (2) är en formförändringsprocess som använder en vätskefylld flexibel blåsa i direkt kontakt med arbetsstycket. Drev (1) är en bunt av enfibertrådar, vanligtvis nästan parallella. Drifthastighet (gyro) (7) är den komponent av ett gyros utsignal som är funktionellt oberoende av gyrots rotation. Det uttrycks som en vinkelhastighet. (IEEE STD 528–2001). Effektbandbredd (3 5 7) är den bandbredd inom vilken uteffekten förblir konstant, inom 3 dB, utan justering av andra påverkbara parametrar. Effektiva gram (0 1) av särskilt klyvbart material är Ekvivalent täthet (6) är massan (vikten) hos en optisk enhet per enhet optisk yta projicerad på den optiska ytan. Elektronisk sammansättning (2 3 4 5) är ett antal elektroniska komponenter (dvs. kretselement, diskreta komponenter, integrerade kretsar, etc.) som kopplats samman för att utföra en eller flera specifika funktioner och är utbytbara i sin helhet och i allmänhet även kan tas isär. ANM. 1: Kretselement är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektronisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. ANM. 2: Diskret komponent: Ett separat kapslat kretselement med sina egna externa anslutningar. Enfibertrådar (1) eller fibertrådar är den minsta beståndsdelen av en fiber, vanligtvis flera mikrometer i diameter. Energetiskt material (1) är ämnen eller blandningar som reagerar kemiskt för att frigöra energi som är nödvändig för den tillämpning de är avsedda för. Sprängämnen, pyrotekniska produkter och drivmedel är underavdelningar till energetiskt material. Erfordras (GTN 1–9) avser, när det används i samband med teknik, endast den del av tekniken som särskilt svarar för att uppnå eller överskrida de kontrollerade prestandanivåerna, egenskaperna eller funktionerna. Sådan teknik som erfordras kan vara del av olika varor. FADEC-system (7 9) är detsamma som full authority digital engine control systems. Ett digitalt elektroniskt reglersystem för en gasturbinmotor som är i stånd att självständigt kontrollera motorn över hela dess driftområde, från begärd start av motorn till begärd avstängning av motorn, under både normala omständigheter och när fel föreligger. Fasstyrda antennsystem med elektronisk styrning (5 6) är en antenn runt vilken strålning bildas (lob) med hjälp av fasstyrning, t.ex. kan strålningsriktningen styras av komplexa magnetiseringskoefficienter för de strålande elementen och strålningsriktningen kan förändras i såväl asimut som elevation, eller bådadera, genom att en elektrisk signal läggs på, vid både mottagning och sändning. Fast (5) Med fast menas att kodnings- eller kompressionsalgoritmen inte kan ta emot externa parametrar (t.ex. krypto- eller nyckelvariabler) och inte kan ändras av användaren. Fibrer eller fiberliknande material (0 1 8) omfattar Finfördelning (1) är en process där ett material sönderdelas till partiklar genom krossning eller malning. Fokalplansmatris (6 8) är ett en- eller tvådimensionellt plant lager, eller en kombination av plana lager, av individuella detektorelement, med eller utan avläsningselektronik, som arbetar i det fokala planet. ANM.: Avsikten är inte att inkludera en stack med enstaka detektorelement eller detektorer med två, tre eller fyra element, såvida inte tidsfördröjning och integration genomförs i elementet. Frekvensmasktrigger (3) för signalanalysatorer är en mekanism där triggfunktionen kan väljas att triggas av ett frekvensområde, begränsat av datainsamlingsbandbredden, samt att alltså ignorera andra signaler som finns inom samma datainsamlingsbandbredd. En frekvensmasktriggerfunktion kan omfatta en eller flera av varandra oberoende uppsättningar av frekvensomfång. Frekvenssyntesutrustning (3) är varje typ av frekvensgivare, oavsett vilken teknik som används, som kan avge ett flertal samtidiga eller alternativa utfrekvenser, från en eller flera utgångar, som styrs, kontrolleras och ordnas av ett mindre antal standard- eller masterfrekvenser. Förformade kolfibrer (1). Härmed avses ett ordnat arrangemang av fibrer med eller utan ytbehandling som är avsedda att utgöra ett ramverk för en del innan matrisen tillsätts för att bilda en komposit. Garn (1) är en bunt av tvinnade kardeler. ANM.: Kardel är en bunt av enfibertrådar (vanligen fler än 200) som arrangerats i stort sett parallellt. Gasfinfördelning (1) är en process som reducerar en smält ström av metallegering till droppar med en diameter på 500 μm eller mindre genom att den utsätts för gasström med högt tryck. Genomsnittlig uteffekt (6) är den totala laser-utenergin, i joule, dividerat med den tid under vilken en serie av på varandra följande pulser sänds ut, i sekunder. För en serie pulser med samma mellanrum är den lika med den sammanlagda laser-utenergin i en enstaka puls, multiplicerad med laserns pulsfrekvens, i Hertz. Geografiskt åtskilda (6) innebär att varje avläsningsstation har ett avstånd av minst 1500 m i alla riktningar till andra stationer. Mobila stationer betraktas alltid som geografiskt åtskilda. Grundforskning (GTN och NTN) är experimentellt eller teoretiskt arbete för inhämtande av ny kunskap om fenomens fundamentala principer eller observerbara fakta och är inte direkt inriktad mot ett bestämt praktiskt syfte eller mål. Grundstabilitet (accelerometer) (7) är genomsnittet under en specificerad tidsperiod av accelerometerns utsignal, mätt vid specificerade driftsförhållanden som inte har någon korrelation till ingångsacceleration eller rotation. Grundstabilitet uttrycks i g eller i meter per sekundkvadrat (g eller m/s2). (IEEE Std 528–2001) (μg = 1 × 10-6 g). Grundstabilitet (gyro) (7) är genomsnittet under en specificerad tidsperiod av gyrots utsignal, mätt vid specificerade driftsförhållanden som inte har någon korrelation till ingångsacceleration eller rotation. Grundstabilitet uttrycks vanligen i grader per timme (grader/tim). (IEEE Std 528–2001). Gyron med roterande massa (7) är gyron som använder en ständigt roterande massa för att känna av vinkelrörelser. Hoppfrekvens (5) är en typ av bandspridning där sändningsfrekvensen för en enkel kommunikationskanal bringas att förändras genom en slumpmässig eller pseudo-slumpmässig sekvens av diskreta steg. Huvudbeståndsdel (4) är när det tillämpas i kategori 4 en huvudbeståndsdel om dess ersättningskostnad utgör mer än 35 % av det totala värdet av det system där den utgör en beståndsdel. Beståndsdelens värde är det pris som tillverkaren, eller systemanpassaren, har betalat för beståndsdelen. Totalvärdet är det normala internationella försäljningspriset till oberoende parter vid platsen för tillverkning eller samlastning. Huvudminne (4) är en dators primärminne för lagring av data eller instruktioner för snabb åtkomst av en centralprocessor. Det består av en digital dators internminne och varje till detta minne hierarkiskt anslutet minne, såsom cache-minne eller icke-sekventiellt åtkomligt utvidgat minne. Immuntoxin (1) är ett konjugat av en cellspecifik monoklonal antikropp och ett toxin eller toxinkomponent, som selektivt påverkar sjuka celler. Induktionsmagnetometer (6) är en enda givare som känner av en enkel magnetfältsgradient och tillhörande elektronik vars utsignal är ett mått på den magnetiska fältgradienten. ANM.: Se även Magnetiska gradiometrar. Informationssäkerhet (4 5) är alla medel och funktioner som säkerställer tillgänglighet, sekretess eller riktighet hos information, med undantag för de medel och funktioner som är avsedda att skydda mot funktionsfel. Detta inkluderar kryptografi, kryptografisk aktivering, kryptoanalys, skydd mot röjande strålning samt datorsäkerhet. ANM.: Med kryptoanalys avses analys av ett kryptografiskt system eller dess in- och utdata för att utvinna konfidentiella variabler eller känsliga data, inklusive klartext. Inre foder (9) är lämpat för limförbindelsen mellan det fasta bränslet och huset eller isoleringsinsatsen. Fodret är vanligen en vätskepolymerbaserad dispersion av svårsmält eller isolerande material, t.ex. kolfylld hydroxylterminerad polybutadien (HTPB) eller annan polymer med tillsatta härdare, som sprutas eller gjuts över insidan av huset. Instrumenterad räckvidd (6) är det specificerade entydiga avbildningsområdet för en radar. Inställningstid (3) är den tid som en utgångssignal behöver för att nå inom en halv bit av det slutliga värdet vid växling mellan två nivåer i en omvandlare. Integrerad hybridkrets (3) är varje kombination av en eller flera integrerade kretsar, eller integrerad krets med kretselement eller diskreta komponenter som kopplats samman för att utföra (en) specifik(a) funktion(er) och som har alla följande egenskaper: ANM. 1: Kretselement är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektronisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. ANM. 2: Diskret komponent: Ett separat kapslat kretselement med sina egna externa anslutningar. Integrerade kretsar av filmtyp (3) är en grupp av kretselement med metalliska förbindelser som skapats genom utfällning av tjock- eller tunnfilm på ett isolerande substrat. ANM.: Kretselement är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektronisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. Integrerade multikretsar (3). Härmed avses två eller fler monolitiska integrerade kretsar som bondats till ett gemensamt substrat. Intrångsprogram (4) är programvara som är särskilt utformad eller modifierad för att undvika upptäckt med övervakningsverktyg eller för att övervinna en dators eller en nätverkskapabel enhets skyddande motåtgärder, och som kan utföra något av följande: Intrångsprogram omfattar inte något av följande: Nätverkskapabla enheter innefattar mobila enheter och smarta mätare. Övervakningsverktyg: programvara eller maskinvara som övervakar systembeteenden eller processer som körs på en enhet. Detta innefattar antivirusprodukter (AV), produkter för ändpunktssäkerhet, personliga säkerhetsprodukter (Personal Security Products, PSP), intrångsdetekteringssystem (Intrusion Detection Systems, IDS), system för förebyggande av intrång (Intrusion Prevention Systems, IPS) eller brandväggar. Med skyddande motåtgärder avses tekniker som är utformade för att se till att kod kan exekveras på ett säkert sätt, t.ex. dataexekveringsskydd (Data Execution Prevention, DEP), ASLR-skydd (Address Space Layout Randomization) eller sandlådeteknik. Isolerade levande kulturer (1) innefattar levande kulturer i vilande form och i torkade preparat. Isolering (9) anbringas på komponenterna till en raketmotor, dvs. hus, munstycke, inlopp, tillslutningar, och omfattar härdade eller halvhärdade gummiduksblock innehållande ett isolerande eller eldfast material. Den kan också ingå som ett dämpningselement. Isostatiska pressar (2) är utrustning som har förmågan att genom olika medier (gasformigt, flytande, fasta partiklar osv.) trycksätta ett slutet hålrum för att skapa likformigt tryck i alla riktningar mot ett arbetsstycke eller material i hålrummet. Justerad topprestanda (4) är en justerad topphastighet vid vilken digitala datorer utför 64-bitars eller större flyttalsadditioner och flyttalsmultiplikationer, och den uttrycks i vägda teraflops (WT), i enheter om 1012 justerade flyttalsoperationer per sekund. ANM.: Se kategori 4, teknisk anmärkning. Kemisk blandning (1) är en fast, flytande eller gasformig produkt som består av två eller fler komponenter som inte reagerar tillsammans under de förhållanden under vilka blandningen lagras. Kemisk laser (6) är en laser i vilken de exciterade nivåerna alstras genom energin från en kemisk reaktion. Kompensationssystem (6) består av den primära skalärsensorn och en eller flera referenssensorer (t.ex. vektormagnetometrar) tillsammans med programvara som gör det möjligt att minska plattformens stelkroppsrotationsbuller. Komposit (1 2 6 8 9) är en matris och en eller flera tillsatsstrukturer som består av partiklar, tunna trådar, fibrer eller någon kombination av dessa, som ingår av ett eller flera specifika skäl. Konturstyrning (2) innebär att två eller flera numeriskt styrda rörelser arbetar i enlighet med instruktioner som specificerar nästa erforderliga position och de erforderliga matningshastigheterna till den positionen. Dessa matningshastigheter varieras i förhållande till varandra så att den önskade konturen generas (Referens ISO/DIS 28.6.1980). Kritisk temperatur (1 3 5) (ibland kallad övergångstemperatur) för ett specifikt supraledande material är den temperatur då materialet upphör att ha någon resistans mot elektrisk likström. Kryptografi (5) är verksamhet som innefattar principer, medel och metoder för att transformera data så att dess informationsinnehåll kan döljas, förhindra oupptäckt förändring därav eller förhindra obehörig användning. Kryptografi, är begränsad till transformering av information genom att använda en eller flera hemliga parametrar (t.ex. kryptovariabler) eller tillhörande nyckelhantering. Anmärkning: Kryptografi omfattar inte fasta datakompressions- eller datakodningstekniker. Hemlig parameter: en konstant eller nyckel som undanhålls utomstående eller endast delas inom en grupp. Kryptografisk aktivering (5) avser all teknik som aktiverar eller möjliggör kryptografisk kapacitet, via en säker mekanism som implementeras av produktens tillverkare och som är unikt knuten till den produkt eller kund för vilken den kryptografiska kapaciteten aktiveras eller tillgängliggörs (t.ex. en serienummerbaserad licensnyckel eller ett autentiseringsinstrument så som ett digitalt signerat certifikat). Metoder och mekanismer för kryptografisk aktivering kan implementeras som maskinvara, programvara eller teknik. Kvantkryptografi (5) är en samling metoder för att upprätta en gemensam nyckel för kryptografi genom att mäta ett fysikaliskt systems kvantmekaniska egenskaper (inklusive de fysikaliska egenskaper som uttryckligen styrs av kvantoptik, kvantfältteori eller kvantelektrodynamik). Källkod (eller källspråk) (6 7 9) är ett begripligt uttryck för en eller flera processer som kan omvandlas av ett programmeringssystem till en för utrustningen exekverbar form (objektkod [eller objektspråk]). Kärnreaktor (0) är en fullständig reaktor som kan upprätthålla en kontrollerad självunderhållande kedjereaktion av kärnklyvningar. En kärnreaktor omfattar alla föremål som är placerade i eller i direkt anslutning till reaktorkärlet, utrustningen som kontrollerar effektnivån i härden och de komponenter som normalt innesluts, kommer i direkt kontakt med eller styr primärkylmedlet i reaktorhärden. Laser (0 2 3 5 6 7 8 9). En laser är en sammansättning av komponenter som producerar ett i såväl tiden som rummet koherent ljus som är förstärkt med hjälp av stimulerad strålningsemission. ANM.: Se också: Kemiska lasrar Super-High-Power-Lasers Transferlasrar. Linjäritet (2) (mäts vanligen i termer av icke-linjäritet) är den maximala avvikelsen för den faktiska karaktäristiken (medelvärdet av övre och undre avläsningar), positiva eller negativa, från en rät linje som placerats så att den utjämnar och minimerar de maximala avvikelserna. Lokalt nät (4 5) är ett datakommunikationssystem som har alla följande egenskaper: ANM.: Dataenhet: En utrustning som kan sända eller ta emot sekvenser med digital information. Luftfartyg (1 7 9) är luftburna farkoster med fasta vingar, svängande vingar, roterande vingar (helikoptrar), tippande rotorer eller tippande vingar. ANM.: Se även civila luftfartyg. Luftskepp (9) är motordrivna luftburna farkoster som använder gaser som är lättare än luft som lyftkraft (oftast helium, tidigare väte). Lättare än luft-farkoster (9) är ballonger och luftskepp som använder varmluft eller andra gaser som är lättare än den omgivande luften, t.ex. helium eller väte, som lyftkraft. Magnetiska gradiometrar (6) är instrument som kan detektera variationen i rummet av magnetfält som härrör från källor utanför instrumentet. De består av flera magnetometrar och tillhörande elektronik vars utsignal ger ett mått på magnetfältsgradienten. ANM.: Se även Induktionsmagnetometer. Magnetometrar (6) är instrument som är avsedda att detektera magnetfält från källor utanför instrumentet. Instrumentet består av ett enda element som känner av magnetfält samt tillhörande elektronik vars utsignal ger ett mått på magnetfältet. Manipulatorer (2) är griparmar, aktiva verktygsenheter och andra verktyg som fästs i änden av en robots manipulatorarm. ANM.: En aktiv verktygsenhet är en enhet som tillför rörelsekraft, processenergi eller avkänning till ett arbetsstycke. Material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6 (0) innefattar koppar, kopparlegeringar, rostfritt stål, aluminium, aluminiumoxid, aluminiumlegeringar, nickel eller legeringar som innehåller mer än 60 viktprocent nickel och fluorerade kolvätepolymerer. Matris (1 2 8 9) är en huvudsakligen kontinuerlig struktur som till stor del fyller upp utrymmet mellan partiklar, kristalliska trådar eller fibrer. Mekanisk legering (1) är en legeringsprocess som är resultatet av sammanfogning, sönderdelning och ny sammanfogning av grundämnen och metallpulver genom mekanisk stöt. Icke metalliska partiklar kan tillföras legeringen genom att lämpligt pulver tillsätts. Mikrodator-mikrokrets (3) är en monolitisk integrerad krets eller integrerad multikrets som innehåller en aritmetisk logisk enhet (ALU) som kan utföra allmänna instruktioner från ett internt minne på data som är lagrade i det interna minnet. ANM.: Det interna minnet kan utökas genom ett extern minne. Mikroorganismer (1 2) avser bakterier, virus, mycoplasma, rickettsier, chlamydia eller svampbildningar, oavsett om de är naturliga, förbättrade eller modifierade, antingen som isolerade levande kulturer eller som material som innehåller levande material som avsiktligt inympats eller kontaminerats med sådana kulturer. Mikroprocessor-mikrokrets (3) är en monolitisk integrerad krets eller en integrerad multikrets som innehåller en aritmetisk logisk enhet (ALU) som kan utföra en serie av allmänna instruktioner från ett externt minne. ANM. 1: Mikroprocessor-mikrokretsen innehåller normalt inte något integrerat minne åtkomligt för användaren, även om minne som finns på chipet kan användas för att utföra dess logiska operationer. ANM. 2: Detta omfattar även satser av chip som är konstruerade för att arbeta tillsammans för att fungera som en mikroprocessor-mikrokrets. Missiler (1 3 6 7 9) är kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster som kan bära en last på minst 500 kg nyttolast en sträcka av minst 300 km. Monolitisk integrerad krets (3) är en kombination av passiva eller aktiva kretselement eller både och som ANM.: Kretselement är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektronisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. Monospektrala bildsensorer (6) kan samla in bilddata från ett diskret spektralband. Multispektrala bildsensorer (6) kan samtidigt eller i serie ta emot bilddata från två eller flera diskreta spektralband. Sensorer som har mer än 20 spektralband kallas ibland för hyperspektrala bildsensorer. Målindikering (6) är bearbetad och korrigerad (förening av radarmåldata med flygplansposition) och uppdaterad flygplanspositionsrapport till flygtrafikövervakningscentrets controllers. Mätosäkerhet (2) är den karakteristiska parameter som specificerar inom vilket område runt utgångsvärdet som det korrekta värdet av den mätbara variabeln ligger, med en konfidensnivå på 95 %. Det innefattar de okorrigerade systemavvikelserna, den okorrigerade dödgången och de slumpvisa avvikelserna (referens ISO 10360–2). Naturligt uran (0) är uran som innehåller samma blandning av isotoper som förekommer i naturen. Neural dator (4) är en dataenhet som är konstruerad eller modifierad för att efterlikna ett neurons eller en neuronsamlings beteende, dvs. en beräkningsanordning som kännetecknas av förmågan hos dess maskinvara att modulera vikten och antalet förbindelser till ett flertal beräkningskomponenter baserat på tidigare data. Noggrannhet (2 6) som vanligen mäts som bristande noggrannhet är ett angivet värdes största avvikelse, positiv eller negativ, från en godtagen standard eller sant värde. Numerisk styrning (2). Automatisk styrning av en process som utförs av en enhet som använder numeriska data, som normalt införs efterhand som operationen fortskrider (Referens ISO 2382). Obemannad luftfarkost (UAV) (9) är ett luftfartyg som kan inleda flygning och upprätthålla kontrollerad flygning och navigation utan någon mänsklig närvaro ombord. Objektkod (GSN) är en maskinexekverbar form av ett begripligt uttryck för en eller flera processer (källkod [källspråk]) som har kompilerats av ett programmeringssystem. Optimering av flygbanan (7) är en procedur som minimerar avvikelser från en fyrdimensionell (rum och tid) önskad bana på grundval av maximering av prestanda eller effektivitet med avseende på uppdragsuppgifter. Optisk avkännargrupp för flygplansstyrning (Flight control optical sensor array) (7) är ett nät av fördelade optiska sensorer med laser-strålar som ska åstadkomma realtidflygplansstyrningsdata för bearbetning ombord. Optisk dator (4) är en dator som är konstruerad eller modifierad för att använda ljus för att representera data och vars beräknande logikelement är baserade på direkt kopplade optiska enheter. Optisk förstärkning (5) är i optisk kommunikation en förstärkningsteknik som för in en förstärkning av optiska signaler som har alstrats av en separat optisk källa utan omvandling till elektriska signaler, dvs. genom att använda optiska halvledarförstärkare eller ljusalstrande ljusledarförstärkare. Optisk integrerad krets (3) är en monolitisk integrerad krets eller en integrerad hybridkrets som innehåller en eller flera delar som är avsedda att fungera som en fotosensor eller fotoemitter eller att utföra en eller flera optiska eller elektrooptiska funktioner. Optisk koppling (5) är dirigering eller omkoppling av signaler i optisk form utan omvandling till elektriska signaler. Personligt nät (5) är ett datakommunikationssystem som har båda följande egenskaper: Dataenhet: En utrustning som kan sända eller ta emot sekvenser med digital information. Plaskavkylning (1) är en process för snabb stelning av en smält metallström som träffar ett nedkylt block som bildar en flingliknande produkt. ANM.: Snabb stelning: Stelning av smält material vid nedkylningshastigheter över 1000 K/s. Primär flygplansstyrning (7) är en stabilitets- eller manövreringsstyrning för luftfartyg som använder kraft/moment-generatorer, dvs. aerodynamiska styrytor eller dragkraftsvektorisering. Produktion (GTN NTN alla) är alla produktionsskeden, t.ex. konstruktion, produktionsutveckling, tillverkning, integrering, sammansättning (montering), inspektion, provning och kvalitetssäkring. Produktionshjälpmedel (7 9) är produktionsutrustning och särskilt utvecklad programvara för denna som integrerats i installationer för utveckling eller för en eller flera produktions-faser. Produktionsutrustning (1 7 9) avser verktygsuppsättningar, mallar, jiggar, dornar, formar, gängskärningsverktyg, fixturer, uppriktningsanordningar, testutrustning, annat maskineri och därtill hörande komponenter och begränsat till att omfatta sådant som är speciellt konstruerat eller modifierat för utveckling eller för en eller flera produktions-faser. Program (2 6) är en sekvens av instruktioner avsedd för utförande av en process i, eller omvandlad till, sådan form som är exekverbar för en elektronisk dator. Programvara (GSN alla) är en samling av ett eller flera program eller mikroprogram som är lagrade på något fysiskt medium. ANM.: Mikroprogram är en sekvens elementära instruktioner som är lagrade i ett särskilt minne och vars exekvering initieras när dess referensinstruktion införs i ett instruktionsregister. Pulsad laser (6) är en laser som har en pulslängd som är högst 0,25 sekunder. Pulskompression (6) är kodning och behandling av en radarsignalpuls av lång varaktighet till kort varaktighet under bevarande av fördelarna med hög pulsenergi. Pulslängd (6) är en laser-puls varaktighet och avser tiden mellan 3-dB-punkterna på en enskild punkts framkant och bakkant. Radarhoppfrekvensteknik (6) är en teknik som slumpmässigt ändrar bärfrekvensen i en pulserad radarsändare mellan pulser eller grupper av pulser med ett värde som är lika med eller större än pulsens bandbredd. Radialkast (run-out) (2) är radiell förskjutning på ett varv på huvudspindeln mätt i ett plan som är vinkelrätt mot spindelaxeln i en punkt på den yttre eller inre roterande yta som ska provas (referens ISO 230/1 1986 punkt 5.61). Realtidsbandbredd (3) för signalanalysatorer är det största frekvensområde för vilket analysatorn kontinuerligt kan fullständigt transformera tidsdomändata till frekvensdomändata med hjälp av en Fourier-transform eller annan diskret tidstransform som processar varje inkommande tidpunkt utan luckor eller fönstereffekter som orsakar en reduktion av den mätta amplituden på mer än 3 dB under den aktuella signalens amplitud, samtidigt som den anger eller presenterar den transformerade datan. Realtidsbearbetning (2 6 7) är ett datorsystems bearbetning av data som åstadkommer en erforderlig servicenivå som en funktion av de disponibla resurserna inom en garanterad svarstid oberoende av belastningen av systemet då det stimuleras av en yttre händelse. Relativ bandbredd (3 5) är effektbandbredden dividerad med mittfrekvensen uttryckt i procent. Repeterbarhet (7) är graden av överensstämmelse mellan upprepade mätningar av samma variabel under samma operativa betingelser när förändringar i villkor eller icke-operativa perioder förekommer mellan mätningarna (Referens: IEEE STD 528–2001 [1 sigma standardavvikelse]). Robot (2 8) är en manipuleringsmekanism som kan vara av banstyrnings- eller punktstyrningstypen, som eventuellt brukar sensorer och som har alla följande egenskaper: ANM.: Ovanstående definition omfattar inte följande anordningar: Rotationsfinfördelning (1) är en process för reducering av en ström eller en behållare av smält metall till droppar med en diameter av högst 500 μm med hjälp av centrifugalkraft. Rymdfarkost (7 9) är aktiva och passiva satelliter och rymdsonder. Rymdkvalificerad (3 6 7) innebär konstruerad, tillverkad eller kvalificerad genom att godkännas i test för att arbeta på en höjd över 100 km över jordens yta. ANM.: Fastställandet av att en specifik enhet är rymdkvalificerad genom testning innebär inte att övriga enheter i samma produktionsomgång eller modellserie är rymdkvalificerade om de inte har testats individuellt. SHPL är detsamma som super high power laser. Signalanalysatorer (3) är anordningar som kan mäta och visa grundläggande egenskaper hos signalkomponenter för enskilda frekvenser i flerfrekvenssignaler. Signalbehandling (3 4 5 6) avser bearbetning av externt erhållna informationsbärande signaler med hjälp av algoritmer såsom tidskompression, filtrering, extraktion, urval, korrelation, konvolution eller transformationer mellan domäner (t.ex. Fast Fourier-transform eller Walsh-transform). Skalfaktor (gyro eller accelerometer) (7) är kvoten mellan en ändring i utgången och en ändring i ingången som är avsedd att mätas. Skalfaktorn uttrycks vanligen som lutningen på en rät linje som kan anpassas enligt metoden om minsta kvadraten på in-utdata genom att variera insignalen cykliskt över hela ingångsområdet. Skivor (substrate blanks) (3 6) är monolitiska föreningar med dimensioner lämpliga för framställning av optiska element såsom speglar eller optiska fönster. Skoveltak (9) är en stationär ringkomponent (massiv eller segmenterad) som anbringas på innerytan av motorns turbinhölje eller som en funktion på turbinbladets ytterspets och som i första hand ger en gastätning mellan de stationära och de rörliga komponenterna. Slumpmässig vinkeldrift (7) är det över tiden ackumulerade vinkelfel som beror på vitt brus i vinkelhastighet. (IEEE STD 528–2001). Smältbar (1) är förmåga att tvärbindas eller polymeriseras ytterligare (härdas) genom användning av värme, strålning, katalysatorer osv., eller förmåga att smältas utan pyrolys (förkolning). Smältspinning (1) är en process för snabb stelning av en smält ström av metall som får rinna ut över ett kylt roterande block så att en fling-, band- eller stavliknande produkt bildas. ANM.: Snabb stelning: Stelning av smält material vid nedkylningshastigheter över 1000 K/s. Smältutdragning (1) är en process för snabb stelning och utdragning av en bandliknande legeringsprodukt genom att ett kort segment av ett roterande kylt block förs ner i det smälta metallegeringsbadet. ANM.: Snabb stelning: Stelning av smält material vid nedkylningshastigheter över 1000 K/s. Specifika modulen (0 1 9) är Youngs modul i pascal, (N/m2) dividerat med specifika vikten i N/m3, mätt vid (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C) och en relativ fuktighet av (50 ± 5) %. Specifik brottgräns (0 1 9) är brottgränsen i pascal (N/m2) dividerat med specifika vikten i N/m3, mätt vid (296 ± 2) K ((23 ± 2) °C) och en relativ fuktighet av (50 ± 5) %. Radarbandspridning (6) är varje modulationsteknik för spridning av energi som härrör från en signal med relativt smalt frekvensband över ett mycket större frekvensband genom användning av slumpmässig eller pseudo-slumpmässig kodning. Sprängämnen (1) är fasta, flytande eller gasformiga ämnen eller blandningar av ämnen som, när de används som primärt sprängämne, booster eller huvudladdning i stridsspetsar, sprängladdningar eller annan användning, är avsedda att detonera. Stabilitet (7) är standardavvikelsen (1 sigma) av variationen av en bestämd parameter från dess kalibrerade värde mätt under stabila temperaturförhållanden. Den kan uttryckas som en funktion av tiden. Stater som (inte) är parter i konventionen om kemiska vapen (1) är de stater för vilka konventionen om förbud mot utveckling, produktion, lagring och användning av kemiska vapen (inte) har trätt i kraft. (Se www.opcw.org) Strålningskänslighet (6) är strålningsintensitet (mA/W) = 0,807 × (våglängd, nm) × kvantverkningsgrad (QE). QE uttrycks normalt som procentandel; i denna formel uttrycks dock QE som ett decimaltal som är mindre än ett och 78 % motsvaras således av 0,78. Styrenhet för kommunikationskanal (4). Härmed avses det fysiska gränssnitt som styr flödet av synkron eller asynkron digital information. Den är sammansatt av komponenter som kan vara integrerade i en dator eller telekommunikationsutrustning för att medge kommunikationsaccess. Styrenhet för åtkomst till nätverk (4) är ett fysiskt gränssnitt till en distribuerande nätverksväxel. Det använder ett vanligt medium som genomgående arbetar med samma digitala överföringshastighet och använder någon form av avgränsning (t.ex. staffet [token] eller bärvågsavkänning [carrier sense]) för överföringen. Oberoende av andra kan den välja ut ett datapaket eller en datagrupp (t.ex. IEEE 802) som är adresserat till den. Den är sammansatt av komponenter som kan vara integrerade i en dator eller telekommunikationsutrustning för att medge kommunikationsaccess. Styrsystem (7) är system som integrerar processen av mätning och beräkning av en farkosts position och hastighet (dvs. navigation) med att beräkna och överföra order till farkostens flygkontrollsystem för att korrigera banan. Substrat (3) är en tunn platta av basmaterialet med eller utan anslutningsmönster och på vilket eller i vilket diskreta komponenter eller integrerade kretsar eller både och kan vara placerade. ANM. 1: Diskret komponent: Ett separat kapslat kretselement med sina egna externa anslutningar. ANM. 2: Kretselement är en ensam aktiv eller passiv funktionell del av en elektronisk krets, såsom en diod, en transistor, ett motstånd, en kondensator osv. Super-High-Power Laser (6). Med Super-High-Power Laser (SHPL) avses en laser som kan leverera (totalt eller någon del av) en utenergi som överstiger 1 kJ inom 50 ms, eller har en genomsnittlig eller kontinuerlig uteffekt som överstiger 20 kW. Superlegeringar (2 9) är nickel-, kobolt- eller järnbaserade legeringar som har en hållfasthet överlägsen alla legeringar i serien AISI 300 vid temperaturer över 922 K (649 °C) under svåra omgivnings- och arbetsförhållanden. Superplastisk bearbetning (1 2) är en deformationsprocess där värme tillsätts vid bearbetningen av metaller som normalt karakteriseras av låga töjningsvärden (mindre än 20 %) i förhållande till brottgränsen vid rumstemperatur, som den bestäms med konventionella brottgränstester. Genom uppvärmningen vid deformationsprocessen får materialet en töjningsförmåga som ökar till minst det dubbla. Supraledande (1 3 5 6 8). Supraledare är material, t.ex. metaller, legeringar eller blandningar, som kan förlora all elektrisk resistans. Detta innebär att de kan uppnå oändlig elektrisk ledningsförmåga och överföra mycket stora strömmar utan joulsk upphettning. ANM.: Den supraledande effekten hos ett material karakteriseras individuellt av en kritisk temperatur, ett kritiskt magnetfält som är en funktion av temperaturen, samt av en kritisk strömtäthet som emellertid är beroende av både det magnetiska fältet och temperaturen. Symmetrisk algoritm (5) är en krypteringsalgoritm där samma nyckel används för både kryptering och dekryptering. ANM.: Ett vanligt användningsområde för symmetriska algoritmer är datasekretess. Systoliska kedjor, datorer för (4). Dator för systoliska kedjor är en dator där flödet och förändringen av data är dynamiskt styrbara av användaren. Särskilt klyvbart material (0) är plutonium-239, uran-233, uran anrikat med avseende på isotoperna 235 eller 233 samt varje material som innehåller de föregående. Tejp (1) är ett material konstruerat av flätade eller i samma riktning lagda enfibertrådar, kardeler, vävar, drev eller garn osv., vanligtvis förimpregnerat med harts. ANM.: Kardel är en bunt av enfibertrådar (vanligen fler än 200) som arrangerats i stort sett parallellt. Teknik (GTN NTN Alla) avser specifik information som är nödvändig för utveckling, produktion eller användning av varor. Informationen kan ha formen teknisk assistans eller tekniska uppgifter. ANM. 1: Teknisk assistans kan avse instruktioner, färdigheter, träning, arbetsmetoder och konsulttjänster och kan innebära överförande av tekniska uppgifter. ANM. 2: Tekniska uppgifter kan avse ritningskopior, planer, diagram, modeller, formler, tabeller, ritningar, manualer och instruktioner, skrivna eller inspelade på andra medier eller enheter såsom disketter, band eller ROM-minnen. Tid för att byta frekvens (3) avser den tid (dvs. fördröjning) som det tar för en signal som skiftas från en initial angiven utgångsfrekvens att nå en frekvens som avviker med högst ± 0,05 % från den slutliga specificerade utgångsfrekvensen. Produkter med ett specificerat frekvensområde som omfattar mindre än ± 0,05 % kring deras mittfrekvens definieras som oförmögna till byte av frekvens. Tidigare separerat (0 1) avser tillämpning av någon process som är avsedd att öka koncentrationen av den kontrollerade isotopen. Tidskonstant (6) är den tid det tar från det en sammansättning nås av ett ljus till dess strömökningen når värdet (1–1/e) gånger slutvärdet (dvs. 63 % av det slutliga värdet). Tilldelad genom ITU (3 5) innebär tilldelning av frekvensband i enlighet med den nuvarande upplagan av ITU:s radioreglemente för primära, tillåtna och sekundära tjänster. ANM.: Ytterligare och alternativa tilldelningar är inte inkluderade. Tipp- och vridbara arbetsbord (Compound rotary tables) (2). Arbetsbord vars yta kan tippas och vridas runt två icke-parallella axlar som kan styras samtidigt och därmed medge kurvlinjestyrning. Tippbara spindlar (2) är verktygshållande spindlar som under bearbetningsprocessen ändrar sin centrumlinje i förhållande till andra axlar. Toppeffekt (6) är den högsta effekten som uppnås under pulslängden. Total digital överföringshastighet (5). Med total digital överföringshastighet avses det antal bitar, inklusive linjekodning, overhead osv., som per tidsenhet passerar mellan korresponderande delar i ett digitalt transmissionssystem. ANM.: Se även digital överföringshastighet. Totala strömtätheten (3) är det totala antalet amperevarv i en spole (t.ex. summan av antalet varv multiplicerat med maximala strömmen som går genom varje varv) dividerat med spolens tvärsektion (inbegripet de supraledande trådarna, metallmatrisen i vilken de supraledande trådarna är inbäddade, kapslingsmaterial, alla kylkanaler osv.). Toxiner (1 2). Härmed avses toxiner i form av avsiktligt isolerade preparat eller blandningar, oavsett hur de producerats, andra än toxiner som förekommer som främmande ämnen i andra material såsom patologiska preparat, råvaror, livsmedel eller frökapslar av mikroorganismer. Toxinkomponent (1) är en strukturellt och funktionsmässigt diskret komponent av hela toxinet. Transferlasrar (6). Med transferlasrar avses lasrar i vilka de exciterande aktiva ämnena exciteras genom att energi överförs vid kollisionen mellan lasrande och icke lasrande atomer eller molekyler. Tredimensionella integrerade kretsar (3) avser en samling halvledarbrickor som är integrerade med varandra och som har genomföringshål genom minst en av brickorna för att skapa kopplingar mellan brickorna. Typisk grindfördröjningstid (3). Härmed avses den tidsfördröjning som motsvarar den tidsfördröjning som uppstår i en grind som har typisk uppbyggnad och används i en monolitisk integrerad krets. För en familj av monolitiska integrerade kretsar kan detta specificeras antingen som tidsfördröjningen för en typisk grind inom den givna familjen eller som typisk fördröjningstid per grind inom den givna familjen. ANM. 1: Typisk grindfördröjningstid får inte förväxlas med fördröjningstiden mellan in- och utgång hos en komplex monolitisk integrerad krets. ANM. 2: En familj utgörs av alla integrerade kretsar för vilka följande tillämpas till fullo när det gäller tillverkningsmetod och specifikationer, utom deras respektive funktioner: Upplösning (2). Härmed avses det minsta tillägget i en mätenhet, i digitala instrument avses den minst signifikanta biten (Referens ANSI B-89.1.12). Uran anrikat i isotoperna 235 eller 233 (0). Härmed avses uran som innehåller isotoperna 235 eller 233, eller båda, i en sådan mängd att förhållandet mellan summan av dessa isotoper och isotop 238 är större än det förhållande mellan isotop 235 och isotop 238 som förekommer i naturen (isotopförhållandet 0,71 %). Utarmat uran (0) är sådant uran som utarmats med avseende på isotop 235 under de värden som uppträder i naturen. Uteffektsanpassning (7). Härmed avses ett system där man genom att styra effekten alltid kan använda minsta möjliga signal för att från ett luftfartyg bestämma höjdläget. Utveckling (GTN NTN alla) är alla faser före serieproduktion såsom: konstruktion, konstruktionsforskning, konstruktionsanalys, konstruktionskoncept, sammansättning och provning av prototyper, pilottillverkningsplaner, konstruktionsuppgifter, datadesign, processen då konstruktionsuppgifterna förvandlas till en produkt, fastställande av design och integrering, layouter. Vaccin (1) avser en medicinsk produkt i en farmaceutisk blandning för vilken tillsynsmyndigheterna i antingen tillverkningslandet eller användningslandet har beviljat licens eller gett tillstånd för marknadsföring eller kliniska test, och vars ändamål är att stimulera ett immunologiskt skydd mot sjukdomar hos de människor eller djur som produkten administreras till. Vakuumfinfördelning (1). En process som reducerar en smält ström av metall till droppar med en diameter på 500 μm eller mindre genom hastig sönderdelning av en gas som utsätts för vakuum. Varm isostatisk förtätning (2) Härmed avses en process där man trycksätter ett gjutgods vid temperaturer som överskrider 375 K (102 °C) i ett slutet hålrum med hjälp av olika medier (gas, vätska, massiva partiklar osv.) för att skapa lika tryck i alla riktningar i avsikt att reducera eller eliminera antalet håligheter i gjutgodset. Vingprofil med variabel geometri (7). Härmed avses klaffar på bakkanten, eller lister på framkanten eller upphöjda framkanter som kan styras under flygning. Vinkelavvikelse från en position (2) innebär den maximala differensen mellan den aktuella positionen och den ursprungliga positionen som ett arbetsstycke har efter att det förflyttats från sin ursprungliga position och sedan återförts. Väv (1) är en bunt (typiskt 12–120) av nästan parallella kardeler. ANM.: Kardel är en bunt av enfibertrådar (vanligen fler än 200) som arrangerats i stort sett parallellt.

DEFINITION AV TERMER SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA Teknisk anmärkning:

a)

en fysisk förändring i kopplingar eller tråddragningar, eller

b)

inställning av funktionskontrollerna inklusive införandet av nya parametrar.

a)

en enda kontinuerlig optisk reflekterande yta som kan deformeras dynamiskt genom att individuella vrid- eller tryckkrafter appliceras för att kompensera för distortioner i den optiska vågformen som infaller mot spegeln, eller

b)

flera optiska reflekterande element som individuellt och dynamiskt kan flyttas om genom påverkan av vrid- eller tryckkrafter för att kompensera för distortioner i den optiska vågform som infaller mot spegeln.

a)

Ta emot data.

b)

Lagra data eller instruktioner i fasta eller föränderliga (skrivbara) minnesenheter.

c)

Bearbeta data med hjälp av lagrade sekvenser av instruktioner som kan förändras.

d)

Mata ut data.

a)

för plutoniumisotoper och uran-233, isotopvikten i gram,

b)

för uran som anrikats 1 % eller mer med avseende på isotopen uran-235, massan av uran i gram multiplicerad med kvadraten på dess anrikning uttryckt som ett decimalviktbråk,

c)

för uran anrikat under 1 % med avseende på isotopen uran-235, massan av uran i gram multiplicerad med 0,0001.

a)

kontinuerliga enfibertrådar,

b)

kontinuerliga garn och väv,

c)

tejp, duk, mattor och band,

d)

hackade fibrer, cellull, rayonull och sammanhängande fiberfiltar,

e)

tunna trådar (whiskers), antingen mono- eller polykristallina av valfri längd,

f)

aromatisk polyamidmassa.

a)

Innehåller åtminstone en okapslad enhet,

b)

är sammankopplad med en metod som är typisk för produktion av integrerade kretsar,

c)

är utbytbar som en enhet, och

d)

kan normalt inte tas isär.

a)

Extraktion av data eller information från en dator eller en nätverkskapabel enhet, eller ändring av systemdata eller användardata, eller

b)

ändring av den normala exekveringsvägen för program eller processer för att medge exekvering av instruktioner som kommer utifrån.

DEFINITION AV TERMER SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA Teknisk anmärkning: Anmärkningar: 1.

a)

Hypervisorer, felsökningsprogram eller verktyg för reverse engineering av programvara,

b)

programvara för hantering av digitala rättigheter (Digital Rights Management, DRM), eller

c)

programvara som är utformad för att kunna installeras av tillverkare, administratörer eller användare för att spåra eller återställa tillgångar.

DEFINITION AV TERMER SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA Teknisk anmärkning: Anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:

a)

Tillåter ett godtyckligt antal oberoende dataenheter att kommunicera direkt med varandra, och

b)

är begränsade till en geografisk area av rimlig storlek (t.ex. en kontorsbyggnad, en fabrik, ett universitetsområde, ett förråd).

a)

har formats med hjälp av diffusionsprocesser, implantationsprocesser eller utfällningsprocesser i eller på ett enda stycke halvledande material, ett så kallat chip,

b)

kan betraktas som odelbart sammankopplade, och

c)

utför en eller flera kretsfunktioner.

a)

Tillåter ett godtyckligt antal oberoende eller sammankopplade dataenheter att kommunicera direkt med varandra.

b)

Är begränsat till kommunikation mellan enheter i en enskild persons eller enhetscontrollers omedelbara närhet (t.ex. ett enskilt rum, ett kontor eller ett motorfordon och den närliggande omgivningen).

DEFINITION AV TERMER SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA Teknisk anmärkning: Anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:

a)

Den är multifunktionell.

b)

Den är kapabel att placera eller orientera material, delar, verktyg eller speciella komponenter med variabla rörelser i tredimensionellt rum.

c)

Den omfattar tre eller flera servoanordningar med öppen eller sluten slinga som kan omfatta stegmotorer.

d)

Den har även användartillgänglig programmerbarhet med hjälp av lär/utför-metoden eller med hjälp av en elektronisk dator som kan vara en programmerbar logikcontroller, dvs. utan mekanisk förmedling.

1. Manipulationsmekanismer som bara kan styras manuellt eller med fjärrstyrning.

2. Mekanismer med fast-sekvens-manipulering som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är mekaniskt begränsat av fasta stoppanordningar, t.ex. stift eller kammar. Rörelsernas sekvensföljd och valet av banor eller vinklar är inte variabla eller utbytbara på mekaniskt, elektroniskt eller elektriskt sätt.

3. Mekaniskt styrda manipuleringsmekanismer med variabel sekvens som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är mekaniskt begränsat av fasta men justerbara stoppanordningar, t.ex. stift eller kammar. Rörelsernas sekvensföljd och valet av banor eller vinklar är variabla inom det fasta programmönstret. Variationer eller modifikationer av programmönstret (t.ex. ändringar av stift eller utbyte av kammar) längs en eller flera rörelseaxlar kan endast göras genom mekaniska operationer.

4. Icke servostyrda manipuleringsmekanismer med variabel sekvens som är automatiserade rörelseanordningar som arbetar enligt mekaniskt fasta programmerade rörelser. Programmet är variabelt, men sekvensen genomförs endast vid binära signaler från mekanisk fixerade elektriska binära anordningar eller justerbara stoppanordningar.

5. Staplingskranar som är definierade som kartesiska koordinatmanipuleringssystem som är tillverkade som en integrerad del av ett lodrätt system av lagringsbehållare och konstruerade för att komma åt innehållet i dessa behållare för lagring eller hämtning.

DEFINITION AV TERMER SOM ANVÄNDS I DENNA BILAGA Teknisk anmärkning: Anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:

a)

Gemensam utformning av maskin- och programvara.

b)

Gemensam ritning och processteknik.

c)

Gemensamma typiska egenskaper.

KATEGORI 0 KÄRNMATERIAL, ANLÄGGNINGAR OCH UTRUSTNING

0A System, utrustning och komponenter 0A001 Kärnreaktorer och utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för sådana enligt följande:

0A a)

Kärnreaktorer.

b)

Metallkärl eller större fabrikstillverkade delar till sådana, inklusive reaktortankens lock för ett reaktortryckkärl, som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att innesluta härden hos en kärnreaktor.

c)

Hanteringsutrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för att föra in eller avlägsna bränsle i en kärnreaktor.

d)

Styrstavar som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att reglera klyvningsprocessen i en kärnreaktor, tillhörande stöd- och upphängningsanordningar samt drivdon och styrrör för stavarna.

e)

Tryckrör som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att innesluta både bränsleelement och primärkylmedel i en kärnreaktor.

f)

Zirkoniummetall och -legeringar, i form av rör eller hopsättningar av rör, som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas som bränsleinkapsling i en kärnreaktor och i kvantiteter på över 10 kg. ANM.: För tryckrör av zirkonium se 0A001.e och för rörtanksrör se avsnitt 0A001.h.

g)

Kylmedelpumpar eller cirkulatorer som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att pumpa runt primärkylmedel i en kärnreaktor.

h) Teknisk anmärkning:

Kärnreaktors interna delar som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en kärnreaktor, inklusive bottenplatta för härden, bränslekanaler (bränsleboxar), rörtanksrör, termiska skärmar, bafflar, härdgaller samt diffusorplåtar. I avsnitt 0A001.h betyder kärnreaktors interna delar varje större konstruktion inuti ett reaktorkärl som fyller en eller flera funktioner, som att bära upp härden, upprätthålla härdens geometri, rikta primärkylmedlets flöde, utgöra strålskärmar för reaktorkärlet och leda härdinstrumentering på plats.

i)

Värmeväxlare enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 0A001.i omfattar inte värmeväxlare för reaktorns stödsystem, t.ex. nödkylningssystemet eller kylsystemet för sönderfallvärme.

1. Ånggeneratorer som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i primärkylkretsen eller den intermediära kylkretsen i en kärnreaktor.

2. Andra värmeväxlare som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i primärkylkretsen i en kärnreaktor.

j)

Neutrondetektorer som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att bestämma neutronflödesnivåerna inuti härden i en kärnreaktor.

k) Teknisk anmärkning:

Externa termiska skärmar som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en kärnreaktor för att minska värmeförluster och för att skydda inneslutningskärlen. I avsnitt 0A001.k avses med externa termiska skärmar större strukturer som placeras över reaktorkärlen och som minskar värmeförlusten från reaktorn och minskar temperaturen i inneslutningskärlet.

0B Teknisk anmärkning:

Test-, inspektions- och produktionsutrustning 0B001 Anläggning för separation av isotoper ur naturligt uran, utarmat uran och särskilt klyvbart material och utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda härför enligt följande: 0B002 Särskilt konstruerade eller iordningställda hjälpsystem, utrustning och komponenter enligt följande, för isotopseparationsanläggningar som specificeras i avsnitt 0B001 och som är tillverkade av eller skyddade med material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6: 0B003 Anläggning för konvertering av uran och utrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för detta, enligt följande: 0B004 Anläggning för produktion eller koncentrering av tungt vatten, deuterium eller deuteriumföreningar och utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda härför, enligt följande: 0B005 Anläggning som är särskilt konstruerad för tillverkning av bränsleelement för kärnreaktorer och utrustning särskilt konstruerad eller iordningställd härför. En anläggning för tillverkning av bränsleelement för kärnreaktorer omfattar utrustning som 0B006 Anläggning för upparbetning av bestrålade bränsleelement från kärnreaktor och utrustning och komponenter särskilt konstruerade eller iordningställda härför. Anmärkning: Avsnitt 0B006 innefattar följande: 0B007 Anläggning för konvertering av plutonium och utrustning som är särskilt konstruerad eller iordningställd för detta, enligt följande:

0B a)

Anläggning som är särskilt konstruerad för separation av isotoper ur naturligt uran, utarmat uran och särskilt klyvbart material enligt följande:

1. Anläggning för separation med gascentrifug.

2. Anläggning för separation med gasdiffusion.

3. Anläggning för separation med aerodynamisk process.

4. Anläggning för separation med kemisk utbytesprocess.

5. Anläggning för separation med jonbytesprocess.

6. Anläggning för isotopseparation med laser tillämpat på atomär ånga (AVLIS).

7. Anläggning för isotopseparation med laser tillämpat på gasmolekyler (MLIS).

8. Anläggning för separation med plasmaprocess.

9. Anläggning för separation med elektromagnetisk process.

b) Teknisk anmärkning:

Gascentrifuger, hopsatta delar och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med gascentrifuger enligt följande: I avsnitt 0B001.b betyder material med hög hållfasthet i förhållande till sin densitet något av följande:

1. Maråldrat stål som kan ges en brottgräns på 1,95 GPa eller mer.

2. Aluminiumlegeringar som kan ges en brottgräns på 0,46 GPa eller mer.

3. Fibrer eller fiberliknande material med en specifik modul större än 3,18 × 106 m och en specifik brottgräns större än 7,62 × 104 m.

1. Gascentrifuger.

2. Kompletta rotorenheter.

3. Rotorrör med en väggtjocklek av 12 mm eller mindre med en diameter mellan 75 mm och 650 mm tillverkade av material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet.

4. Ringar eller bälgar med en väggtjocklek som är 3 mm eller mindre och en diameter mellan 75 mm och 650 mm konstruerade för att lokalt förstärka rotorröret eller för att förena ett antal sådana rör och är tillverkade av material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet.

5. Mellanväggar (bafflar) med en diameter mellan 75 mm och 650 mm avsedda att monteras inne i centrifugens rotorrör, tillverkade av material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet.

6. Topp- eller bottenplattor med en diameter mellan 75 mm och 650 mm avsedda att passa till ändarna av rotorröret och tillverkade av material som har hög hållfasthet i förhållande till sin densitet.

7. Magnetiskt upphängda lager enligt följande:

7. a)

Lagersystem bestående av en ringformig magnet som är upphängd i ett lagerhus tillverkat eller skyddat av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6 och som innehåller ett dämpande medium där magneten är kopplad till en polkärna eller en annan magnet som är monterad på rotorns topplatta.

b)

Aktiva magnetiska lagersystem som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas tillsammans med gascentrifuger.

8. Särskilt iordningställda lager som består av en lagertapp/lagerskålenhet monterad på en dämpare.

9. 0B001 b) Molekylpumpar bestående av cylindrar med invändigt maskinbearbetade eller utpressade spiralformade spår och maskinbearbetade innerytor.

10. Ringformade statorer för elektriska motorer till flerfasiga växelströmshysteres-(eller reluktans-)motorer för synkron drift i vakuum i frekvensområdet 600 Hz och uppåt och i effektområdet 40 VA (Voltampere) och uppåt.

11. Centrifugbehållare som ska innesluta gascentrifugens rotor och som består av en styv cylinder med väggtjockleken upp till 30 mm och med precisionsbearbetade ändar som är parallella med varandra och vinkelräta mot cylinderns längdaxel med en tolerans om 0,05 grader eller mindre.

12. Uttagsrör bestående av rör som är särskilt konstruerade eller iordningställda för avtappning av UF6-gas från rotorröret enligt pitotrörsprincipen och som kan anslutas till det centrala systemet för gasuttag.

13. Frekvensomvandlare som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att mata motorstatorn vid anrikning med gascentrifuger och som har alla följande egenskaper samt därför särskilt konstruerade komponenter:

13. a)

Flerfasig utgång inom frekvensområdet 600 Hz och uppåt.

b)

Hög stabilitet (frekvenskontroll bättre än 0,2 %);

14. Avstängnings- och kontrollventiler enligt följande:

14. a)

Avstängningsventiler som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att styra matarflöde, slutprodukt eller restfraktion från UF6-gasflöden vid en enskild gascentrifug.

b)

Bälgtätade ventiler, för avstängning eller kontroll, tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6, med en inre diameter på 10–160 mm, som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i huvud- eller hjälpsystem i anläggning för anrikning med gascentrifug.

c)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med gasdiffusion, enligt följande:

1. Membran för gasdiffusion, tillverkade av porösa metalliska, polymera eller keramiska material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6 med en porstorlek mellan 10 och 100 nm, en tjocklek på 5 mm eller mindre och, om i form av rör, med en diameter som är 25 mm eller mindre.

2. Behållare för gasdiffusorer tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

3. Kompressorer eller blåsmaskiner med en sugkapacitet på minst 1 m3/min för UF6, ett utloppstryck upp till 500 kPa och ett tryckförhållande på 10:1 eller mindre, tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

4. Axeltätningar för kompressorer eller blåsmaskiner som specificeras i avsnitt 0B001.c.3 och som är konstruerade så att inläckningen av buffertgas är mindre än 1000 cm3/min.

5. Värmeväxlare tillverkade av eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6, som är konstruerade för ett läckagetryckförhållande på mindre än 10 Pa per timme när tryckskillnaden uppgår till 100 kPa.

6. Bälgtätade ventiler, manuella eller automatiska, för avstängning eller kontroll, tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

d)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med aerodynamisk process, enligt följande:

1. Separationsmunstycken, dysor, som består av slitsformade böjda kanaler vars krökningsradie är mindre än 1 mm, och som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6, och som i munstycket har en knivsegg som delar gasflödet genom munstycket i två strömmar.

2. 0B001 d) Cylindriska eller koniska rör (vortexrör) vilka är tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6 och har ett eller flera tangentiella inlopp.

3. Kompressorer eller blåsmaskiner som är tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6, och axeltätningar som hör till dessa.

4. Värmeväxlare tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

5. Behållare, avsedda att innesluta vortexrör eller separationsmunstycken, tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

6. Bälgtätade ventiler, manuella eller automatiska, för avstängning eller kontroll, tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF 6, med en diameter på minst 40 mm.

7. Processystem för att separera UF6 från bärgasen (väte eller helium) så att innehållet av UF6 blir högst 1 ppm, innefattande följande:

7. a)

Kryogena värmeväxlare och kryogena separatorer som kan arbeta vid temperaturen 153 K (- 120 °C) eller lägre.

b)

Kryogena kylenheter som kan arbeta vid temperaturer på 153 K (- 120 °C) eller lägre.

c)

Separationsmunstycken eller vortexrör för separation av UF6 från bärgasen.

d)

Kylfällor för UF6 som kan frysa ut UF6.

e)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med kemisk utbytesprocess, enligt följande:

1. Vätske-vätskepulskolonner med snabbt utbyte där uppehållstiden i varje steg är 30 sekunder eller mindre och som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. tillverkade av eller skyddade med lämpliga plastmaterial såsom fluorerade kolvätepolymerer eller glas).

2. Vätske-vätskecentrifugalkontaktorer med snabbt utbyte där uppehållstiden i varje steg är 30 sekunder eller mindre och som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. tillverkade av eller skyddade med lämpliga plastmaterial såsom fluorerade kolvätepolymerer eller glas).

3. Elektrokemiska reduktionsceller som är resistenta mot koncentrerade saltsyrelösningar, för reduktion av uran från ett valenstal till ett annat valenstal.

4. Matningsutrustning för elektrokemiska reduktionsceller, avsedd att överföra U+4 från det organiska flödet och för vilken de delar som kommer i kontakt med flödet är tillverkade av eller skyddade med lämpligt material (t.ex. glas, fluorkarbonpolymerer, polyfenylsulfat, polyetersulfon och hartsimpregnerad grafit).

5. System för att producera lösningar av uranklorid med hög renhet, bestående av utrustning för upplösning, vätskeextraktion och/eller jonbyte för rening och elektrolytiska celler för att reducera uranium U+6 eller U+4 till U+3.

6. Uranoxidationssystem för oxidation av U+3 till U+4.

f)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med jonbytesprocess, enligt följande:

1. Snabbreagerande jonbytarmassor, som film eller porösa makronätverk, i vilka de aktiva kemiska utbytesgrupperna är begränsade till ytbeläggningen på en inaktiv porös bärarkropp, samt andra kompositstrukturer i lämplig form, inklusive partiklar och fibrer, med en diameter som är 0,2 mm eller mindre, resistenta mot koncentrerad saltsyra och gjorda för att ha en utbyteshalveringstid som är mindre än 10 sekunder och som kan arbeta i temperaturområdet 373 K (100 °C) till 473 K (200 °C).

2. 0B001 f) Jonbyteskolonner (cylindriska) med en diameter som är större än 1000 mm, tillverkade av eller skyddade med material som är resistenta mot koncentrerad saltsyra (t.ex. titan eller fluorkarbonplaster) och som kan arbeta i temperaturområdet 373 K (100 °C) till 473 K (200 °C) och vid tryck över 0,7 MPa.

3. Återströmningssystem för jonbyte (kemiska eller elektrokemiska oxidations- eller reduktionssystem) för regenerering av kemiska reducerande eller oxiderande ämnen som använts i anrikningskaskader som utnyttjar jonbyte.

g)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för metoder som baseras på atomär ånga, enligt följande:

1. Uranmetallförångarsystem konstruerade för att leverera en effekt på 1 kW eller mer mot målet, avsedda att användas för laseranrikning.

2. System för hanetring av uranmetall i flytande form eller gasform som är särskilt konstruerade eller iordningställda för hantering av smält uran, smälta uranlegeringar eller uranmetallånga för användning vid laseranrikning, samt speciellt konstruerade komponenter till dessa. ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2A225.

3. Uppsamlarsystem för slutprodukt och restfraktion för uranmetall i flytande eller solid form, tillverkade av eller skyddade med material som är resistent mot värmen och korrosionen från uranmetallånga eller flytande uranium. Skyddande material kan vara yttriumoxidbelagd grafit eller tantal.

4. Behållare för separatormodul (cylindriska eller rektangulära behållare) som ska användas för att innesluta källan som producerar uranmetallånga, elektronstrålekanonen och uppsamlare av slutprodukt och restfraktion.

5. Lasrar eller laser-system som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation av uranisotoper med en spektrumfrekvensstabilisering för drift över långa tidsperioder. ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 6A005 OCH 6A205.

h)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningsställda för molekylbaserade metoder eller laserssystem, enligt följande:

1. Expansionsmunstycken för överljudshastighet som är avsedda att kyla blandningen av UF6 och bärgas till 150 K (- 123 °C) eller lägre och är tillverkade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

2. Komponenter och enheter till uppsamlarsystem för slutprodukt och restfraktion, som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att samla upp uranmetall eller restfraktioner av uran efter belysning med laser, tillverkade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

3. Kompressorer som är tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6, och axeltätningar som hör till dessa.

4. Utrustning för att fluorera UF5 (fast) till UF6 (gas).

5. Processystem för att separera UF6 från bärgasen (t.ex. kväve, argon eller annan gas), innefattande följande:

5. a)

Kryogena värmeväxlare och kryogena separatorer som kan arbeta vid temperaturen 153 K (- 120 °C) eller lägre.

b)

Kryogena kylenheter som kan arbeta vid temperaturer på 153 K (- 120 °C) eller lägre.

c)

Kylfällor för UF6 som kan frysa ut UF6.

6. Lasrar eller laser-system som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation av uranisotoper med en spektrumfrekvensstabilisering för drift över långa tidsperioder. ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 6A005 OCH 6A205.

i)

0B001 Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med plasmaprocess, enligt följande:

1. Mikrovågskällor och antenner som kan producera eller accelerera joner och som har en utgångsfrekvens som är högre än 30 GHz, och en uteffekt (medeleffekt) som är större än 50 kW.

2. Jonexcitationsspolar för radiofrekvenser över 100 kHz och som kan arbeta med mer än 40 kW medeleffekt.

3. System för att generera uranplasma.

4. Används inte.

5. Uppsamlarsystem för slutprodukt och restfraktion för uranmetall i solid form, tillverkade av eller skyddade med material som är resistent mot värmen och korrosionen från uranånga. Skyddande material kan vara yttriumoxidbelagd grafit eller tantal.

6. Cylindriska behållare för separatormodul avsedda att innesluta uranplasmakällan, radiofrekvensdrivspolen samt uppsamlare för slutprodukt och restfraktion tillverkade av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. rostfritt stål).

j)

Utrustning och komponenter som är särskilt konstruerade eller iordningställda för separation med elektromagnetisk process, enligt följande:

1. Jonkällor, enkla eller multipla, som består av en förångningskälla, joniserare och strålaccelerator vilka är tillverkade av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. grafit, rostfritt stål eller koppar) och som kan leverera en jonstråleström som är 50 mA eller mer.

2. Jonkollektorer för uppsamling av anrikade eller utarmade uranjonstrålar och som består av två eller flera slitsar och fickor och är gjorda av lämpligt icke-magnetiskt material (t.ex. grafit eller rostfritt stål).

3. Vakuumbehållare för elektromagnetiska uranseparatorer tillverkade av icke-magnetiskt material (t.ex. rostfritt stål) och konstruerade för drift vid ett tryck som är 0,1 Pa eller lägre.

4. Magnetpolskor med en diameter större än 2 m.

5. Högspänningsaggregat för jonkällor som har alla följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 3A227.

5. a)

Gjorda för kontinuerlig drift.

b)

Utspänning 20 kV eller högre.

c)

Utström 1 A eller mer.

d)

Spänningsreglering bättre än 0,01 % över en tidsperiod på 8 timmar.

6. Kraftaggregat för magneter (högeffekt, likström) som har alla följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 3A226.

6. a)

Möjlighet att kontinuerligt lämna en utström som är 500 A eller mer samtidigt som utspänningen är 100 V eller högre.

b)

Ström- eller spänningsreglering bättre än 0,01 % över en tidsperiod på 8 timmar.

a)

Matningsautoklaver, ugnar eller system som används för att överföra UF6 till anrikningsprocessen.

b)

Desublimeringsutrustning eller kylfällor som används för att bortföra UF6 från anrikningsprocessen och för vidaretransport efter upphettning.

c)

Stationer för slutprodukt och restfraktion vilka används för att överföra UF6 till behållare.

d)

Kondenserings- eller solidifieringsstationer som används för att avlägsna UF6 från anrikningsprocessen genom att komprimera, kyla och överföra UF6 till flytande eller fast form.

e)

Rörsystem och grenrör som är särskilt konstruerade eller iordningställda för transport av UF6 inom kaskader som utnyttjar gasdiffusion, centrifuger eller aerodynamiska processer.

f)

Vakuumsystem och pumpar enligt följande:

1. Samlings- och förgreningsrör för vakuum eller vakuumpumpar som tillåter en sugkapacitet på minst 5 m3/minut.

2. Vakuumpumpar som är speciellt konstruerade för användning i UF6-haltig atmosfär, tillverkade eller skyddade av material som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6.

3. Vakuumsystem bestående av samlings- och förgreningsrör för vakuum och vakuumpumpar, som är konstruerade för användning i UF6-haltig atmosfär.

g)

UF6 -masspektrometrar/jonkällor som kan ta online-prover på UF6-gasflöden och som har alla följande egenskaper:

1. Kan mäta joner med en massa av 320 amu (amu = atommassenhet) eller mer och som har en upplösning bättre än 1/320.

2. Jonkälla tillverkad av eller fodrad med nickel, nickel-kopparlegeringar med en nickelhalt på minst 60 viktprocent eller nickel-kromlegeringar.

3. Jonkälla med indirekt upphettning (electron bombardment).

4. Uppsamlingssystem lämpligt för isotopanalys.

a)

System för konvertering av uranmalmkoncentrat till UO3.

b)

System för konvertering av UO3 till UF6.

c)

System för konvertering av UO3 till UO2.

d)

System för konvertering av UO2 till UF4.

e)

System för konvertering av UF4 till UF6.

f)

System för konvertering av UF4 till uranmetall.

g)

System för konvertering av UF6 till UO2.

h)

System för konvertering av UF6 till UF4.

i)

System för konvertering av UO2 till UCl4.

a)

Anläggning för produktion av tungt vatten, deuterium eller deuteriumföreningar enligt följande:

1. Anläggning för vatten-vätesulfidutbyte.

2. Anläggning för ammoniak-väteutbyte.

b)

0B004 Utrustning och komponenter enligt följande:

1. Kolonner för vatten-vätesulfidutbyte med en diameter på minst 1,5 m och som kan arbeta vid tryck som är lika med eller högre än 2 MPa.

2. Enstegs centrifugalfläktar eller -kompressorer med låg tryckhöjd (dvs. 0,2 MPa) för cirkulation av vätesulfidgas (dvs. gas som innehåller mer än 70 % H2S) med en drivningskapacitet lika med eller större än 56 m3/sekund vid tryck lika med eller högre än 1,8 MPa insugningstryck och utrustade med tätningar som är konstruerade för att användas i våt H2S-miljö.

3. Kolonner för ammoniak-väteutbyte vars höjd är lika med eller mer än 35 m och med en diameter mellan 1,5 och 2,5 m och som kan arbeta vid tryck högre än 15 MPa.

4. Inre delar till utbyteskolonnerna, inklusive stegkontaktorer, och stegpumpar, inklusive sådana som är dränkbara, som används för produktion av tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen.

5. Ammoniakkrackers med ett drifttryck lika med eller högre än 3 MPa för produktion av tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen.

6. Analysatorer för absorption i det infraröda området som under drift kan analysera förhållandet mellan väte och deuterium när deuteriumkoncentrationen är lika med eller högre än 90 %.

7. Katalytiska brännare för omvandling av anrikad deuteriumgas till tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen.

8. Kompletta uppgraderingssystem för tungt vatten eller kolonner för detta, avsedda för uppgradering av tungt vatten till en deuteriumkoncentration motsvarande reaktorkvalitet.

9. Konverteringsutrustning för ammoniaksyntes som är särskilt konstruerade eller iordningställda för produktion av tungt vatten med ammoniak-väteutbytesprocessen.

0B Teknisk anmärkning:

1. i produktionsprocessen normalt kommer i direkt kontakt med eller direkt behandlar eller styr flödet av kärnämne,

2. förseglar kapslingen av kärnämne,

3. kontrollerar att kapsling eller försegling är oskadd,

4. kontrollerar ytbehandlingen av det förseglade bränslet, eller

5. används för sammansättning av reaktorelement.

a)

Anläggning för upparbetning av bestrålade bränsleelement från kärnreaktor samt utrustning och komponenter som normalt kommer i direkt kontakt med och direkt kontrollerar det bestrålade bränslet och huvudflödena av kärnämne och klyvningsprodukter.

b)

Maskiner för att hugga, klippa eller skära bränsleelement, dvs. fjärrmanövrerad utrustning för att skära, hugga eller klippa bestrålade bränsleelement, knippen eller stavar från kärnreaktor.

c)

Upplösningskar, kriticitetssäkra behållare (t.ex. med liten diameter, ringformade eller skivformade) som är särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas för upplösning av bestrålat kärnreaktorbränsle, och kan tåla varm, starkt korrosiv vätska och fyllas och hanteras genom fjärrmanövrering.

d)

0B006 Anmärkning: Utrustning för vätskeextraktion, t.ex. packade eller pulsade kolonner, mixer-settlers eller centrifugalkontaktorer, som är resistenta mot salpetersyras korrosiva verkan och särskilt konstruerade eller iordningställda för att användas i en anläggning för upparbetning av bestrålat naturligt uran, utarmat uran eller särskilt klyvbart material

e) Teknisk anmärkning:

Lagringstankar som är särskilt konstruerade för att vara kriticitetssäkra och resistenta mot salpetersyras korrosiva verkan. En lagringstank kan ha följande egenskaper:

1. Väggar eller en inre uppbyggnad med en borekvivalent (beräknad för alla beståndsdelar enligt definition i anmärkningen till avsnitt 0C004) på minst 2 %.

2. En maximal diameter på 175 mm för ett cylindriskt kärl, eller

3. en maximal bredd på 75 mm för antingen en skiv- eller ringformad behållare.

f)

Neutronmätningssystem som är särskilt konstruerade eller iordningställda för integrering och användning i en anläggning för upparbetning av bestrålat naturligt uran, utarmat uran eller särskilt klyvbart material.

a)

System för konvertering av plutoniumnitrat till plutoniumoxid.

b)

System för produktion av plutoniummetall.

0C Material 0C001 Naturligt uran eller utarmat uran eller torium i form av metall, legeringar, kemiska föreningar eller koncentrat och varje annat material som innehåller ett eller flera av de ovan nämnda materialen. Anmärkning: Avsnitt 0C001 omfattar inte följande: 0C002 Särskilt klyvbart material. Anmärkning: Avsnitt 0C002 omfattar inte mängder om fyra effektiva gram eller mindre när materialet ingår i sensorkomponenter i instrument. 0C003 Deuterium, tungt vatten (deuteriumoxid) och andra deuteriumföreningar samt blandningar och lösningar som innehåller deuterium i vilka isotopförhållandet deuterium-väte överstiger 1:5000. 0C004 Grafit som har en renhetsgrad som är bättre än 5 delar per miljon borekvivalenter och en densitet som är större än 1,50 g/cm3 för användning i en kärnreaktor i kvantiteter som överstiger 1 kg. ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 1C107. Anmärkning 1: I samband med exportkontroll ska de behöriga myndigheterna i den medlemsstat där exportören är etablerad fastställa om exporten av grafit som uppfyller ovannämnda specifikationer är avsedd för användning i en kärnreaktor. Anmärkning 2: I avsnitt 0C004 definieras borekvivalent (BE) som summan av BEz för föroreningar (utom BEkol eftersom kol inte betraktas som en förorening) inklusive bor, där BEZ (ppm) = CF × koncentrationen av element Z i ppm där CF är omvandlingsfaktornσZABσBAZ och σB och σZ är de termiska neutroninfångningstvärsnitten (i barn) för naturligt förekommande bor respektive element Z, och AB och AZ är atommassan hos naturligt förekommande bor respektive element Z. 0C005 Speciellt förberedda föreningar eller pulver avsedda för tillverkning av gasdiffusionsmembran som är resistenta mot korrosion orsakad av UF6 (t.ex. nickel eller legering innehållande 60 viktprocent eller mer nickel, aluminiumoxid och fullständigt fluorerade polymerer) och som har en renhet på 99,9 viktprocent eller bättre och en partikelstorlek på mindre än 10 μm mätt enligt American Society for Testing and Materials (ASTM) B 330 standard och en hög grad av likformighet i partikelstorleken.

0C a)

Fyra gram eller mindre av naturligt uran eller utarmat uran, när det ingår i sensorkomponenter i instrument.

b)

Utarmat uran speciellt framställt för följande civila icke-nukleära tillämpningar:

1. Skärmning.

2. Emballering.

3. Ballast med en massa som inte är större än 100 kg.

4. Motvikter med en massa som inte är större än 100 kg.

c)

Legeringar innehållande mindre än 5 % torium.

d)

Keramiska produkter innehållande torium vilka har framställts för icke-nukleär användning.

0D Programvara 0D001 Programvara som är särskilt konstruerad eller modifierad för utveckling, produktion eller användning av varor som specificeras i denna kategori.

0E Teknik 0E001 Teknik enligt anmärkning rörande kärnteknik för utveckling, produktion eller användning av varor som specificeras i denna kategori.

KATEGORI 1 SÄRSKILDA MATERIAL OCH DÄRTILL HÖRANDE UTRUSTNING

1A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:

System, utrustning och komponenter 1A001 Komponenter tillverkade av fluorerade blandningar, enligt följande: 1A002 Kompositer eller laminat med något av följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 1A202, 9A010 OCH 9A110 Anmärkning 1: Avsnitt 1A002 omfattar inte kompositstrukturer eller laminat tillverkade av epoxyhartsimpregnerade fibrer eller fiberliknande material av kol, som ska användas för reparation av civila luftfartyg eller dess laminat, för vilka: Anmärkning 2: Avsnitt 1A002 omfattar inte halvfabrikat som är speciellt konstruerade för följande helt civila tillämpningar: Anmärkning 3: Avsnitt 1A002.b.1 omfattar inte halvfabrikat som innehåller sammanvävda fibertrådar av högst två dimensioner och som är speciellt konstruerade för följande tillämpningar: Anmärkning 4: Avsnitt 1A002 omfattar inte färdiga detaljer som är speciellt konstruerade för en specifik tillämpning. 1A003 Föremål av icke-smältbara aromatiska polyimider i form av film, blad eller band med någon av följande egenskaper: Anmärkning.: Avsnitt 1A003 omfattar inte produktion av kopparbelagda eller kopparlaminerade filmer konstruerade för produktion av elektroniska mönsterkort. ANM.: För alla former av smältbara aromatiska polyimider, se avsnitt 1C008.a.3. 1A004 Utrustning och komponenter för skydd och detektering som inte är särskilt konstruerade för militära ändamål, enligt följande: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING, 2B351 OCH 2B352. 1A004Anmärkning: Avsnitt 1A004 omfattar inte följande: Avsnitt 1A004 omfattar utrustning och komponenter som har identifierats, framgångsrikt testats i enlighet med nationella standarder eller på annat sätt visats vara effektiva för detektering av eller försvar mot radioaktiva material anpassade för användning i krig, biologiska agens anpassade för användning i krig, kemiska stridsmedel, simulatorer eller agens för kravallhantering, även om sådan utrustning eller sådana komponenter används inom civil industri, t.ex. gruvor, stenbrott, jordbruk, läkemedelsindustrin, för medicinskt och veterinärt bruk, miljöskydd, avfallshantering eller livsmedelsindustrin. En simulator är ett ämne eller material som används i stället för en toxisk agens (kemisk eller biologisk) i samband med utbildning, forskning, testning eller utvärdering. 1A005 Skyddsvästar och därtill hörande delar, enligt följande: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. ANM.: För fibrer eller fiberliknande material som används för tillverkning av skyddsvästar, se avsnitt 1C010. Anmärkning 1: Avsnitt 1A005 omfattar inte skyddsvästar när de används eller medföres för användarens eget bruk. Anmärkning 2: Avsnitt 1A005 omfattar inte skyddsvästar som är konstruerade endast för frontalskydd från splitter och tryckvågor från icke militära explosiva produkter. Anmärkning 3: Avsnitt 1A005 omfattar inte skyddsvästar som är konstruerade endast för skydd mot knivar, spikar, nålar eller mot trubbigt våld. 1A006 Utrustning, speciellt konstruerad eller modifierad för desarmering av improviserade sprängladdningar, enligt följande, och speciellt konstruerade komponenter och tillbehör till sådan utrustning: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. Anmärkning: Avsnitt 1A006 omfattar inte sådan utrustning som åtföljer dess operatör. 1A007 Utrustning och anordningar, speciellt konstruerade för att på elektrisk väg initiera tändning av sprängladdningar och anordningar som innehåller energetiska material, enligt följande: ANM.: SE ÄVEN MILITÄRA FÖRTECKNINGEN SAMT AVSNITTEN 3A229 OCH 3A232. Ordet tändare eller tändanordning används ibland i stället för sprängkapsel. De sprängkapslar som avses i avsnitt 1A007.b utnyttjar alla en liten elektriskt ledare (brygga, tråd eller folie) som förångas explosivt när en kortvarig elektrisk puls med hög strömstyrka passerar genom denna. I sprängkapslar som inte är av typ slapper startar den exploderande ledaren en kemisk detonation i ett anslutande högexplosivt sprängämne, exempelvis pentyl (pentaerytritoltetranitrat). I en slapper-tändare driver den explosiva förångningen av den elektriska ledaren en tunn skiva eller en slapper över ett luftgap mot ett sprängämne som vid anslaget initierar en kemisk detonation. I vissa konstruktioner drivs slapper-tändaren av en magnetisk kraft. Termen exploderande foliedetonator refererar antingen till en exploderande brygga eller till en sprängkapsel av typ slapper. 1A008 Sprängladdningar, anordningar och komponenter enligt följande: Formade sprängladdningar är sprängladdningar som formats för att målinrikta verkan av explosionen. 1A102 Återmättade pyrolyserade kol-kol-komponenter konstruerade för rymdfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104. 1A202 Kompositmaterial, andra än de som specificeras i avsnitt 1A002, i form av rör och som har båda följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 9A010 OCH 9A110. 1A225 Platinerade katalysatorer som är särskilt utformade eller iordningställda för att befrämja väteisotoputbyte mellan väte och vatten för att utvinna tritium ur tungt vatten eller för produktion av tungt vatten. 1A226 Fyllkroppar, som kan användas för separation av tungt vatten från vanligt vatten, och som har båda följande egenskaper: 1A227 Strålningsskyddande fönster med hög densitet (blyglas eller annat glas) som har alla följande egenskaper och särskilt utformade ramar för sådana fönster: I avsnitt 1A227 avses med inaktiv area den genomsiktliga area av fönstret som utsätts för den lägsta strålningsnivån vid tillämpningen.

1A a)

Packningar, tätningar, tätningsmaterial eller bränsletankar, speciellt konstruerade för luftfartyg eller rymdfarkoster, tillverkade till mer än 50 viktprocent av något material som specificeras i avsnitt 1C009.b eller 1C009.c.

b)

Piezoelektriska polymerer och sampolymerer, tillverkade av vinylidenfluoridmaterial (CAS 75-38-7), som specificeras i avsnitt 1C009.a, vilka

1. är i form av blad eller film, och

2. har en tjocklek på över 200 μm.

c)

Packningar, tätningar, ventilsäten, tankar eller membran med båda följande egenskaper: Anmärkning: I avsnitt 1A001.c avses med missil kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster.

1. Tillverkade av fluorelastomerer som innehåller åtminstone en vinyletergrupp.

2. Speciellt konstruerade för användning i luftfartyg, rymdfarkoster eller missiler.

a)

Bestående av en organisk matris och material som specificeras i avsnitt 1C010.c, 1C010.d eller 1C010.e, eller

b)

bestående av en metall- eller kol-matris och något av följande:

1. Fibrer eller fiberliknande material av kol med följande egenskaper:

1. a)

en specifik modul överstigande 10,15 × 106 m, och

b)

en specifik brottgräns som överstiger 17,7 × 104 m, eller

2. material som specificeras i avsnitt 1C010.c.

a)

ytan inte överstiger 1 m2,

b)

längden inte överstiger 2,5 m, och

c)

bredden överstiger 15 mm.

a)

Sportutrustning.

b)

Bilindustrin.

c)

Verktygsmaskinindustrin.

d)

Medicinska tillämpningar.

a)

Värmebehandlingsugnar för härdning av metaller.

b)

Produktionsutrustning för kiselkulor.

a)

En tjocklek som överstiger 0,254 mm, eller

b)

är belagd eller laminerad med kol, grafit, metall eller magnetiskt material.

a) Teknisk anmärkning:

1A004 Heltäckande ansiktsmasker, filterbehållare och saneringsutrustning till dessa, konstruerade eller modifierade för skydd mot något av följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa: Anmärkning: Avsnitt 1A004.a omfattar även andningsskydd med automatisk luftrening (Powered Air Purifying Respirators, PAPR) som är konstruerade eller modifierade för skydd mot de agens eller material som förtecknas i avsnitt 1A004.a. För avsnitt 1A004.a gäller följande:

1. Heltäckande ansiktsmasker kallas även gasmasker.

2. Filterbehållare innefattar även filterpatroner.

1. Biologiska agens anpassade för användning i krig.

2. Radioaktiva material anpassade för användning i krig.

3. Kemiska stridsmedel (CW), eller

4. Agens för kravallhantering, bland annat

4. a)

α-brombensenacetonitril (brombensylcyanid) (CA) (CAS 5798-79-8),

b)

[(2-klorofenyl)metylen] propandinitril, (o-klorbensalmalononitril) (CS) (CAS 2698-41-1),

c)

2-klor-1-fenyletanon, fenylacylklorid (ω-kloracetofenon) (CN) (CAS 532-27-4),

d)

dibens-(b,f)-1,4-oxazepin (CR) (CAS 257-07-8),

e)

10-klor-5,10-dihydrofenarsazin, (fenarsazinklorid), (adamsit), (DM) (CAS 578-94-9),

f)

n-nonanoylmorfolin, (MPA) (CAS 5299-64-9).

b)

Skyddsdräkter, handskar och skor, speciellt konstruerade eller modifierade för att skydda mot något av följande:

1. Biologiska agens anpassade för användning i krig.

2. Radioaktiva material anpassade för användning i krig.

3. Kemiska stridsmedel (CW).

c)

Detekteringssystem, speciellt konstruerade eller modifierade för detektering eller identifiering av något av följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:

1. Biologiska agens anpassade för användning i krig.

2. Radioaktiva material anpassade för användning i krig.

3. Kemiska stridsmedel (CW).

d) Teknisk anmärkning:

Elektronisk utrustning som är konstruerad för automatisk detektering eller identifiering av förekomsten av restmängder av sprängämnen och som utnyttjar tekniker för spårdetektion (t.ex. akustiska ytvågor, spektrometri för jonrörlighet, spektrometri för differentiell rörlighet, masspektrometri). Spårdetektion definieras som förmågan att detektera mindre än 1 ppm ånga eller 1 mg fast eller flytande ämne. Anmärkning 1: Avsnitt 1A004.d omfattar inte kontrollutrustning som är speciellt konstruerad för laboratorieanvändning. Anmärkning 2: Avsnitt 1A004.d omfattar inte säkerhetsbågar som passeras utan att vidröras.

a)

Personliga dosimetrar för mätning av strålning.

b)

Arbetsmiljöutrustning som genom konstruktion eller funktion är begränsad till att skydda för olyckor inom bostadsområden eller civil industri, inklusive

1. gruvor,

2. stenbrott,

3. jordbruk,

4. läkemedelsindustri,

5. medicinskt bruk,

6. veterinärt bruk,

7. miljöskydd,

8. avfallshantering,

9. livsmedelsindustrin.

1A Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Mjuka skyddsvästar, andra än sådana som tillverkats enligt militära standarder och specifikationer eller enligt ekvivalenter till dessa vad avser prestationsförmåga, och därtill speciellt konstruerade delar.

b)

Hårda skyddsplattor som ger ett ballistiskt skydd i skyddsklass IIIA eller bättre (NIJ 0101.06, juli 2008) motsvarande nationell standard.

a)

Fjärrstyrda fordon.

b) Teknisk anmärkning:

Desarmeringsanordningar. Desarmeringsanordningar är anordningar som är speciellt konstruerade för att förhindra att en sprängladdning utlöses, genom att skjuta ut en vätskeprojektil, en fast projektil eller en brytbar projektil.

a)

Tändaggregat avsedda att initiera tändning av sprängkapslar som specificeras i avsnitt 1A007.b.

b)

Elektriskt initierade sprängkapslar enligt följande:

1. Exploderande brygga (EB).

2. Exploderande tråd (EBW).

3. Slapper.

4. Exploderande folie (EFI).

1A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Formade sprängladdningar med alla följande egenskaper:

1. Nettosprängämnesmängden (NEQ) överstiger 90 g.

2. Höljets yttre diameter är minst 75 mm.

b)

Linjära formade skärsprängladdningar (cutting charges) med båda följande egenskaper, och speciellt konstruerade komponenter till dessa:

1. En sprängladdning som överstiger 40 g/m.

2. En bredd på minst 10 mm.

c)

Snabbstubin med en sprängladdning i den inre delen som överstiger 64 g/m.

d)

Andra skärsprängladdningar än de som specificeras i avsnitt 1A008.b och avskiljningsverktyg med en nettosprängämnesmängd (NEQ) som överstiger 3,5 kg.

1A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: a)

En inre diameter mellan 75 mm och 400 mm, och

b)

tillverkade av fibrer eller fiberliknande material som specificeras i avsnitt 1C010.a, 1C010.b eller 1C210.a eller av förimpregnerat material av kol som specificeras i avsnitt 1C210.c.

a)

Tillverkade av fosforbronsnät som är kemiskt behandlade för att förbättra vätbarheten, och

b)

utformade för att användas i kolonner för vakuumdestillation.

a)

En inaktiv area större än 0,09 m2.

b)

En densitet större än 3 g/cm3.

c)

En tjocklek av 100 mm eller mer.

1B Teknisk anmärkning: 1.2. Teknisk anmärkning:

Test-, inspektions- och produktionsutrustning 1B001 Utrustning för produktion eller inspektion av kompositer eller laminat som specificeras i avsnitt 1A002 eller fibrer eller fiberliknande material enligt 1C010, enligt följande, samt speciellt konstruerade komponenter och tillbehör till sådan utrustning. ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 1B101 OCH 1B201. I avsnitt 1B001 omfattar primära servopositioneringsaxlar axlar som styrda av datorprogram orienterar och styr arbetsdonets (dvs. huvudets) position i rummet i förhållande till arbetsstycket för uppnående av den önskade processen. I avsnitt 1B001 avses med band av fibermaterial en enda kontinuerlig bredd av helt eller delvis hartsimpregnerad tejp, väv eller fiber. 1B002 Utrustning för att producera metallegeringar, metallegeringar i pulverform eller legeringar speciellt konstruerade för att undvika föroreningar och speciellt konstruerade för att användas inom en av de processer som specificeras i avsnitt 1C002.c.2. ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 1B102. 1B003 Verktyg, formar, kokiller eller fixturer för superplastisk bearbetning eller diffusionsbondning av titan, aluminium eller legeringar av dessa, speciellt konstruerade för tillverkning av någon av följande produkter: 1B101 Utrustning, annan än sådan som specificeras i avsnitt 1B001, för produktion av strukturella kompositer enligt följande, liksom särskilt utformade komponenter och tillbehör därtill. ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 1B201. Anmärkning: Exempel på komponenter och tillbehör som specificeras i avsnitt 1B101 är formar, gjutkärnor, matriser, fixturer och verktyg för pressning, härdning, gjutning, sintring eller bindning av förformar till kompositstrukturer, laminat och produkter därav. 1B102 Utrustning för produktion av metallpulver, annan än den som specificeras i avsnitt 1B002, och komponenter enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 1B115.b. 1B115 Utrustning, annan än den som specificeras i avsnitt 1B002 eller 1B102, för produktion av drivmedel eller beståndsdelar i dessa, enligt följande, samt tillhörande särskilt konstruerade komponenter: Anmärkning 1: För utrustning speciellt konstruerad för produktion av militära artiklar, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. Anmärkning 2: Avsnitt 1B115 omfattar inte kontrollutrustning för produktion, hantering och acceptanstest av borkarbid. 1B116 Speciellt konstruerade munstycken för att producera pyrolytiskt erhållet material på en form, dorn eller annat underlag från gaser vilka sönderdelas vid temperaturer från 1573 K (1300 °C) till 3173 K (2900 °C) vid ett tryck av 130 Pa till 20 kPa. 1B117 Satsblandare som ger möjlighet till såväl blandning under vakuum vid tryck från 0 till 13,326 kPa som till temperaturstyrning av blandningskammaren och som har alla följande egenskaper, samt därför särskilt konstruerade komponenter: 1B118 Kontinuerliga blandare som ger möjlighet till såväl blandning under vakuum vid tryck från 0 till 13,326 kPa som till temperaturstyrning av blandningskammaren och som har någon av följande egenskaper, samt därför särskilt konstruerade komponenter: 1B119 Luftstrålekvarnar som kan användas för att krossa eller mala ämnen som specificeras i avsnitt 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, samt därför särskilt konstruerade komponenter. 1B201 Lindningsmaskiner för fibrer, andra än de som specificeras i avsnitt 1B001 eller 1B101, och tillhörande utrustning, enligt följande: 1B225 Elektrolytiska celler för produktion av fluor med en produktionskapacitet större än 250 g fluor per timme. 1B226 Elektromagnetiska isotopseparatorer, utformade för, eller utrustade med enkel eller multipel jonkälla, som kan producera en total jonström av 50 mA eller mer. Anmärkning: Avsnitt 1B226 omfattar separatorer som 1B228 Kolonner för kryogen destillering av väte, som har samtliga följande egenskaper: I avsnitt 1B228 innebär effektiv längd packningsmaterialets aktiva höjd i en packad kolonn, eller den aktiva höjden av de interna kontaktplattorna i en kolonn med plattor. 1B229 Utbyteskolonner för vatten-vätesulfid och inre kontaktanordningar enligt följande: ANM.: För kolonner som är speciellt utformade eller förberedda för produktion av tungt vatten, se avsnitt 0B004. 1B230 Pumpar som kan cirkulera koncentrerad eller utspädd kaliumamidkatalysator i flytande ammoniak (KNH2/NH3), och som har alla följande egenskaper: 1B231 Anordningar eller anläggningar för tritium och utrustning för dessa enligt följande: 1B232 Expansionsturbiner eller expansionsturbindrivna kompressorer med båda följande egenskaper: 1B233 Anordningar eller anläggningar för separation av litiumisotoper, samt system och utrustning för dessa enligt följande: 1B234 Behållare, kammare, containrar eller liknande enheter för inneslutande av högexplosiva ämnen som är utformade för provning av högexplosiva ämnen eller explosiva enheter och som har båda följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING.

1B a)

Lindningsmaskiner, i vilka rörelserna för positionering, omslag och lindning av fibrerna är samordnade och programmerade i minst tre primära servopositioneringsaxlar, speciellt konstruerade för tillverkning av kompositer eller laminat som består av fibrer eller fiberliknande material.

b) Teknisk anmärkning:

Maskiner för påläggning av band, i vilka påläggning av band kan samordnas och programmeras i minst fem primära servopositioneringsaxlar, speciellt konstruerade för tillverkning av kroppar för luftfarkoster eller missiler i kompositmaterial. Anmärkning: I avsnitt 0B001.b avses med missil kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster. Maskiner för påläggning av band, enligt avsnitt 1B001.b, kan lägga ett eller fler band av fibermaterial, begränsade till en bredd över 25 mm och upp till 305 mm, och skära av och starta om enskilda banor med band av fibermaterial under påläggningsprocessen.

c) Teknisk anmärkning:

1B001 Vävstolar, som kan väva i flera riktningar och med flera dimensioner, inbegripet adaptrar och modifieringsutrustning, som är speciellt konstruerade eller modifierade för sammanvävning, sammanflätning eller sammantvinning av fibrer för kompositstrukturer. I avsnitt 1B001.c inkluderas stickas i tekniken tvinnas.

d)

Utrustning speciellt konstruerad eller anpassad för produktion av armeringsfibrer enligt följande:

1. Utrustning för omvandling av polymeriska fibrer (t.ex. polyakrylonnitril, rayon, beck eller polykarbosilan) till kol- eller kiselkarbidfibrer, innefattande specialutrustning för att töja fibrerna under upphettning.

2. Utrustning för kemisk förångningsdeposition av grundämnen eller föreningar på upphettade trådformade substrat för att tillverka kiselkarbidfibrer.

3. Utrustning för våtspinning av eldfasta keramer (t.ex. aluminiumoxid).

4. Utrustning för omvandling av aluminium som innehåller fiberämnen till aluminiumfibrer genom värmebehandling.

e)

Utrustning för att producera förimpregnerade mattor som specificeras i avsnitt 1C010.e genom varmsmältning.

f)

Utrustning för oförstörande provning som är särskilt konstruerad för kompositmaterial enligt följande:

1. Röntgentomografisystem för upptäckt av fel tredimensionellt.

2. Numeriskt styrda ultraljudstestmaskiner i vilka rörelserna för positionering av sändare eller mottagare samtidigt är samordnade och programmerade i minst fyra axlar för att följa de tredimensionella konturerna av den komponent som inspekteras.

g) Teknisk anmärkning:

Maskiner för påläggning av väv, i vilka påläggning av väv kan samordnas och programmeras i minst två primära servopositioneringsaxlar, speciellt konstruerade för tillverkning av kroppar för luftfarkoster eller missiler i kompositmaterial. Maskiner för påläggning av väv, enligt avsnitt 1B001.g, kan lägga ett eller flera band av fibermaterial, begränsade till en bredd av högst 25 mm, och skära av och starta om enskilda banor med band av fibermaterial under påläggningsprocessen.

1B Teknisk anmärkning: 1.2. a)

Kroppar för flygplan eller rymdfarkoster.

b)

Motorer för luftfartyg eller rymdfarkoster.

c)

Speciellt konstruerade komponenter för kroppar som specificeras i avsnitt 1B003.a eller för motorer som specificeras i avsnitt 1B003.b.

a)

Maskiner för trådlindning eller fiberlindning vilka är utformade för att tillverka kompositstrukturer eller laminat från fibrer eller fiberliknande material där rörelserna för att placera, vira och linda fibrer samordnas och programmeras i tre eller flera axlar, samt samordnings- och programstyrning härför.

b)

Bandläggningsmaskiner, konstruerade för tillverkning av flygplansskrov och missil-konstruktioner i kompositmaterial, där rörelserna för att placera och lägga band och ark är samordnade och programmerade i två eller flera axlar.

c)

Utrustning som konstruerats eller modifierats för produktion av fibrer eller fiberliknande material enligt följande:

1. Utrustning för omformning av polymerfibrer (som polyakrylnitril, rayon eller polykarbosilan) inklusive speciella åtgärder för att sträcka fibrerna under upphettning.

2. Utrustning för ångutfällning av ämnen eller föreningar på upphettat fibersubstrat.

3. Utrustning för våtspinning av eldfasta keramer (t.ex. aluminiumoxid).

d)

Utrustning utformad eller modifierad för särskild fiberytbehandling eller för produktion av förimpregnerade mattor och förformer som specificeras i avsnitt 9C110. Anmärkning: Avsnitt 1B101.d innehåller bl.a. rullar, sträckare, ytbeläggningsutrustningar, skärmaskiner och stansar.

a)

Utrustning för produktion av metallpulver som kan användas för att i en kontrollerad omgivning producera sfäriska, sfäroidiska eller finfördelade material som specificeras i avsnitt 1C011.a, 1C011.b, 1C111.a.1, 1C111.a.2 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

b)

Komponenter som konstruerats särskilt för sådan produktionsutrustning som specificeras i avsnitt 1B002 eller 1B102.a. Anmärkning: Avsnitt 1B102 omfattar följande:

a)

Plasmageneratorer (bågstråle med hög frekvens) som kan användas för att framställa finfördelat eller sfäriskt metallpulver där processen sker i en argon-vatten-omgivning.

b)

Electroburst-utrustning som kan användas för att framställa finfördelat eller sfäriskt metallpulver där processen sker i en argon-vatten-omgivning.

c)

Utrustning som kan användas för att producera sfäriskt aluminiumpulver genom att pulvrisera en smälta i ett inert medium (t.ex. kväve).

a)

Produktionsutrustning för produktion, hantering eller acceptanstest av flytande drivmedel eller beståndsdelar i dessa som specificeras i avsnitt 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

b)

Produktionsutrustning för produktion, hantering, blandning, härdning, gjutning, pressning, maskinbehandling, strängpressning eller acceptanstest av fasta drivmedel eller beståndsdelar i dessa som specificeras i avsnitt 1C011.a, 1C011.b, 1C111 eller kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. Anmärkning: Avsnitt 1B115.b omfattar inte satsblandare, kontinuerliga blandare och luftstrålekvarnar. Dessa omfattas av avsnitten 1B117, 1B118 och 1B119.

a)

En total volymmässig kapacitet av minst 110 liter och

b)

åtminstone en blandande/knådande axel excentriskt monterad. Anmärkning: I avsnitt 1B117.b omfattar inte termen blandande/knådande axel deagglomeratorer eller skärspindlar.

a)

Två eller flera blandande/knådande axlar eller

b)

en enda roterande axel med en oscillerande rörelse och vars axel och blandningskammares insida är försedda med knådande stift/kuggar.

a)

Lindningsmaskiner för fibrer som har samtliga följande egenskaper:

1. Samordnade och programmerade för positionering, omslagning och lindning av fibrer i två eller flera axlar.

2. Speciellt utformade för tillverkning av kompositmaterial och laminat utgående från fibrer och fiberliknande material

3. I stånd att linda cylindriska rör med en inre diameter mellan 75 mm och 650 mm och med en längd av 300 mm eller mer.

b)

Styrutrustning för samordning och programmering för de lindningsmaskiner för fibrer som specificeras i avsnitt 1B201.a.

c)

Precisionsdorn för de lindningsmaskiner för fibrer som specificeras i avsnitt 1B201.a.

a)

kan anrika stabila isotoper, eller

b)

har både jonkälla och kollektor inom samma magnetfält och sådana konfigurationer i vilka de ligger utanför magnetfältet.

a)

Konstruerade för drift vid en inre temperatur av 35 K (- 238 °C) eller lägre.

b)

Konstruerade för drift vid ett inre tryck mellan 0,5 och 5 MPa.

c)

Tillverkade av antingen

1. rostfritt stål ur 300-serien med låg svavelhalt och med en austenitisk ASTM-kornstorlek nummer 5 eller mer (eller motsvarande standard), eller

2. likvärdiga material som är både kryo- och H2-kompatibla.

d)

Har en inre diameter av 30 cm eller mer och en effektiv längd av 4 m eller mer.

1B Teknisk anmärkning: 1.2. Teknisk anmärkning: a)

Utbyteskolonner för vatten-vätesulfid som har samtliga följande egenskaper:

1. Ett arbetstryck på 2 MPa eller högre.

2. Tillverkade av kolstål med en austenitisk ASTM- kornstorlek nummer 5 eller mer (eller motsvarande standard).

3. En diameter av 1,8 m eller mer.

b) Teknisk anmärkning:

Sådana inre kontaktanordningar för utbyteskolonnerna för vatten-vätesulfid som anges i avsnitt 1B229 a. De inre kontaktanordningarna i kolonnerna består av segmenterade bottnar med en effektiv diameter av 1,8 m eller mer efter montering, är utformade för att underlätta motströmskontakt och är tillverkade av rostfritt stål med en kolhalt av mindre än eller lika med 0,03 %. De kan utgöras av silbottnar, ventilbottnar, klockbottnar eller turbogrid-bottnar.

a)

Lufttäta (dvs. hermetiskt tillslutna).

b)

En pumpkapacitet större än 8,5 m3/tim.

c)

Någon av följande egenskaper:

1. avsedda för koncentrerade kaliumamidlösningar (1 % eller mer) med ett arbetstryck mellan 1,5 och 60 MPa, eller

2. avsedda för utspädda lösningar av kaliumamid (mindre än 1 %) med ett arbetstryck mellan 20 och 60 MPa.

a)

Anordningar eller anläggningar för produktion, återvinning, utvinning, koncentrering eller hantering av tritium.

b)

Utrustning för tritiumanordningar eller -anläggningar enligt följande:

1. Frysaggregat för väte eller helium med kapacitet att kyla ned till 23 K (-250 °C) eller lägre, och med en värmebortledningskapacitet som är större än 150 W.

2. Lagrings- eller reningssystem för väteisotoper som använder metallhydrider som medium för lagring eller rening.

a)

Konstruerade för drift med en utgående temperatur lika med eller lägre än 35 K (- 238 °C).

b)

Konstruerade för en vätgasgenomströmning lika med 1000 kg/tim eller mer.

a)

Anordningar eller anläggningar för separation av litiumisotoper.

b)

Utrustning för separation av litiumisotoper som baseras på litium-kvicksilveramalgam processen, enligt följande:

1. Packade vätske-vätske-utbyteskolonner speciellt konstruerade för litiumamalgam.

2. Kvicksilver- eller litiumamalgampumpar.

3. Elektrolysceller för litiumamalgam.

4. Förångare för koncentrerad litiumhydroxidlösning.

c)

Jonbytessystem som är särskilt utformade för separation av litiumisotoper, och speciellt konstruerade komponenter till dessa.

d)

Kemiska utbytessystem (som använder kronetrar, kryptander eller lariatetrar), som är särskilt utformade för separation av litiumisotoper, och speciellt konstruerade komponenter till dessa.

a)

Utformade för att fullständigt innesluta en explosion som motsvarar 2 kg TNT eller mer, och

b)

försedda med konstruktionselement eller system som medger överföring av diagnostik eller mätinformation i realtid eller med fördröjning.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3.

Material Metaller och legeringar: Om inte annat uttryckligen anges avses med orden metaller och legeringar i avsnitten 1C001-1C012 råmaterial och halvfabrikat enligt följande: Råmaterial: Anoder, kulor, stavar (inkl. stavar med nockar och trådartade stavar), billetter, block, valsämnen, briketter, kakor, katoder, kristaller, kuber, tärningar, korn, granulat, tackor, klumpar, pellets, tackjärn, pulver, rondeller, hagel, plattor, stångbitar, svamp, stänger. Halvfabrikat (vare sig de är belagda, pläterade, borrade, stansade eller ej): Kontrollen ska inte omintetgöras genom export av former som inte är upptagna i listan och som påstås vara färdiga produkter men som i verkligheten är ett råmaterial eller halvfabrikat. 1C001 Material speciellt konstruerat för att kunna absorbera elektromagnetiska vågor samt elektriskt ledande polymerer enligt följande: ANM. SE ÄVEN AVSNITT 1C101. 1C002 Metallegeringar, pulver av metallegeringar samt legerat material enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 1C202. Anmärkning: Avsnitt 1C002 omfattar inte metallegeringar, pulver av metallegeringar och legerade material för beläggning av substrat. Metallegeringar i avsnitt 1C002 är sådana som innehåller ett högre viktprocenttal av den angivna metallen än av något annat grundämne. Spänningsbrottslivslängden ska mätas i enlighet med ASTM-standard E-139 eller motsvarande nationell standard. Den lågcykliska utmattningslivslängden ska mätas i enlighet med ASTM-standard E-606 Recommended Practice for Constant-Amplitude Low-Cycle Fatigue Testing eller motsvarande nationell standard. Testningen ska ske axiellt med ett genomsnittligt tryckförhållande lika med 1 och en tryckkoncentrationsfaktor (Kt) lika med 1. Det genomsnittliga trycket definieras som maximalt tryck minus minimalt tryck dividerat med maximalt tryck. 1C003 Magnetiska metaller av alla typer och former som har någon av följande egenskaper: 1C004 Urantitanlegeringar eller volframlegeringar med en matris av järn, koppar eller nickel som bas, och med alla följande egenskaper: 1C005 Supraledande ledare i kompositmaterial i längder på mer än 100 m eller med en vikt som överstiger 100 g enligt följande: För avsnitt 1C005 gäller att fibertrådar kan vara i tråd-, cylinder-, film- eller bandform. 1C006 Vätskor och smörjmedel enligt följande: För avsnitt 1C006 gäller följande: 1C007 Keramiska basmaterial, keramiska material som inte är kompositer, keramiska matris-komposit-material och utgångsmaterial, enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 1C107. 1C008 Icke fluorhaltiga polymerer enligt följande: Glasningstemperaturen (Tg) för termoplastiska material i avsnitt 1C008.a.2 och material i avsnitt 1C008.a.4 ska bestämmas med den metod som beskrivs i ISO 11357–2 (1999) eller nationella motsvarigheter. Glasningstemperaturen (Tg) för härdplastmaterial i avsnitt 1C008.a.2 och material i avsnitt 1C008.a.3 ska bestämmas med den 3-point bend-metod som beskrivs i ASTM D 7028–07 eller nationella motsvarigheter. Testet ska utföras med ett torrt provexemplar som uppnått en härdningsgrad på minst 90 % i enlighet med ASTM E 2160–04 eller likvärdig nationell standard och som härdats med den kombination av standardprocesser och efterhärdningsprocesser som ger den högsta glasningstemperaturen. 1C009 Icke bearbetade fluorföreningar enligt följande: 1C010 Fibrer eller fiberliknande material enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 1C210 OCH 9C110. Vid beräkning av specifik brottgräns, specifik modul eller specifik vikt för fibrer eller fiberliknande material i avsnitten 1C010.a, 1C010.b eller 1C010.c, ska brottgränsen och modulen beräknas enligt metod A som beskrivs i ISO 10618 (2004) eller motsvarande nationell standard. Beräkningen av specifik brottgräns, specifik modul eller specifik vikt för fibrer eller fiberliknande material som inte är lagda i samma riktning (t.ex. duk, mattor och band) i avsnitt 1C010 ska grundas på de mekaniska egenskaperna hos de i samma riktning lagda enfibertrådarna (t.ex. enfibertrådar, garn, väv eller drev) innan de förädlas till fibrer eller fiberliknande material som inte är lagda i samma riktning. 1C011 Metaller och föreningar enligt följande: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING och AVSNITT 1C111. ANM.: Se även kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för metallpulver som blandats med andra ämnen för att få fram en blandning som är särskilt avsedd för militära ändamål. 1C012 Material enligt följande: Dessa material används framför allt för nukleära värmekällor. 1C101 Material och apparater för att minska sannolikheten för upptäckt genom radarreflektioner, ultravioletta/infraröda och akustiska signaturer, andra än de som specificeras i avsnitt 1C001, och som kan användas i missiler, missil delsystem eller obemannade luftfarkoster som specificeras i avsnitt 9A012. Anmärkning 1: Avsnitt 1C101 omfattar följande: Anmärkning 2: Avsnitt 1C101 omfattar inte beläggningar när de används för värmereglering av satelliter. Med missil avses i avsnitt 1C101 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster med en räckvidd som överstiger 300 km. 1C102 Återmättade pyrolyserade kol-kol-material konstruerade för rymdfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104. 1C107 Grafit och keramiska material, andra än de som specificeras i avsnitt 1C007, enligt följande: 1C111 Drivmedel och kemikalier som ingår i dessa, andra än de som specificeras i avsnitt 1C011, enligt följande: Anmärkning: För drivmedel och kemikalier som ingår i dessa och som inte specificeras i avsnitt 1C111, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. 1C116 Maråldrat stål som kan användas i missiler, med alla följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 1C216. Maråldrat stål är järnlegeringar I avsnitt 1C116 avses med missil kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster med en räckvidd som överstiger 300 km. 1C117 Material för framställning av missiler enligt följande: I avsnitt 1C117 avses med missil kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster med en räckvidd som överstiger 300 km. 1C118 Titanstabiliserat duplex rostfritt stål (Ti-DSS) enligt följande: 1C202 Legeringar, andra än de som specificeras i avsnitt 1C002.b.3 eller 1C002.b.4, enligt följande: Uttrycket legeringar i stånd till omfattar legeringar före eller efter värmebehandling. 1C210 Fibrer eller fiberliknande material eller prepregs, andra än sådana som specificeras i avsnitt 1C010.a, b eller e, enligt följande: Anmärkning: Fibrer eller fiberliknande material i avsnitt 1C210 är begränsade till kontinuerliga enfibertrådar, garn, väv, drev och tejp. 1C216 Maråldrat stål som inte specificeras i avsnitt 1C116 och i stånd till en brottgräns på 1950 MPa eller mer vid 293 K (20 °C). Anmärkning: Avsnitt 1C216 omfattar inte former i vilka inga linjära dimensioner överstiger 75 mm. Uttrycket maråldrat stål i stånd till omfattar maråldrat stål både före och efter värmebehandling. 1C225 Bor som anrikats med avseende på bor-10-isotopen(10B) till större halt än den naturliga halten av denna isotop enligt följande: Elementärt bor, föreningar, blandningar som innehåller bor, produkter som innehåller dessa samt avfall och skrot av något av föregående. Anmärkning: I avsnitt 1C225 inbegrips i blandningar som innehåller bor även boranrikade material. Den naturliga isotophalten för bor-10 är ungefär 18,5 viktprocent (20 atomprocent). 1C226 Volfram, volframkarbid och legeringar som innehåller mer än 90 viktprocent volfram, som inte specificeras i 1C117 och som har båda följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 1C226 omfattar inte delar som särskilt utformats som vikter eller som kollimatorer för gammastrålning. 1C227 Kalcium med båda följande egenskaper: 1C228 Magnesium med båda följande egenskaper: 1C229 Vismut med båda följande egenskaper: 1C230 Berylliummetall, legeringar som innehåller mer än 50 viktprocent beryllium, berylliumföreningar, produkter därav, samt avfall och skrot av något av föregående, förutsatt att detta inte specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. Anmärkning: Avsnitt 1C230 omfattar inte följande: 1C231 Hafniummetall, legeringar som innehåller mer än 60 viktprocent hafnium, hafniumföreningar som innehåller mer än 60 viktprocent hafnium, produkter därav, samt avfall och skrot av något av föregående. 1C232 Helium-3 (3He), blandningar som innehåller helium-3 och produkter eller apparatur som innehåller något av föregående. Anmärkning: Avsnitt 1C232 omfattar inte en produkt eller apparatur som innehåller mindre än 1 g helium-3. 1C233 Litium anrikad i isotopen litium-6 (6Li) till en halt som överskrider den naturliga isotophalten och produkter eller apparater som innehåller anrikat litium enligt följande: rent litium, legeringar, föreningar, blandningar som innehåller litium, produkter därav, avfall eller skrot av något av föregående Anmärkning: Avsnitt 1C233 omfattar inte dosimetrar baserade på termoluminiscens. Den naturliga isotophalten av litium-6 är ungefär 6,5 viktprocent (7,5 atomprocent). 1C234 Zirkonium med ett hafniuminnehåll på mindre än 1 viktdel hafnium på 500 viktdelar zirkonium enligt följande: metall, legeringar innehållande mer än 50 viktprocent zirkonium, föreningar, produkter därav, avfall eller skrot av något av föregående, utöver vad som specificeras i avsnitt 0A001.f. Anmärkning: Avsnitt 1C234 omfattar inte zirkonium i form av folier med en tjocklek som inte överstiger 0,10 mm. 1C235 Tritium, tritiumföreningar och blandningar som innehåller tritium i vilka förhållandet tritiumatomer/väteatomer överstiger 1/1000, samt produkter eller enheter som innehåller något av föregående. Anmärkning: Avsnitt 1C235 omfattar inte produkter eller apparatur som innehåller mindre än 1,48 × 103 GBq (40 Ci) tritium. 1C236 Alfa-strålande radionuklider som lämpar sig för att skapa neutronkällor baserat på alfa-n-reaktion, andra än de som specificeras i avsnitten 0C001 och 1C012.a, i följande former: Anmärkning: Avsnitt 1C236 omfattar inte produkter eller apparatur som innehåller mindre än 3,7 GBq (100 mCi) aktivitet. I avsnitt 1C236 avses med alfa-strålande radionuklider följande: 1C237 Radium-226 (226Ra), radium-226-legeringar, radium-226-föreningar, blandningar som innehåller radium-226, produkter av dessa och produkter eller apparatur som innehåller något av föregående. Anmärkning: Avsnitt 1C237 omfattar inte följande: 1C238 Klortrifluorid (ClF3). 1C239 Sprängämnen, andra än de som specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, eller ämnen eller blandningar av ämnen som innehåller mer än 2 viktprocent av sådana sprängämnen, med en kristalldensitet större än 1,8 g/cm3 och som har en detonationshastighet högre än 8000 m/s. 1C240 Nickelpulver och porös nickelmetall som inte specificeras i avsnitt 0C005, enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 1C240 omfattar inte följande: Avsnitt 1C240.b avser porösa metaller som formats genom komprimering och sintring av materialen i avsnitt 1C240.a för att skapa ett metallmaterial med fina porer som är internt förbundna genom hela strukturen. 1C241 Rhenium och legeringar som innehåller 90 viktprocent eller mer rhenium, samt legeringar av rhenium och volfram som innehåller 90 viktprocent eller mer av någon kombination av rhenium och volfram, med båda följande egenskaper: 1C350 Kemikalier som kan användas som prekursorer för giftiga kemiska agens, enligt följande, och kemiska blandningar som innehåller en eller flera av dessa: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING OCH AVSNITT 1C450. Anmärkning 1: För export till stater som inte är parter i konventionen om kemiska vapen omfattar avsnitt 1C350 inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C350 punkterna 1, 3, 5, 11, 12, 13, 17, 18, 21, 22, 26, 27, 28, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 54, 55, 56, 57 och 63 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 10 viktprocent av blandningen. Anmärkning 2: För export till stater som är parter i konventionen om kemiska vapen omfattar avsnitt 1C350 inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C350 punkterna 1, 3, 5, 11, 12, 13, 17, 18, 21, 22, 26, 27, 28, 31, 32, 33, 34, 35, 36, 54, 55, 56, 57 och 63 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. Anmärkning 3: Avsnitt 1C350 omfattar inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C350 punkterna 2, 6, 7, 8, 9, 10, 14, 15, 16, 19, 20, 24, 25, 30, 37, 38, 39, 40, 41, 42, 43, 44, 45, 46, 47, 48, 49, 50, 51, 52, 53, 58, 59, 60, 61 och 62 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. Anmärkning 4: Avsnitt 1C350 omfattar inte produkter som identifieras som konsumentvaror förpackade för detaljhandelsförsäljning för personligt bruk eller förpackade för enskilt bruk. 1C351 Humana och animala patogener och toxiner, enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 1C351 omfattar inte vaccin eller immuntoxiner. 1C352 Används inte 1C353 Genetiska beståndsdelar och genetiskt modifierade organismer enligt följande: Genetiskt modifierade organismer innefattar organismer där det genetiska materialet (nukleinsyrasekvenser) har ändrats på ett sätt som inte inträffar naturligt vid parning och/eller naturlig rekombination, och omfattar organismer som helt eller delvis producerats artificiellt. Genetiska beståndsdelar omfattar bland annat kromosomer, genom, plasmider, transposoner och vektorer, vare sig de är genetiskt modifierade eller icke modifierade, eller helt eller delvist kemiskt syntetiserade. Med nukleinsyresekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i någon av de mikroorganismer som specificeras i avsnitt 1C351.a, 1C351.c, 1C351.e eller IC354 avses en sekvens som är specifik för den angivna mikroorgansimen och som Anmärkning: Avsnitt 1C353 omfattar inte nukleinsyrasekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i enterohemorragisk Escherichia coli, serotyp O157 och andra verotoxinproducerande stammar, andra än de som är kodade för verotoxiner eller deras komponenter. 1C354 Växtpatogener enligt följande: 1C450 Giftiga kemikalier och prekursorer för giftiga kemikalier, enligt följande, och kemiska blandningar som innehåller en eller flera av dessa: ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 1C350, 1C351.d OCH KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING.

1C Teknisk anmärkning: a)

1C Förarbetade eller bearbetade material som tillverkats genom valsning, dragning, strängpressning, smidning, stötsträngpressning, pressning, ådring, finfördelning eller slipning, t.ex. vinklar, kanaler, cirklar, skivor, stoft, flingor, folier och blad, smiden, plattor, pulver, pressningar och stansningar, ribbor, ringar, stavar (inklusive släta svetstrådar, valstrådar och vridna trådar) sektioner, modeller, ark, strimlor, tuber och rör (inkl. runda och fyrkantiga rör och rör med håligheter), dragen eller strängsprutad tråd.

b)

Gjutet material som tillverkats genom gjutning i sand, dynor, metall, gips eller andra gjutformar, inklusive högtrycksgjutning, sintrade formar och formar tillverkade genom pulvermetallografi.

a)

Material som kan absorbera frekvenser överstigande 2 × 108 Hz men mindre än 3 × 1012 Hz. Anmärkning 1: Avsnitt 1C001.a omfattar inte följande: Anmärkning 2: Ingenting i anmärkning 1 till avsnitt 1C001.a friger magnetiska material som förorsakar absorption när de blandas i färg.

a)

Hårabsorbenter som konstruerats av naturliga eller syntetiska fibrer och som belagts med icke-magnetiskt material för att absorbera strålning.

b)

Absorbenter som inte har några magnetiska förluster och vars infallsyta inte är plan i formen, innefattande pyramider, koner, kilformade eller i utförande med vindlingar på ytan.

c)

Plana absorbenter som

1. Teknisk anmärkning:

är tillverkade av Testplattor för att mäta absorptionen enligt avsnitt 1C001.a. Anmärkning: 1.c.1 ska vara en kvadrat med minst 5 våglängders sida (våglängden för mittfrekvensen) som placerats i ett från det strålande elementet avlägset fält.

1. a)

skumplastmaterial (böjligt eller fast) med kolinnehåll eller organiska material, inbegripet föreningar så att materialets reflektionsförmåga uppgår till mer än 5 % av motsvarande för metall, över en bandbredd som överstiger ± 15 % av mittfrekvensen av den infallande energin, och som dessutom inte kan motstå högre temperaturer än 450 K (177 °C), eller

b)

keramiska material som ger mer än 20 % eko jämfört med metall över en bandbredd som är ± 15 % av mittfrekvensen av den infallande energin och som dessutom inte kan motstå temperaturer som överstiger 800 K (527 °C),

2. har en brottgräns vid dragning som är mindre än 7 × 106 N/m2, och

3. har en sträckgräns vid tryckning som är mindre än 14 × 106 N/m2.

d)

Plana absorbenter tillverkade av sintrad ferrit, med

1. ett densitetstal som överstiger 4,4 och

2. en högsta arbetstemperatur på 548 K (275 °C).

b)

1C001 Material som kan absorbera frekvenser överstigande 1,5 × 1014 Hz men mindre än 3,7 × 1014 Hz och som inte är genomsläppliga för synligt ljus. Anmärkning: 1C001.b omfattar inte material som särskilt konstruerats eller utformats för något av följande ändamål:

a)

Lasermärkning av polymerer, eller

b)

lasersvetsning av polymerer.

c) Teknisk anmärkning:

Verkligt ledande polymeriska material med en elektrisk ledningsförmåga som överstiger 10000 S/m (Siemens per meter) eller en ytresistivitet på mindre än 100 ohm/kvadrat, som är baserade på någon av följande polymerer: Anmärkning: 1C001.c omfattar inte material i flytande form. Ledningsförmåga och ytresistivitet ska mätas enligt ASTM D-257 eller nationella motsvarigheter.

c)

1. Polyanilin,

2. polypyrol,

3. polytiofen,

4. polyfenylenvinylen, eller

5. polytienylenvinylen.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. a)

Aluminider enligt följande:

1. Nickelaluminid som innehåller 15 viktprocent eller mer aluminium, högst 38 viktprocent aluminium och åtminstone en tillsatslegering.

2. Titanaluminid som innehåller 10 viktprocent eller mer aluminium och åtminstone en tillsatslegering.

b)

Metallegeringar, enligt följande, tillverkade av pulver eller partikelmaterial som specificeras i avsnitt 1C002.c:

1. Nickellegeringar med

1. a)

en spänningsbrottslivslängd på 10000 timmar eller längre vid 923 K (650 °C) och en dragspänning på 676 MPa, eller

b)

en lågcyklisk utmattningslivslängd på 10000 cykler eller mer vid 823 K (550 °C) och en maximal spänning på 1095 MPa.

2. 1C002 b) Nioblegeringar med

2. a)

en spänningsbrottslivslängd på 10000 timmar eller längre vid 1073 K (800 °C) och en dragspänning på 400 MPa, eller

b)

en lågcyklisk utmattningslivslängd på 10000 cykler eller mer vid 973 K (700 °C) och en maximal spänning på 700 MPa.

3. Titanlegeringar med

3. a)

en spänningsbrottslivslängd på 10000 timmar eller längre vid 723 K (450 °C) och en dragspänning på 200 MPa, eller

b)

en lågcyklisk utmattningslivslängd på 10000 cykler eller mer vid 723 K (450 °C) och en maximal spänning på 400 MPa.

4. Aluminiumlegeringar med

4. a)

en brottgräns på 240 MPa eller mer vid 473 K (200 °C), eller

b)

en brottgräns på 415 MPa eller mer vid 298 K (25 °C).

5. Magnesiumlegeringar med

5. a)

en brottgräns på 345 MPa eller mer, och

b)

en korrosionshastighet som är mindre än 1 mm/år i 3 % natriumkloridlösning. Mätningen ska ske enligt ASTM-standard G-31 eller motsvarande nationell standard.

c)

Metallegeringar i pulverform eller i form av finkorniga materialpartiklar som har alla följande egenskaper:

1. Teknisk anmärkning:

De är tillverkade av någon av följande sammansättningar: X = ett eller flera legeringsgrundämnen.

a)

Nickellegeringar (Ni-Al-X, Ni-X-Al) godkända för tillverkning av delar till turbinmotorer, dvs. med mindre än tre icke metalliska partiklar (som tillförts under tillverkningsprocessen) med en storlek större än 100 μm per 109 legeringspartiklar.

b)

Nioblegeringar (Nb-Al-X eller Nb-X-Al, Nb-Si-X eller Nb-X-Si, Nb-Ti-X eller Nb-X-Ti).

c)

Titanlegeringar (Ti-Al-X eller Ti-X-Al).

d)

Aluminiumlegeringar (Al-Mg-X eller Al-X-Mg, Al-Zn-X eller Al-X-Zn, Al-Fe-X eller Al-X-Fe), eller

e)

Magnesiumlegeringar (Mg-Al-X eller Mg-X-Al).

2. De är tillverkade i en kontrollerad omgivning genom någon av följande processer:

2. a)

Vakuumfinfördelning.

b)

Gasfinfördelning.

c)

Rotationsfinfördelning.

d)

Plaskavkylning.

e)

Smältspinning och finfördelning.

f)

Smältutdragning och finfördelning.

g)

Mekanisk legering.

3. De kan bilda sådana material som specificeras i avsnitt 1C002.a. eller 1C002.b.

d)

1C002 Legerade material som har alla följande egenskaper:

1. De är tillverkade av någon av sammansättningarna som specificeras i avsnitt 1C002.c.1.

2. De finns i form av icke finfördelade flingor, band eller tunna stavar.

3. De har tillverkats i kontrollerad miljö genom någon av följande processer:

3. a)

Plaskavkylning.

b)

Smältspinning.

c)

Smältutdragning.

a) Teknisk anmärkning:

Den relativa begynnelsepermeabiliteten är 120000 eller mer och tjockleken 0,05 mm eller mindre. Mätning av den relativa begynnelsepermeabiliteten ska genomföras på helt utglödgat material.

b)

Magnetostriktiva legeringar med

1. en mättad magnetostriktion som är mer än 5 × 10–4.

2. en magnetomekanisk kopplingsfaktor (k) som är mer än 0,8, eller

c) Teknisk anmärkning:

amorfa eller nanokristallina legeringar i remsor med alla följande egenskaper: Nanokristallina material i avsnitt 1C003.c är sådana material som har en kristallkornsstorlek som är 50 nm eller mindre när de bestäms med hjälp av röntgen-diffraktion.

c)

1. legeringar som innehåller minst 75 viktprocent av järn, nickel eller kobolt,

2. legeringar som har en mättad magnetisk induktion (Bs) som är minst 1,6 T, och

3. något av följande:

3. a)

remsor vars tjocklek är 0,02 mm eller mindre, eller

b)

en elektrisk resistivitet på minst 2 × 10–4 ohm cm.

a)

Densiteten överstiger 17,5 g/cm3.

b)

Elasticitetsgränsen överstiger 880 MPa.

c)

Brottgränsen överstiger 1270 MPa, och

d)

Töjningen överstiger 8 %.

a)

Supraledande kompositledare som innehåller minst en fibertråd av niob-titan och med alla följande egenskaper:

1. Inlagd i en matris av annat material än koppar eller kopparbaserad matris och

2. med en tvärsnittsarea som är mindre än 0,28 × 10–4 mm2 (6 μm i diameter för cirkulär fibertråd).

b)

1C005 Supraledande kompositledare som består av en eller flera supraledandefibertrådar av annat material än niob-titan och med alla följande egenskaper:

1. En kritisk temperatur utan magnetfält som är högre än 9,85 K (-263,31 °C), och

2. kvarstår i sitt supraledande tillstånd vid temperaturen 4,2 K (-268,96 °C) då den utsätts för ett magnetfält som är riktat vinkelrätt mot ledarens längdaxel och motsvarar en magnetisk induktion på 12 T med en kritisk strömtäthet som överstiger 1750 A/mm2 på ledarens hela tvärsnittsarea.

c)

Supraledande kompositledare som består av en eller flera supraledande fibertrådar som förblir supraledande vid en temperatur som överstiger 115 K (-158,16 °C).

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: a)

Hydrauloljor som innehåller som huvudkomponent något av följande:

1. Teknisk anmärkning:

Syntetiska kiselkolväteoljor med alla följande egenskaper: Med kiselkolväteolja avses i avsnitt 1C006.a.1 en olja som uteslutande innehåller kisel, väte och kol.

a)

En flampunkt som överstiger 477 K (204 °C),

b)

en flytpunkt vid 239 K (-34 °C) eller lägre,

c)

ett viskositetsindex på minst 75, och

d)

En termisk stabilitet vid 616 K (343 °C), eller

2. Teknisk anmärkning:

klor-fluor-kolföreningar som har alla följande egenskaper: Med klor-fluor-kolföreningar avses i avsnitt 1C006.a.2 en produkt som uteslutande innehåller klor, fluor och kol.

a)

Saknar flampunkt,

b)

en gasantändningstemperatur som överstiger 977 K (704 °C),

c)

en flytpunkt vid 219 K (-54 °C) eller lägre,

d)

ett viskositetsindex på minst 80, och

e)

en kokpunkt vid 473 K (200 °C) eller högre.

b)

Smörjmedel vars huvudkomponent är något av följande:

1. Fenylen- eller alkylfenylenetrar eller tioetrar eller blandningar därav, som innehåller mer än två etrar eller tioeterfunktioner eller blandningar härav.

2. Fluorinerad kiselvätska med kinematisk viskositet som är mindre än 5000 mm2/s (5000 centistokes) mätt vid 298 K (25 °C).

c)

1C006 Dämpnings- eller flotationsvätskor som har alla följande egenskaper:

1. Renhet bättre än 99,8 %.

2. Innehåller färre än 25 partiklar som är 200 μm eller större per 100 ml.

3. Tillverkad till minst 85 % av något av följande:

3. a)

Dibromtetrafluoretan (CAS 25497-30-7, 124-73-2, 27336-23-8).

b)

Polyklortrifluoretylen (endast oljiga och vaxiga varianter).

c)

Polybromtrifluoretylen.

d)

Kylvätskor för elektronik tillverkat av fluorkarboner som har alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 1C006.d omfattar inte material som är specificerat och förpackat som läkemedel.

1. Till minst 85 viktprocent består av något av följande ämnen eller blandningar därav:

1. a)

Monomera former av perfluorpolyalkyletertriasiner eller perfluoralifatiketrar.

b)

Perfluoralkylaminer.

c)

Perfluorcycloalkaner.

d)

Perfluoralkaner.

2. Densiteten vid 298 K (25 °C) är 1,5 g/ml eller mer.

3. Är i flytande form vid 273 K (0 °C), och

4. innehåller 60 viktprocent eller mer av fluor.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning:

1. Flampunkten ska bestämmas med hjälp av Cleveland Open Cup Method som beskrivs i ASTM D-92 eller motsvarande nationell standard.

2. Flytpunkten ska bestämmas enligt ASTM D-97 eller motsvarande nationell standard.

3. Viskositetsindex ska bestämmas enligt den metod som beskrivs i ASTM D-2270 eller motsvarande nationell standard.

4. Termisk stabilitet bestäms genom följande testprocedur eller motsvarande nationell standard: 20 ml av vätskan som ska testas placeras i en 46 ml typ 317 kammare av rostfritt stål som innehåller en kula med 12,5 mm diameter tillverkad av verktygsstål M-10, 52 100 stål samt marinbrons (60 % Cu, 39 % Zn och 0,75 % Sn). Kammaren fylls sedan med kvävgas, förseglas vid rumstemperatur och temperaturen ökas sedan till 644 ± 6 K (371 ± 6 °C) och behålls vid denna temperatur i sex timmar. Provet ska betraktas som termiskt stabilt om efter ovanstående behandling alla följande villkor är uppfyllda:

4. a)

Viktförlusten hos varje kula är mindre än 10 mg/mm2 av kulans yta.

b)

Förändringen i viskositeten i förhållande till den ursprungliga, bestämd vid 311 K (38 °C), är mindre än 25 %.

c)

Det totala syra- eller bastalet är mindre än 0,40.

5. Gasantändningstemperaturen ska mätas enligt den metod som beskrivs i ASTM E-659 eller motsvarande nationell standard.

a)

Basmaterial av enkla eller komplexa titanborider där den metalliska föroreningen (exklusive avsiktliga tillsatser) är mindre än 5000 ppm, och den genomsnittliga partikelstorleken är lika med eller mindre än 5 μm och högst 10 % av partiklarna är större 10 μm.

b)

Keramiska material som inte är kompositer, i form av råmaterial eller halvfabrikat, och som är sammansatta av titanborider med en densitet som är 98 % eller mer av den teoretiska densiteten. Anmärkning: Avsnitt 1C007.b omfattar inte slipmedel.

c)

Keram-keram-komposit-material, med en glas- eller oxid-matris som är förstärkt med fibrer som har alla följande egenskaper:

1. De är tillverkade av något av följande material:

1. a)

Si-N,

b)

Si-C,

c)

Si-Al-O-N, eller

d)

Si-O-N, och

2. de har en specifik brottgräns som överstiger 12,7 × 103 m,

d)

Keram-keram-komposit-material, med eller utan en kontinuerlig metallstruktur, som innehåller partiklar eller strukturer av något fibröst eller kristalltrådsliknande material när matrisen bildas av karbider eller nitrider av kisel, zirkonium eller bor.

e)

Utgångsmaterial (dvs. speciella polymeriska eller metallorganiska material) för att producera material som specificeras i avsnitt 1C007.c enligt följande:

1. Polydiorganosilaner (för att producera kiselkarbid).

2. Polysilazaner (för att producera kiselnitrid).

3. Polykarbosilazaner (för att tillverka keramer som innehåller kisel-, kol- och kvävekomponenter).

f)

Keram-keram-komposit-material med en matris av glas eller oxid förstärkt med kontinuerliga fibrer av någon av följande sammansättningar: Anmärkning.: Avsnitt 1C007.f omfattar inte kompositer som innehåller fibrer med sammansättningar vars brottgräns är mindre än 700 MPa vid 1273 K (1000 °C) eller vars dragkryphållfasthet är större än 1 % krypning vid en belastning av 100 MPa vid 1273 K (1000 °C) i 100 timmar.

1. Al2O3 (CAS 1344-28-1), eller

2. Si-C-N.

a)

Imider enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 1C008.a omfattar ämnen i flytande eller fast smältbar form, inklusive harts, pulver, korn, film, blad och band. ANM.: För icke-smältbara aromatiska polyimider i form av film, blad eller band, se avsnitt 1A003.

1. Bismaleimider.

2. Aromatiska polyamidimider (PAI) med en glasningstemperatur (Tg) som överstiger 563 K (290 °C).

3. Aromatiska polyimider med en glasningstemperatur (Tg) som överstiger 505 K (232 °C).

4. 1C008 a) Aromatiska polyeterimider som har en glasningstemperatur (Tg) som överstiger 563 K (290 °C).

b)

Termoplastiska flytande kristallpolymerer som har en värmebeständighetstemperatur som är högre än 523 K (250 °C), mätt enligt ISO 75–2 (2004), metod A, eller motsvarande nationella standard, med en belastning av 1,80 N/mm2 och som är sammansatta av:

1. Någon av följande föreningar:

1. a)

fenylen, bifenylen eller naftalen, eller

b)

metyl, tertiär butyl eller fenylsubstituterad bifenylen eller naftalen, och

2. någon av följande syror:

2. a)

terftalsyra (CAS 100-21-0),

b)

6-hydroxy-2 naftoesyra (CAS 16712-64-4), eller

c)

4-hydroxybensoesyra (CAS 99-96-7).

c)

Används inte.

d)

Polyarylketoner.

e)

Polyarylensulfider, där arylengruppen är bifenylen, trifenylen eller kombinationer av dessa.

f)

Polybifenylenetersulfon som har en glasningstemperatur (Tg) som är högre än 563 K (290 °C).

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. a)

Sampolymerer av vinylidenfluorid som har 75 % eller mer av betakristallinsk struktur utan att det är utdraget.

b)

Fluorinerade polyimider som innehåller 10 % viktprocent eller mer av bundet fluor.

c)

Fluorinerade fosfazenelastomerer som innehåller 30 viktprocent eller mer av bundet fluor.

a)

Organiska fibrer eller fiberliknande material med alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 1C010.a omfattar inte polyetylen.

1. En specifik modul som överstiger 12,7 × 106 m, och

2. specifik brottgräns som överstiger 23,5 × 104 m.

b)

1C010 Fibrer eller fiberliknande material av kol med alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 1C010 b omfattar inte följande:

1. En specifik modul som överstiger 14,65 × 106 m, och

2. specifik brottgräns som överstiger 26,82 × 104 m.

a)

Fibrer eller fiberliknande material som ska användas för reparation av civila luftfartyg eller dess laminat, för vilka

1. ytan inte överstiger 1 m2,

2. längden inte överstiger 2,5 m, och

3. bredden överstiger 15 mm.

b)

Mekaniskt hackat, malet eller skuret kolfiber- eller kolfiberliknande material med en längd på 25,0 mm eller mindre.

c)

Oorganiska fibrer eller fiberliknande material med alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 1C010.c omfattar inte följande:

1. En specifik modul som överstiger 2,54 × 106 m, och

2. en smält-, mjuknings-, sönderdelnings- eller förångningstemperatur som överstiger 1922 K (1649 °C) i en inert miljö.

a)

Icke kontinuerliga flerfasiga polykristallinska aluminiumfibrer i form av avhuggna fibrer eller oregelbundna mattor som innehåller 3 viktprocent eller mer av kvarts och som har en specifik modul som är mindre än 10 × 106 m.

b)

Fibrer av molybden eller molybdenlegeringar.

c)

Fibrer av bor.

d)

Icke kontinuerliga keramiska fibrer med en smält-, mjuknings-, sönderdelnings- eller förångningstemperatur som är lägre än 2043 K (1770 °C) i en inert miljö.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. d)

Fibrer eller fiberliknande material med någon av följande egenskaper:

1. Sammansatta av något av följande ämnen:

1. a)

polyeterimider som specificeras i avsnitt 1C008.a, eller

b)

material som specificeras i avsnitten 1C008.b–1C008.f, eller

2. sammansatta av material som specificeras i avsnitt 1C010.d.1.a eller 1C010d.1.b och blandad med andra fibrer som specificeras i avsnitt 1C010.a, 1C010.b eller 1C010.c.

e) Teknisk anmärkning:

1C010 Helt eller delvis harts- eller beckimpregnerat fiber eller fiberliknande material (förimpregnerat), metall- eller kolbelagt fibrer eller fiberliknande material (förformat) eller förformade kolfibrer Anmärkning 1: Metall- eller kolbelagt fibrer eller fiberliknande material (förformat) eller förformade kolfibrer som inte är harts- eller beckimpregnerat specificeras som fibrer eller fiberliknande material i avsnitt 1C010.a, 1C010.b eller 1C010.c. Anmärkning 2: Avsnitt 1C010.e omfattar inte Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg) för material som specificeras i avsnitt 1C010.e ska bestämmas med den metod som beskrivs i ASTM D 7028–07 eller en likvärdig nationell standard på ett torrt provexemplar. När det gäller härdade material ska graden av härdning för ett torrt provexemplar vara minst 90 % enligt definition i ASTM E 2160–04 eller likvärdig nationell standard.

e)

1. för vilka något av följande gäller:

1. a)

Oorganiska fibrer eller fiberliknande material som specificeras i avsnitt 1C010.c, eller

b)

organiska eller kol-fibrer eller fiberliknande material med samtliga följande egenskaper:

1. En specifik modul som överstiger 10,15 × 106 m, och

2. specifik brottgräns som överstiger 17,7 × 104 m, och

2. för vilka något av följande gäller:

2. a)

Harts eller beck som specificeras i avsnitt 1C008 eller 1C009 b,

b)

Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg) lika med eller över 453 K (180 °C) med en fenolharts, eller

c)

Dynamic Mechanical Analysis glass transition temperature (DMA Tg) lika med eller över 505 K (232 °C) med harts eller beck som inte specificeras i 1C008 eller 1C009.b och inte är en fenolharts.

a)

epoxyharts-matris-impregnerade fibrer eller fiberliknande material av kol (förimpregnerade) som ska användas för reparation av civila luftfartyg eller dess laminat, för vilka

1. ytan inte överstiger 1 m2,

2. längden inte överstiger 2,5 m, och

3. bredden överstiger 15 mm.

b)

Mekaniskt hackade, malda eller skurna fibrer eller fiberliknande material av kol som är helt eller delvis impregnerade med epoxyharts och är kortare än 25,0 mm, förutsatt att ett annat harts eller beck än vad som specificeras i avsnitten 1C008 och 1C009.b används.

a) 1C011 a)Teknisk anmärkning:

Metaller som har en partikelstorlek som är mindre än 60 μm, oberoende av om de är sfäriska, finfördelade, sfäroida, i form av flagor eller pulver, och som är tillverkade av material som består till 99 % eller mer av zirkonium, magnesium eller legeringar av dessa. Det hafnium som naturligt ingår i zirkonium (vanligen 2–7 %) inräknas i mängden zirkonium. Anmärkning: Metallerna eller legeringarna som specificeras i avsnitt 1C011.a omfattas vare sig metallerna eller legeringarna är inkapslade i aluminium, magnesium, zirkonium eller beryllium eller ej

b)

Bor eller borlegeringar som har en partikelstorlek som är 60 μm eller mindre enligt följande. Anmärkning: Metallerna eller legeringarna som specificeras i avsnitt 1C011.b omfattas antingen metallerna eller legeringarna är inkapslade i aluminium, magnesium, zirkonium eller beryllium eller ej.

1. Bor med en renhet av 85 viktprocent eller mer.

2. Borlegeringar med en borinnehåll av 85 viktprocent eller mer.

c)

Guanidinnitrat (CAS 506-93-4).

d)

Nitroguanidin (NQ) (CAS 556-88-7).

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: a)

Plutonium i alla former som är isotopprovade till att innehålla mer är 50 viktprocent plutonium-238. Anmärkning: Avsnitt 1C012.a omfattar inte följande:

a)

Skeppningar som innehåller 1 g plutonium eller mindre.

b)

Skeppningar med 3 effektiva gram eller mindre när den är innesluten i en avkännande kropp i ett instrument.

b)

Tidigare separerat neptunium-237 i alla former. Anmärkning: Avsnitt IC012.b omfattar ej skeppningar som innehåller 1 g neptunium-237 eller mindre.

a)

Strukturella material och beläggningar särskilt konstruerade för att minska radarreflexionen.

b)

Beläggningar, inklusive färger, särskilt konstruerade för att minska eller väl avpassa reflexion eller utstrålning i mikrovågs-, infraröd- eller ultraviolettområdet av det elektromagnetiska spektrumet.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Finkorniga grafiter med en bulkdensitet på minst 1,72 g/cm3, uppmätt vid 288 K (15 °C), och med en kornstorlek på högst 100 μm, som kan användas för raketdysor och för nosspetsar till farkoster för återinträde i jordatmosfären, och som kan maskinbearbetas till någon av följande produkter: ANM.: Se även avsnitt 0C004.

1. Cylindrar med en diameter på minst 120 mm och en längd på minst 50 mm,

2. rör med en innerdiameter på minst 65 mm, en väggtjocklek på minst 25 mm och en längd på minst 50 mm eller

3. block vars dimensioner är minst 120 mm × 120 mm × 50 mm.

b)

Pyrolytiska eller trådförstärkta grafiter för användning i raketdysor och för nosspetsar till farkoster för återinträde i jordatmosfären, som kan användas i missiler och rymduppskjutningsfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104. ANM.: Se även avsnitt 0C004.

c)

Keramiska kompositmaterial (dielektricitetskonstant mindre än 6 vid alla frekvenser från 100 MHz till 100 GHz) för användning i radomer, som kan användas i missiler och rymduppskjutningsfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104.

d)

Bulkbearbetbar förstärkt obränd kiselkarbidkeram för användning i nosspetsar, som kan användas i missiler och rymduppskjutningsfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104.

e)

Förstärkta keramiska kompositmaterial av kiselkarbid för användning i nosspetsar, farkoster för återinträde i jordatmosfären och dysklaffar, som kan användas i missiler och rymduppskjutningsfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104.

a)

Framdrivningssubstanser:

1. Teknisk anmärkning:

Sfäriska eller sfäroidiska aluminiumpulver, andra än de som specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, med partikelstorlek mindre än 200 μm och ett aluminiuminnehåll av 97 viktprocent eller mer, om minst 10 % av den totala vikten består av partiklar som är mindre än 63 μm enligt ISO 2591:1988 eller motsvarande nationell standard. En partikelstorlek av 63 μm (ISO R-565) motsvarar 250 mesh (Tyler) eller 230 mesh (ASTM-standard E-11).

2. Metallpulver, andra än de som specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, enligt följande: Anmärkning: Avsnitten 1C111a.2.a och 1C111a.2.b omfattar pulverblandningar med en fördelning av olika partikelformer (t.ex. blandningar med olika partikelstorlekar) om en eller flera av formerna omfattas av kontroll.

2. a) Teknisk anmärkning:

Metallpulver av zirkonium, beryllium eller magnesium, eller legeringar av dessa metaller, om åtminstone 90 % av partikelvolymen eller partikelvikten består av partiklar som är mindre än 60 μm (fastställt med mätningstekniker som användning av silbotten, laserdiffraktion eller optisk skanning), antingen sfäriska, finfördelade, sfäroidiska, flingade eller malda, innehållande 97 viktprocent eller mer av något av följande ämnen: Det hafnium som naturligt ingår i zirkonium (vanligen 2–7 %) inräknas i mängden zirkonium.

a)

1. Zirkonium,

2. beryllium, eller

3. magnesium.

b)

1C111 a) 2. Metallpulver av bor eller borlegeringar med en borhalt på 85 viktprocent eller mer, om åtminstone 90 % av partikelvolymen eller partikelvikten består av partiklar som är mindre än 60 μm (fastställt med mätningstekniker som användning av silbotten, laserdiffraktion eller optisk skanning), antingen sfäriska, finfördelade, sfäroida, flingade eller malda.

3. Oxiderande ämnen som kan användas i raketmotorer för flytande bränsle enligt följande:

3. a)

Dikvävetrioxid (CAS 10544-73-7).

b)

Kvävedioxid (CAS 10102-44-0)/dikvävetetraoxid (CAS 10544-72-6).

c)

Dikvävepentoxid (CAS 10102-03-1).

d) Teknisk anmärkning:

Blandade kväveoxider (MON). Blandade kväveoxider (MON) är lösningar av kväveoxid (NO) i dikvävetetraoxid/kvävedioxid (N2O4/NO2) som kan användas i missilsystem. Det finns en rad sammansättningar som kan betecknas som MONi eller MONij, där i och j är heltal som anger procentandelen kväveoxid i blandningen (t.ex. MON3 innehåller 3 % kväveoxid, MON25 25 % kväveoxid. En övre gräns är MON40, 40 viktprocent).

e)

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING för inhibitorförsedd rödrykande salpetersyra (IRFNA).

f)

SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING OCH AVSNITT 1C238 för föreningar sammansatta av fluor och en eller flera andra halogener, syre eller kväve.

4. Hydrazinderivat enligt följande: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING.

4. a)

Trimetylhydrazin (CAS 1741-01-1).

b)

Tetrametylhydrazin (CAS 6415-12-9).

c)

N.N. diallylhydrazin.

d)

Allylhydrazin (CAS 7422-78-8)

e)

Etyldihydrazin.

f)

Monometylhydrazindinitrat.

g)

Asymmetriskt dimetylhydrazinnitrat.

h)

Hydrazinazid (CAS 14546-44-2).

i)

Dimetylhydrazinazid.

j)

Hydrazindinitrat.

k)

Diimido-oxalsyredihydrazin (CAS 3457-37-2).

l)

2-hydroxyetylhydrazinnitrat (HEHN).

m)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för hydrazinperklorat.

n)

Hydrazindiperklorat (CAS 13812-39-0)

o)

1C111 a) 4. Metylhydrazinnitrat (MHN).

p)

Dietylhydrazinnitrat (DEHN).

q)

3,6-dihydrazintetrazinnitrat (1,4-dihydrazinnitrat) (DHTN).

5. Teknisk anmärkning:

Andra material med hög energitäthet än de som specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning, vilka kan användas i missiler eller obemannade luftfarkoster enligt 9A012. I avsnitt 1C111.a.5 avses med missil kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster med en räckvidd som överstiger 300 km.

5. a)

Blandat bränsle som innehåller både fasta och flytande bränslen, såsom boronslurry, med en viktbaserad energitäthet på 40 × 106 J/kg eller mer.

b)

Andra bränslen och bränsletillsatser med hög energitäthet (t.ex. kuban, jonlösningar, JP-10) med en volymbaserad energitäthet på 37,5 × 109 J/m3 eller mer, mätt vid 20 °C och ett atmosfäriskt (101,325 kPa) tryck. Anmärkning: 1C111.a.5.b omfattar inte raffinerade fossila bränslen och biobränslen framställda av växter, inklusive bränslen som certifierats för användning i civil luftfart, om de inte speciellt utformats för missiler eller obemannade luftfarkoster som specificeras i avsnitt 9A012.

b)

Polymeriska substanser:

1. Karboxyterminerad polybutadien (inklusive karboxylterminerad polybutadien) (CTPB).

2. Hydroxyterminerad polybutadien (inklusive hydroxylterminerad polybutadien) (HTPB), andra än de som specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

3. Polybutadienakrylsyra (PBAA).

4. Polybutadienakrylnitril (PBAN).

5. Teknisk anmärkning:

Polytetrahydrofuran-polyetylenglykol (TPEG). Polytetrahydrofuran-polyetylenglykol (TPEG) är en segmentsampolymer av poly-1,4-butandiol och polyetylenglykol (PEG).

c)

Andra drivmedelstillsatser och agens:

1. SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING FÖR karboraner, dekaboraner, pentaboraner och derivat därav.

2. Trietylenglykoldinitrat (TEGDN) (CAS 111-22-8).

3. 2-Nitrodifenylamin (CAS 119-75-5).

4. Trimetyletantrinitrat (TMETN) (CAS 3032-55-1).

5. Dietylenglykoldinitrat (DEGDN) (CAS 693-21-0).

6. Ferrocenderivat enligt följande:

6. a)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för katocen.

b)

Etylferrocen (CAS 1273-89-8).

c)

Propylferrocen.

d)

1C111 c) 6. Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för n-butyl-ferrocen.

e)

Pentylferrocen (CAS 1274-00-6).

f)

Dicyklopentyferrocen.

g)

Dicyklohexylferrocen.

h)

Dietylferrocen (CAS 1273-97-8).

i)

Dipropylferrocen.

j)

Dibutylferrocen (CAS 1274-08-4).

k)

Dihexylferrocen (CAS 93894-59-8).

l)

Acetylferrocen (CAS 1271-55-2) / 1,1’-diacetylferrocen (CAS 127394–5).

m)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för ferrocenkarboxylsyror.

n)

Se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning för butacen.

o)

Andra ferrocenderivat som kan användas för att ändra förbränningshastigheten för raketdrivmedel, andra än de som specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. Anmärkning: 1C111.c.6.o omfattar inte ferrocenderivat som innehåller en funktionsgrupp med sex aromatiska kolatomer bundna till ferrocenmolekylen.

7. 4,5 diazidometyl-2-metyl-1,2,3-triazol (iso-DAMTR) som inte specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

a)

En brottgräns mätt vid 293 K (20 °C), lika med eller större än

1. 0,9 GPa i upplösningsbehandlingsfasen, eller

2. 1,5 GPa i utskiljningshärdningsfasen, och

b)

någon av följande former:

1. Skivor, plåtar eller rör med en material- eller plåttjocklek som är lika med eller mindre än 5,0 mm.

2. Rörformer med en materialtjocklek som är lika med eller mindre än 50 mm och med en inre diameter som är lika med eller mer än 270 mm.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1:

1. som vanligen kännetecknas av hög nickelhalt och mycket låg kolhalt samt användning av ersättande ämnen eller fällningar för att uppnå ökad hållfasthet och åldringshärdning, och

2. som utsatts för värmebehandling för att underlätta den martensitiska omvandlingsprocessen (upplösningsbehandling) och därefter åldringshärdats (utskiljningshärdning).

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: a)

Volfram och legeringar i partikelform med ett volframinnehåll på 97 viktprocent eller mer och en partikelstorlek på 50 × 10–6 m (50 μm) eller mindre.

b)

Molybden och legeringar i partikelform med ett molybdeninnehåll på 97 viktprocent eller mer och en partikelstorlek på 50 × 10–6 m (50 μm) eller mindre.

c)

Volframmaterial i fast form med allt följande:

1. Någon av följande materialsammansättningar:

1. a)

volfram och legeringar med ett volframinnehåll på 97 viktprocent eller mer,

b)

volfram i legering med koppar med ett volframinnehåll på 80 viktprocent eller mer eller

c)

volfram i legering med silver med ett volframinnehåll på 80 viktprocent eller mer och

2. möjligt att maskinbearbeta till någon av följande produkter:

2. a)

cylindrar med en diameter på 120 mm eller mer och en längd på 50 mm eller mer,

b)

rör med en inre diameter på 65 mm eller mer, en väggtjocklek på 25 mm eller mer och en längd på 50 mm eller mer,

c)

block med en storlek på 120 mm × 120 mm × 50 mm eller mer.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: a)

Med samtliga följande egenskaper:

1. Innehåller 17,0–23,0 viktprocent krom och 4,5–7,0 viktprocent nickel,

2. innehåller mer än 0,10 viktprocent titan, och

3. har en ferritisk-austenitisk mikrostruktur (också kallad tvåfasig mikrostruktur) där minst 10 volymprocent är austenit (enligt ASTM E-1181-87 eller motsvarande nationell standard), och

b)

med någon av följande former:

1. tackor eller stavar med en storlek av minst 100 mm i varje dimension,

2. plåtar med en bredd av minst 600 mm och en tjocklek av högst 3 mm, eller

3. rör med en ytterdiameter av minst 600 mm och en materialtjocklek av högst 3 mm.

a)

Aluminiumlegeringar med båda följande egenskaper:

1. I stånd till en brottgräns på 460 MPa eller mer vid 293 K (20 °C), och

2. föreligger som rör eller som cylindrar i massiv form (även smidesämnen) med en yttre diameter av mer än 75 mm.

b)

Titanlegeringar med båda följande egenskaper:

1. I stånd till en brottgräns på 900 MPa eller mer vid 293 K (20 °C), och

2. föreligger som rör eller som cylindrar i massiv form (även smidesämnen) med en yttre diameter av mer än 75 mm.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Fibrer eller fiberliknande material av kol eller aramid med någon av följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 1C210.a omfattar inte fibrer eller fiberliknande material av aramid som har 0,25 viktprocent eller mer av en esterbaserad ytmodifierare för fibrer.

1. En specifik modul på 12,7 × 106 m eller mer, eller

2. en specifik brottgräns på 23,5 × 104 m eller mer.

b)

Fibrer eller fiberliknande material av glas som har båda följande egenskaper:

1. En specifik modul på 3,18 × 106 m eller mer och

2. en specifik brottgräns på 7,62 × 104 m eller mer.

c) Teknisk anmärkning:

Härdade hartsimpregnerade kontinuerliga garner, väv, drev eller tejp med en bredd som inte överstiger 15 mm (prepregs) tillverkad av fibrer eller fiberliknande material av kol eller glas och som specificeras i avsnitt 1C210.a eller b. Hartsen bildar kompositens matris.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

I former med ihålig cylindrisk symmetri (inklusive cylindersegment) med en inre diameter mellan 100 mm och 300 mm, och

b)

en massa större än 20 kg.

a)

Innehåller mindre än 1000 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av metalliska orenheter andra än magnesium, och

b)

innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av bor.

a)

Innehåller mindre än 200 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av metalliska orenheter andra än kalcium och

b)

innehåller mindre än 10 delar per miljon (ppm) i vikt räknat av bor.

a)

En renhetsgrad av 99,99 viktprocent eller högre, och

b)

innehåller mindre än 10 ppm (delar per miljon) i vikt räknat av silver.

a)

Metallfönster för röntgenapparater eller för apparater för borrhålsloggning.

b)

Oxidprodukter, färdigtillverkade eller halvfabrikat särskilt konstruerade för elektroniska komponentdelar eller som bärarmaterial för elektroniska kretsar.

c)

Beryl (berylliumsilikat och aluminiumsilikat) i form av smaragder eller akvamariner.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Grundform.

b)

Föreningar med en total aktivitet av 37 GBq/kg (1 Ci/kg) eller mer.

c)

Blandningar med en total aktivitet av 37 GBq/kg (1 Ci/kg) eller mer.

d)

Produkter eller apparatur som innehåller något av det föregående.

Aktinium-225 (Ac-225)

Aktinium-227 (Ac-227)

Californium-253 (Cf-253)

Curium-240 (Cm-240)

Curium-241 (Cm-241)

Curium-242 (Cm-242)

Curium-243 (Cm-243)

Curium-244 (Cm-244)

Einsteinium-253 (Es-253)

Einsteinium-254 (Es-254)

Gadolinium-148 (Gd-148)

Plutonium-236 (Pu-236)

Plutonium-238 (Pu-238)

Polonium-208 (Po-208)

Polonium-209 (Po-209)

Polonium-210 (Po-210)

Radium-223 (Ra-223)

Torium-227 (Th-227)

Torium-228 (Th-228)

Uran-230 (U-230)

Uran-232 (U-232)

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Medicinska applikatorer.

b)

Produkter eller apparatur som innehåller mindre än 0,37 GBq (10 mCi) av radium-226.

a)

Nickelpulver med båda följande egenskaper:

1. En nickelrenhet på 99,0 viktprocent eller mer, och

2. en partikelstorlek som i medeltal är mindre än 10 μm mätt enligt ASTM B330 standard.

b)

Porös nickelmetall som framställts av material som specificeras i avsnitt 1C240.a.

a)

Fiberliknande nickelpulver.

b)

Enkla porösa nickelskivor med en yta på 1000 cm2 per skiva eller mindre.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Former med ihålig cylindrisk symmetri (inklusive cylindersegment) med en inre diameter mellan 100 mm och 300 mm, och

b)

en massa större än 20 kg.

1. Tiodiglykol (111-48-8)

2. Fosforoxiklorid (10025-87-3)

3. Dimetylmetylfosfonat (756-79-6)

4. SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING för metylfosfonyldifluorid (676-99-3)

5. Metylfosfonyldiklorid (676-97-1)

6. Dimetylfosfit (DMP) (868-85-9)

7. Fosfortriklorid (7719-12-2)

8. Trimetylfosfit (TMP) (121-45-9)

9. Tionylklorid (7719-09-7)

10. 3-Hydroxi-1-metylpiperidin (3554-74-3)

11. N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylklorid (96-79-7)

12. N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetantiol (5842-07-9)

13. 1C350 3-Kinuklidinol (1619-34-7)

14. Kaliumfluorid (7789-23-3)

15. 2-Kloretanol (107-07-3)

16. Dimetylamin (124-40-3)

17. Dietyletylfosfonat (78-38-6)

18. Dietyl-N,N-dimetylfosforamidat (2404-03-7)

19. Dietylfosfit (762-04-9)

20. Dimetylaminhydroklorid (506-59-2)

21. Etyldiklorfosfin (1498-40-4)

22. Etylfosfonyldiklorid (1066-50-8)

23. SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING för etylfosfonyldifluorid (753-98-0)

24. Fluorväte (7664-39-3)

25. Metylbensilat (76-89-1)

26. Metyldiklorfosfin (676-83-5)

27. N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetanol (96-80-0)

28. Pinakolylalkohol (464-07-3)

29. SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING för O-etyl-2-diisopropylaminoetyl-metylfosfonit (QL) (57856-11-8)

30. Trietylfosfit (122-52-1)

31. Arseniktriklorid (7784-34-1)

32. Bensilsyra (76-93-7)

33. Dietylmetylfosfonit (15715-41-0)

34. Dimetyletylfosfonat (6163-75-3)

35. Etyldifluorfosfin (430-78-4)

36. Metyldifluorfosfin (753-59-3)

37. 3-Kinuklidinon (3731-38-2)

38. Fosforpentaklorid (10026-13-8)

39. Pinakolon (75-97-8)

40. Kaliumcyanid (151-50-8)

41. Kaliumvätefluorid (7789-29-9)

42. Ammoniumvätefluorid eller ammoniumbifluorid (1341-49-7)

43. Natriumfluorid (7681-49-4)

44. 1C350 Natriumvätefluorid (1333-83-1)

45. Natriumcyanid (143-33-9)

46. Trietanolamin (102-71-6)

47. Fosforpentasulfid (1314-80-3)

48. Diisopropylamin (108-18-9)

49. Dietylaminoetanol (100-37-8)

50. Natriumsulfid (1313-82-2)

51. Svavelmonoklorid (10025-67-9)

52. Svaveldiklorid (10545-99-0)

53. Trietanolaminhydroklorid (637-39-8)

54. N,N-Diisopropyl-(Beta)-aminoetylkloridhydroklorid (4261-68-1)

55. Metylfosfonsyra (993-13-5)

56. Dietylmetylfosfonat (683-08-9)

57. N,N-Dimetylfosforamidodiklorid (677-43-0)

58. Triisopropylfosfit (116-17-6)

59. Etyldietanolamin (139-87-7)

60. O,O-Dietylfosfortioat (2465-65-8)

61. O,O-Dietylfosforditioat (298-06-6)

62. Natriumhexafluorosilikat (16893-85-9)

63. Metyltiofosfonyldiklorid (676-98-2)

a)

Virus, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som isolerade levande kulturer eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1. Afrikanskt hästpestvirus

2. Afrikansk svinpestvirus

3. Andesvirus

4. Aviära influensavirus som är

4. a)

okarakteriserade eller

b)

definierade som högpatogena i bilaga I.2 till rådets direktiv 2005/94/EG (EUT L 10, 14.1.2006, s. 16) enligt följande:

1. Typ A virus med ett IVPI (intravenöst patogenitetsindex) på 6 veckor gamla kycklingar vilket är större än 1,2, eller

2. typ A virus av subtyp H5 eller H7 med en genomsekvens som kodar för flera basiska aminosyror vid hemagglutininmolekylens klyvningsställe, motsvarande den genomsekvens som har påvisats för andra HPAI-virus och som tyder på att hemagglutininmolekylen kan klyvas med hjälp av allmänt förekommande proteaser i värdcellen.

5. Blåtungevirus

6. Chaparevirus

7. Chikungunyavirus

8. Choclovirus

9. Kongo-Krim hemorragiskt febervirus

10. Denguefebervirus

11. Dobrava–Belgrade-virus

12. Östligt hästencefalitvirus

13. Ebolavirus

14. Mul- och klövsjukevirus

15. Getkoppsvirus

16. Guanaritovirus

17. Hantaanvirus

18. Hendravirus (Equint morbillivirus)

19. Herpesvirus (Aujeszkys sjukdom)

20. Klassiskt svinpestvirus

21. Japanskt encefalitvirus

22. Juninvirus

23. Kyasanur Forest-virus

24. Laguna Negra-virus

25. Lassafebervirus

26. 1C351 a) Louping ill-virus

27. Lujovirus

28. Lumpy skin desease-virus

29. Lymfocitärt koriomengit-virus

30. Machupovirus

31. Marburgvirus

32. Monkey pox-virus

33. Murray Valley-encefalitvirus

34. Newcastlesjukevirus

35. Nipahvirus

36. Omsk hemorragiskt febervirus

37. Oropouchevirus

38. Peste des petits ruminants-virus

39. Svinenterovirus typ 9 (swine vesicular disease virus)

40. Powassanvirus

41. Rabiesvirus och alla andra Lyssavirus

42. Rift Valley febervirus

43. Boskapspestvirus

44. Rociovirus

45. Sabiavirus

46. Seoulvirus

47. Fårkoppsvirus

48. Sin nombre-virus

49. St Louis-encefalitvirus

50. Teschensjukevirus

51. Fästingburet encefalitvirus (TBE) (Ryskt sommar-vår-encefalitvirus)

52. Variolavirus

53. Venezuelanskt hästencefalit-virus

54. Vesikulär stomatitvirus

55. Västligt hästencefalitvirus

56. Gula febernvirus

b)

Används inte.

c)

1C351 Bakterier, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som isolerade levande kulturer eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1. Bacillus anthracis

2. Brucella abortus

3. Brucella melitensis

4. Brucella suis

5. Burkholderia mallei (Pseudomonas mallei)

6. Burkholderia pseudomallei (Pseudomonas pseudomallei)

7. Chlamydophila psittaci (tidigare kallat Chlamydia psittaci)

8. Clostridium argentinense (tidigare kallat Clostridium botulinum typ G), stammar som producerar botulinumtoxin

9. Clostridium baratii, stammar som producerar botulinumtoxin

10. Clostridium botulinum

11. Clostridium butyricum, stammar som producerar botulinumtoxin

12. Toxinproducerande typer av Clostridium perfringens epsilon

13. Coxiella burnetii

14. Francisella tularensis

15. Mycoplasma capricolum underart capripneumoniae

16. Mycoplasma mycoides underart mycoides sc (små kolonier).

17. Rickettsia prowasecki

18. Salmonella typhi

19. Shiga-toxinproducerande Escherichia coli (STEC) i serogrupperna O26, O45, O103, O104, O111, O121, O145, O157, och andra shiga-toxinproducerande serogrupper

20. Shigella dysenteriae

21. Vibrio cholerae

22. Yersinia pestis

d)

Toxiner och toxinkomponenter, enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 1C351.d omfattar inte botulinustoxiner eller conotoxiner i form av produkter som uppfyller samtliga följande kriterier:

1. Botulinus-toxiner

2. Clostridium perfringens-toxiner av typerna alfa, beta 1, beta 2, epsilon och iota

3. Conotoxin

4. Ricin

5. Saxitoxin

6. Teknisk anmärkning:

1C351 d) Shiga-toxin Shiga-toxinproducerande Escherichia coli (STEC) är också känt som enterohemorragisk E. coli (EHEC) eller verocytotoxinproducerande E. coli (VTEC).

7. Staphylococcus aureus-enterotoxiner, hemolysin-alfatoxiner, och toxic shock syndrome toxin (tidigare känt som Staphylococcus enterotoxin F)

8. Tetrodotoxin

9. Verotoxin och shigaliknande ribosominaktiverande proteiner.

10. Mikrocystin (Cyanginosin)

11. Aflatoxiner

12. Abrin

13. Choleratoxin

14. Diacetoxyscirpenoltoxin

15. T-2-toxin

16. HT-2-toxin

17. Modeccin

18. Volkensin

19. Viscum album Lectin 1 (Viscumin)

1. Är farmaceutiska formuleringar konstruerade för behandling av sjukdomar hos människor.

2. Är förpackade för distribution som läkemedel.

3. Har godkänts av en statlig myndighet för att släppas ut på marknaden som läkemedel.

e)

Svampbildningar, oavsett om de är naturliga, förbättrade eller modifierade, antingen som isolerade levande kulturer eller som material som innehåller levande material som avsiktligt inympats eller kontaminerats med sådana kulturer, enligt följande:

1. Coccidioides immitis.

2. Coccidioides posadsii.

a)

Genetiskt modifierade organismer eller genetiska beståndsdelar som innehåller nukleinsyresekvenser förknippade med patogenitet som har sitt ursprung i organismer som specificeras i avsnitt 1C351.a, 1C351.c, 1C351.e eller 1C354.

b)

1C353 Genetiskt modifierade organismer eller genetiska beståndsdelar som innehåller nukleinsyresekvenser kodade för någon av de toxiner som specificeras i avsnitt 1C351.d eller toxinkomponenter i dessa.

1C Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning 1: Teknisk anmärkning 2: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2.3. a)

i sig själv eller genom dess transkriberade eller translaterade produkter utgör en betydande risk för människors, djurs eller växters hälsa, eller

b)

är känd för att öka förmågan hos en angiven mikroorganism, eller någon annan organism i vilken den kan införas eller på annat sätt integreras, att orsaka allvarlig skada för människors, djurs eller växters hälsa.

a)

Virus, såväl naturliga som förstärkta eller modifierade, både som isolerade levande kulturer eller som material som innehåller levande material som avsiktligt har blivit inympat eller förorenat med sådana kulturer, enligt följande:

1. Latent andeanskt potatisvirus (Potato Andean latent tymovirus).

2. Potato spindle tuber viroid.

b)

Bakterier, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av isolerade levande kulturer eller som material som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:

1. Xanthomonas albilineans.

2. Xanthomonas axonopodis pv. citri (Xanthomonas campestris pv. citri A) [Xanthomonas campestris pv. citri].

3. Xanthomonas oryzae pv. oryzae (Pseudomonas campestris pv. oryzae).

4. Clavibacter michiganensis subsp. sepedonicus (Corynebacterium michiganensis subsp. sepedonicum eller Corynebacterium sepedonicum).

5. Ralstonia solanacearum, ras 3, biovar 2.

c)

Svampar, naturliga, förstärkta eller modifierade, antingen i form av isolerade levande kulturer eller som material som avsiktligt har blivit inympade eller förorenade med sådana kulturer, enligt följande:

1. Colletotrichum kahawae (Colletotrichum coffeanum var. virulans)

2. Cochliobolus miyabeanus (Helminthosporium oryzae).

3. Microcyclus ulei (syn. Dothidella ulei).

4. Puccinia graminis ssp. graminis var. graminis / Puccinia graminis ssp. graminis var. stakmanii (Puccinia graminis [syn. Puccinia graminis f. sp. tritici])

5. 1C354 c) Puccinia striiformis (syn. Puccinia glumarum).

6. Magnaporthe oryzae (Pyricularia oryzae)

7. Peronosclerospora philippinensis (Peronosclerospora sacchari)

8. Sclerophthora rayssiae var. zeae

9. Synchytrium endobioticium

10. Tilletia indica

11. Thecaphora solani

a)

Giftiga kemikalier enligt följande: Anmärkning 1: För export till stater som inte är parter i konventionen om kemiska vapen omfattar avsnitt 1C450 inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C450.a.1 och a.2 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 1 viktprocent av blandningen. Anmärkning 2: För export till stater som är parter i konventionen om kemiska vapen omfattar avsnitt 1C450 inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C450.a.1 och a.2 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. Anmärkning 3: Avsnitt 1C450 omfattar inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C450.a.4, a.5, a.6 och a.7 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. Anmärkning 4: Avsnitt 1C450 omfattar inte produkter som identifieras som konsumentvaror förpackade för detaljhandelsförsäljning för personligt bruk eller förpackade för enskilt bruk.

1. Amiton: O,O-dietyl S-[2-(dietylamino)etyl] fosforotiolat (78-53-5) och motsvarande alkylerade eller protonerade salter.

2. PFIB: PFIB: 1,1,3,3,3-pentafluor-2-(trifluormetyl)-1-propen (382-21-8).

3. SE KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING för BZ: 3-kinuklidinylbensilat (6581-06–2).

4. Fosgen karbonyldiklorid (75-44-5).

5. Cyanklorid (506-77-4).

6. Vätecyanid (74-90-8).

7. Klorpikrin: triklornitrometan (76-06-2).

b)

Giftiga kemiska prekursorer enligt följande: Anmärkning 1: För export till stater som inte är parter i konventionen om kemiska vapen omfattar avsnitt 1C450 inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C450.b.1, b.2, b.3, b.4, b.5 och b.6 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 10 viktprocent av blandningen. Anmärkning 2: För export till stater som är parter i konventionen om kemiska vapen omfattar avsnitt 1C450 inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C450.b.1, b.2, b.3, b.4, b.5 och b.6 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. Anmärkning 3: 1C450 omfattar inte kemiska blandningar som innehåller en eller flera av de kemikalier som specificeras i avsnitt 1C450.b.8 i vilka ingen individuellt specificerad kemikalie utgör mer än 30 viktprocent av blandningen. Anmärkning 4: Avsnitt 1C450 omfattar inte produkter som identifieras som konsumentvaror förpackade för detaljhandelsförsäljning för personligt bruk eller förpackade för enskilt bruk.

1. Kemikalier, andra än de som specificeras i kontrollbestämmelserna för varor med militär användning eller i avsnitt 1C350, som innehåller en fosforatom till vilken är bunden en metyl-, etyl- eller propyl-(normal eller iso) grupp men inga ytterligare kolatomer. Anmärkning: Avsnitt 1C450.b.1 omfattar inte fonofos: O etyl S fenyletylfosfonotiolotionat (944-22-9)

2. 1C450 b) N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] fosforamidodihalider, andra än N,N-dimetylfosforamidodiklorid. ANM.: Se avsnitt 1C350.57 för N,N-dimetylfosforamidodiklorid.

3. Dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso-)] N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)]-fosforamidater, andra än dietyl-N,N-dimetylfosforamidat, som specificeras i avsnitt 1C350.

4. N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetyl-2-klorider och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylklorid eller N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetylkloridhydroklorid, som specificeras i avsnitt 1C350.

5. N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetan-2-oler och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetanol (96-80-0) och N,N-dietylaminoetanol (100-37-8), som specificeras i avsnitt 1C350. Anmärkning: Avsnitt 1C450.b.5 omfattar inte följande:

5. a)

N,N-dimetylaminoetanol (108-01-0) och motsvarande protonerade salter.

b)

Protonerade salter av N,N-dietylaminoetanol (100-37-8).

6. N,N-dialkyl [metyl, etyl eller propyl (normal eller iso)] aminoetan-2-tioler och motsvarande protonerade salter, andra än N,N-diisopropyl-(beta)-aminoetantiol, som specificeras i avsnitt 1C350.

7. Se avsnitt 1C350 när det gäller etyldietanolamin (139-87-7).

8. Metyldietanolamin (105-59-9).

1D Programvara 1D001 Programvara som är särskilt utformad eller modifierad för utveckling, produktion eller användning av utrustning som specificeras i avsnitten 1B001-1B003. 1D002 Programvara för utveckling av organiska matriser, metall-matriser, kol-matris-laminat eller kompositer. 1D003 Programvara som är särskilt utformad eller modifierad för att utrustning ska kunna utföra de funktioner som utförs av utrustning som specificeras i avsnitt 1A004.c eller 1A004.d. 1D101 Programvara som är särskilt utformad eller modifierad för drift eller underhåll av produkter som specificeras i avsnitt 1B101, 1B102, 1B115, 1B117, 1B118 eller 1B119. 1D103 Programvara som är speciellt utformad för analys av signaturanpassning avseende t.ex. radarreflektioner, ultravioletta/infraröda signaturer och akustiska signaturer. 1D201 Programvara som är särskilt utformad för användning av produkter som specificeras i avsnitt 1B201.

1E Teknik 1E001 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling eller produktion av utrustning eller material som specificeras i avsnitt 1A001.b, 1A001.c, 1A002-1A005, 1A006.b, 1A007, 1B eller 1C. 1E002 Annan teknik enligt följande: 1E101 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för användning av varor som specificeras i avsnitt 1A102, 1B001, 1B101, 1B102, 1B115-1B119, 1C001, 1C101, 1C107, 1C111-1C118, 1D101 eller 1D103. 1E102 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling av programvara som specificeras i avsnitt 1D001, 1D101 eller 1D103. 1E103 Teknik för reglering av temperatur, tryck eller atmosfär i autoklaver eller hydroklaver när dessa används för produktion av kompositer eller delvis bearbetade kompositer. 1E104 Teknik för produktion av pyrolytiskt erhållet material på en form, dorn eller annat underlag från prekursorgaser som bryts ner inom temperaturintervallet 1573 K (1300 °C) till 3173 K (2900 °C) och ett tryck mellan 130 Pa och 20 kPa. Anmärkning: Avsnitt 1E104 inbegriper teknik för bildandet av prekursorgaser, bestämning av flödeshastigheter och processkontrollscheman och parametrar. 1E201 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för användning av varor som specificeras i avsnitt 1A002, 1A007, 1A202, 1A225-1A227, 1B201, 1B225-1B234, 1C002.b.3 eller b.4, 1C010.b, 1C202, 1C210, 1C216, 1C225-1C241 eller 1D201. 1E202 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling eller produktion av varor som specificeras i avsnitt 1A007, 1A202 eller 1A225-1A227. 1E203 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling av programvara som specificeras i avsnitt 1D201.

1E a)

Teknik för utveckling eller produktion av polybensotiazoler eller polybensooxazoler.

b)

Teknik för utveckling eller produktion av fluorelastomerföreningar som innehåller åtminstone en vinyletermonomer.

c)

Teknik för konstruktion eller produktion av följande basmaterial eller keramiska material som inte är kompositer:

1. Basmaterial som har alla följande egenskaper:

1. a)

Någon av följande sammansättningar:

1. Enkla eller komplexa oxider av zirkonium och komplexa oxider av kisel eller aluminium,

2. enkla bornitrider (kubisk kristallinsk form),

3. enkla eller komplexa kisel- eller borkarbider, eller

4. enkla eller komplexa kiselnitrider.

b)

Någon av följande totala metalliska föroreningar (exklusive avsiktliga tillsatser):

1. Mindre än 1000 ppm för enkla oxider eller karbider, eller

2. mindre än 5000 ppm för komplexa föreningar eller enkla nitrider.

c)

Som är något av följande:

1. Zirkonium (CAS 1314-23-4) där den genomsnittliga partikelstorleken är högst 1 μm och högst 10 % av partiklarna är större än 5 μm.

2. Andra basmaterial där den genomsnittliga partikelstorleken är högst 5 μm och högst 10 % av partiklarna är större än 10 μm, eller

3. Har samtliga följande egenskaper:

3. a)

Partiklar med ett förhållande mellan längd och tjocklek som är större än 5,

b)

trådar med ett förhållande mellan längd och diameter som är större än 10 för diametrar som är mindre än 2 μm, och

c)

kontinuerliga eller avskurna fibrer som har en diameter som är mindre än 10 μm.

2. Keramiska material som inte är kompositer sammansatta av material som specificeras i avsnitt 1E002.c.1. Anmärkning: Avsnitt 1E002.c.2. omfattar inte teknik för att konstruera eller producera slipmedel.

d)

Teknik för produktion av fibrer gjorda av aromatiska polyamider.

e)

1E002 Teknik för installation, underhåll eller reparation av material som specificeras i avsnitt 1C001.

f)

Teknik för reparation av kompositstrukturer, laminat eller material som specificeras i avsnitt 1A002, 1C007.c eller 1C007.d. Anmärkning: Avsnitt 1E002.f omfattar inte teknik för reparation av civila luftfartyg med hjälp av material som innehåller kol-fibrer eller fiberliknande material samt epoxiharts, och som beskrivs i flygplantillverkarens manualer.

g) Teknisk anmärkning:

Bibliotek (parametriserade tekniska databaser) som är särskilt utformade eller modifierade för att utrustning ska kunna utföra de funktioner som utförs av utrustning som specificeras i avsnitt 1A004.c eller 1A004.d. I avsnitt 1E002.g avses med bibliotek (parametriserad teknisk databas) en samling teknisk information med vars hjälp den berörda utrustningens eller de berörda systemens prestanda kan förbättras.

KATEGORI 2 MATERIALBEARBETNING

2A Teknisk anmärkning:

System, utrustning och komponenter ANM.: För tystgående lager, se kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. 2A001 Lager och lagersystem med låg friktion, enligt följande, samt komponenter härtill: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2A101. Anmärkning: Avsnitt 2A001 omfattar inte kulor med toleranser som har specificerats av tillverkaren i enlighet med ISO 3290 som grad 5 eller sämre. 2A101 Andra radialkullager än dem som specificeras i avsnitt 2A001, förutsatt att de har alla toleranser specificerade i enlighet med ISO 492 toleransklass 2 (eller ANSI/ABMA Std 20 toleransklass ABEC-9 eller andra nationella motsvarigheter) eller bättre och har alla följande egenskaper: 2A225 Smältdeglar tillverkade av material som är resistenta mot flytande aktinidmetaller, enligt följande: 2A226 Ventiler som har alla följande egenskaper: För ventiler med olika in- och utloppsdiametrar avser den nominella storleken i avsnitt 2A226 den minsta diametern.

2A a)

Kullager och massiva rullager, alla med toleranser som har specificerats av tillverkaren i enlighet med ISO 492 toleransklass 4 (eller nationella motsvarigheter) eller bättre, och där både ringar och rullkroppar (ISO 5593), är tillverkade av monel eller beryllium. Anmärkning: Avsnitt 2A001.a omfattar inte koniska rullager.

b)

2A001 Används inte.

c)

Aktiva magnetiska lagersystem som använder något av följande:

1. Material med en flödestäthet på 2,0 T eller mer och en sträckgräns som överstiger 414 MPa.

2. Helt elektromagnetisk tredimensionell likpolig manövrering av förspänningen.

3. Högtemperatursensorer för positionering (450 K (177 °C) eller högre).

a)

En innerring med en håldiameter av mellan 12 mm och 50 mm.

b)

En ytterring med en ytterdiameter på mellan 25 mm och 100 mm.

c)

Dessutom en bredd på mellan 10 mm och 20 mm.

a)

Smältdeglar som har följande två egenskaper:

1. En volym mellan 150 cm3 och 8000 cm3, och

2. tillverkade av eller belagda med något av följande material, eller en kombination av följande material, med en total orenhetsgrad på högst 2 viktprocent:

2. a)

Kalciumfluorid (CaF2).

b)

Kalciumzirkonat (metazirkonat) (CaZrO3).

c)

Ceriumsulfid (Ce2S3).

d)

Erbiumoxid (erbia) (Er2O3).

e)

Hafniumoxid (hafnia) (HfO2).

f)

Magnesiumoxid (MgO).

g)

Nitrerade niob-titan-volframlegeringar (ca 50 % Nb, 30 % Ti, 20 % W).

h)

Yttriumoxid (yttria) (Y2O3).

i)

Zirkoniumoxid (zirconia) (ZrO2).

b)

Smältdeglar som har följande två egenskaper:

1. En volym mellan 50 cm3 och 2000 cm3, och

2. tillverkade av eller fodrade med tantal som har en renhet av 99,9 viktprocent eller högre.

c)

Smältdeglar som har alla följande egenskaper:

1. En volym mellan 50 cm3 och 2000 cm3,

2. tillverkade av eller fodrade med tantal som har en renhet av 98 viktprocent eller högre och

3. belagda med tantalkarbid, -nitrid eller -borid (eller någon kombination därav).

a)

En nominell storlek av 5 mm eller mer,

b)

med bälgtätning och

c)

helt tillverkade av eller fodrade med aluminium, aluminiumlegering, nickel eller nickellegering som innehåller mer än 60 viktprocent nickel.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2.

Test-, inspektions- och produktionsutrustning Sekundära parallella konturskapande axlar, (t.ex. w-axeln i en horisontell arborrmaskin eller en sekundär roterande axel vars centrumlinje är parallell med den primära roterande axeln), ska inte räknas in i det totala antalet konturskapande axlar. Roterande axlar behöver inte kunna vridas 360°. En roterande axel kan drivas av en linjär axel (t.ex. en skruv eller en kuggstångsväxel). I avsnitt 2B är det antal axlar som kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning lika med det antal axlar längs eller runt vilka, under bearbetningen av arbetsstycket, samtidiga och inbördes relaterade rörelser sker mellan arbetsstycket och ett verktyg. Hit räknas inte några ytterligare axlar längs eller runt vilka annan inbördes rörelse i maskinen sker, såsom Nomenklaturen för axlarna ska vara i överensstämmelse med Internationell Standard ISO 841, Numerical Control Machines – Axis and Motion Nomenclature. I avsnitten 2B001-2B009 ska en tippbar spindel räknas som en roterande axel. Angiven positioneringsnoggrannhet som härrör från mätningar enligt ISO 230/2 eller nationella motsvarigheter får användas för varje verktygsmaskinmodell som ett alternativ till individuella maskintester. Angiven positioneringsnoggrannhet är det noggrannhetsvärde som lämnas till de behöriga myndigheterna i den medlemsstat där exportören är etablerad som representativt för en specifik maskinmodells noggrannhet. Bestämning av angiven positioneringsnoggrannhet: I samband med avsnitten 2B001.a–2B001.c ska mätosäkerheten för verktygsmaskinernas positioneringsnoggrannhet enligt definitionen i International Standard ISO 230/2 (2006) eller motsvarande nationell standard, inte beaktas. 2B001 Verktygsmaskiner och alla kombinationer av dessa, för bearbetning av metaller, keramer eller kompositer, som, i enlighet med tillverkarens tekniska specifikation, kan utrustas med elektronisk utrustning för numerisk styrning, enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B201. Anmärkning 1: Avsnitt 2B001 omfattar inte verktygsmaskiner för särskilda ändamål som endast är avsedda för tillverkning av kuggar. Se avsnitt 2B003 för sådana maskiner. Anmärkning 2: Avsnitt 2B001 omfattar inte verktygsmaskiner för särskilda ändamål som enbart är avsedda för tillverkning av något av följande: Anmärkning 3: En verktygsmaskin som klarar minst två av de tre funktionerna svarvning, fräsning och slipning (t.ex. en svarv med fräsningsfunktion), ska bedömas efter vart och ett av de relevanta avsnitten 2B001.a, 2B001.b eller 2B001.c. ANM.: För maskiner för optisk slutbearbetning, se avsnitt 2B002. 2B002 Numeriskt styrda verktygsmaskiner för optisk slutbearbetning, utrustade för selektivt borttagande av material för att producera icke-sfäriska optiska ytor med samtliga följande egenskaper: I avsnitt 2B002 avses med 2B003 Manuellt eller numeriskt styrda verktygsmaskiner, och speciellt konstruerade komponenter, styrutrustningar och tillbehör för dem, speciellt konstruerade för skärning, finslipning, polering eller hening av härdade (Rockwell = 40 eller mer) spår, spiralskurna och dubbelspiralskurna kugghjul med en delningsdiameter som är större än 1250 mm och med en kuggbredd som är minst 15 % av delningsdiametern, och som har bearbetats till en kvalitet av AGMA 14 eller bättre (motsvarande ISO 1328 klass 3). 2B004 Varma isostatiska pressar som har alla följande egenskaper samt till dessa speciellt konstruerade komponenter och tillbehör: ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 2B104 och 2B204. Med kammarens innerdiameter avses den del av kammaren där arbetstemperatur och -tryck kan hållas. I diametern ska inte inräknas utrymme för lasthållare. Innerdiametern är den mindre av tryckkammarens eller den isolerade ugnskammarens, beroende på vilken av de två som är placerad i den andra. ANM.: För speciellt konstruerade kapslar, formar och verktyg, se avsnitten 1B003 och 9B009 samt kontrollbestämmelserna för varor med militär användning. 2B005 Följande utrustning, som är speciellt konstruerad för utfällning, behandling och styrning under behandlingen av oorganiska beläggningar, ytbeläggningar och ytförändringsbeläggningar, för substrat för icke-elektronisk användning, med de processer som beskrivs i tabellen med tillhörande anmärkningar efter avsnitt 2E003.f, samt speciellt konstruerad utrustning till denna för automatisk hantering, positionering, manövrering och styrning: Anmärkning: Avsnitt 2B005 omfattar inte utrustning för kemisk förångningsdeponering, katodstråle, sputtering, jonplätering eller joninplantation speciellt konstruerad för skärande och bearbetande verktyg. 2B006 Mät- eller inspektionssystem, utrustning och elektroniska sammansättningar enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B206. Anmärkning: 2B006 inkluderar andra verktygsmaskiner än dem som specificeras i 2B001, förutsatt att de kan användas som mät- eller avsyningsmaskiner och uppfyller eller överskrider de kriterier som anges för mät- och avsyningsmaskiner. 2B007 Robotar som har någon av följande egenskaper samt därtill hörande särskilt konstruerade styrsystem och manipulatorer: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B207. 2B008 Sammansättningar eller enheter som är särskilt konstruerade för verktygsmaskiner eller mät- och inspektionsutrustning och -system, enligt följande: Anmärkning: 2B008.a och 2B008.b omfattar enheter som är konstruerade för att fastställa positioneringsinformation för återkopplingskontroll, såsom induktiva enheter, graderade skalor, infraröda system eller lasermätsystem. 2B009 Maskiner för trycksvarvning och maskiner för tryckvalsning vilka enligt tillverkarens tekniska specifikation kan utrustas med numeriska styrenheter eller en datorkontroll och som har alla följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITTEN 2B109 OCH 2B209. I avsnitt 2B009 ska maskiner som kombinerar trycksvarvning och tryckvalsning betraktas som maskiner för tryckvalsning. 2B104 Isostatiska pressar, andra än de som specificeras i avsnitt 2B004, med samtliga följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B204. 2B105 Ugnar för kemisk förångningsdeposition (CVD), andra än de som specificeras i avsnitt 2B005.a, som är konstruerade eller modifierade för förtätning av kol-kol-kompositer. 2B109 Maskiner för tryckvalsning, andra än de som specificeras i avsnitt 2B009, och särskilt konstruerade komponenter enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B209. Anmärkning: Avsnitt 2B109 omfattar inte maskiner som inte kan användas för produktion av framdrivningskomponenter och -utrustning (t.ex. motorhus) i de system som specificeras i avsnitt 9A005, 9A007.a eller 9A105.a. Maskiner som kombinerar trycksvarvning och tryckvalsning ska i avsnitt 2B109 betraktas som maskiner för tryckvalsning. 2B116 Vibrationsprovsystem med därtill hörande utrustning och komponenter, enligt följande: Med obelastat bord avses i avsnitt 2B116 ett arbetsbord eller yta utan fixtur eller fastspänningsanordningar. 2B117 Utrustning och processregleringssystem, andra än de som specificeras i avsnitt 2B004, 2B005.a, 2B104 eller 2B105, som konstruerats eller modifierats för förtätning och pyrolys av raketdysor och nosspetsar på farkoster för återinträde i jordatmosfären. 2B119 Balanseringsmaskiner och tillhörande utrustning enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B219. 2B120 Rörelsesimulatorer eller vridbara bord med samtliga följande egenskaper: Anmärkning 1: Avsnitt 2B120 omfattar inte vridbara bord som är konstruerade eller modifierade för verktygsmaskiner eller för medicinsk utrustning. Vridbara bord för verktygsmaskiner omfattas av avsnitt 2B008. Anmärkning 2: Rörelsesimulatorer eller vridbara bord som specificeras i avsnitt 2B120 omfattas oavsett om släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar är monterade eller ej vid tidpunkten för exporten. 2B121 Positioneringsbord (utrustning med möjlighet till exakt rotationspositionering i var och en av axlarna), andra än de som specificeras i avsnitt 2B120, med samtliga följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 2B121 omfattar inte vridbara bord som är konstruerade eller modifierade för verktygsmaskiner eller för medicinsk utrustning. Vridbara bord för verktygsmaskiner omfattas av avsnitt 2B008. 2B122 Centrifuger som kan åstadkomma accelerationer på mer än 100 g och som är konstruerade eller modifierade för att innehålla släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar som kan överföra elkraft, signalinformation eller båda delarna. Anmärkning: Centrifuger som anges i avsnitt 2B122 omfattas oavsett om släpringar eller kontaktfria anordningar är monterade eller ej vid tidpunkten för exporten. 2B201 Verktygsmaskiner och alla kombinationer av dessa, andra än de som specificeras i avsnitt 2B001, enligt följande, för avlägsnande eller fräsning av metaller, keramer eller kompositer som enligt tillverkarens tekniska specifikationer kan utrustas med elektronisk styrning för simultan styrning av minst två axlar för att uppnå konturstyrning: Anmärkning 1: Avsnitt 2B201 omfattar inte verktygsmaskiner för särskilda ändamål som endast är avsedda för tillverkning av någon av följande delar: Anmärkning 2: En verktygsmaskin som klarar minst två av de tre funktionerna svarvning, fräsning och slipning (t.ex. en svarv med fräsningsfunktion) ska bedömas efter vart och ett av de relevanta avsnitten 2B001.a, 2B201.a eller 2B201.b. 2B204 Isostatiska pressar, andra än de som specificeras i avsnitt 2B004 eller 2B104, och tillhörande utrustning enligt följande: I avsnitt 2B204 avses med innerdiameter den del av arbetskammaren där arbetstemperatur och -tryck kan hållas. I diametern ska inte inräknas utrymme för lasthållare. Innerdiametern är den mindre av tryckkammarens eller den isolerade ugnskammarens, beroende på vilken av de två som är placerad i den andra. 2B206 Mät- och inspektionsutrustning, andra än de som specificeras i avsnitt 2B006, enligt följande: Anmärkning 1: Verktygsmaskiner som kan användas som mät- eller avsyningsmaskiner ska kontrolleras om de motsvarar eller överskrider kriterierna för verktygsmaskiner eller mät- och avsyningsmaskiner. Anmärkning 2: En maskin som specificeras i avsnitt 2B206 omfattas om den överstiger angivna parametrar någonstans inom sitt arbetsområde. Alla parametrar för mätvärden enligt avsnitt 2B206 motsvarar plus/minus, dvs. inte hela bandet. 2B207 Robotar, manipulatorer och styrsystem som inte specificeras i avsnitt 2B007, enligt följande: 2B209 Maskiner för tryckvalsning, maskiner för trycksvarvning med tryckvalsande funktioner, andra än de som specificeras i avsnitt 2B009 eller 2B109, och dorn enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 2B209.a omfattar maskiner som endast har en rulle för att deformera metallen plus två extra rullar som understöder dornen men som inte direkt deltar i processen. 2B219 Maskiner för centrifugalbalansering i flera plan, stationära eller portabla, horisontella eller vertikala, enligt följande: 2B225 Fjärrstyrda manipulatorer som överför fjärrstyrd mekanisk rörelse vid radiokemisk separation eller i s.k. hot cells, som har någon av följande egenskaper: Fjärrstyrda manipulatorer överför en mänsklig operatörs handlande till en fjärrstyrd arbetande arm med ett avslutande verktyg. Överföringen kan vara av master-slave-typ eller styrd av styrpinne (joystick) eller knappsats. 2B226 Induktionsugnar med kontrollerad atmosfär (genom vakuum eller inert gas) och kraftförsörjning till dessa enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 3B. Anmärkning: Avsnitt 2B226.a omfattar inte ugnar konstruerade för behandling av halvledarwafers. 2B227 Vakuumkontrollerade eller andra ugnar med kontrollerad atmosfär för smältning och gjutning av metall och därtill hörande utrustning enligt följande: 2B228 Utrustning för tillverkning, sammansättning och upplinjering av rotorer för gascentrifuger, bälgformande dorn och formar enligt följande: 2B230 Alla typer av tryckgivare som kan mäta absolut tryck och som har alla följande egenskaper: Med tryckgivare avses i avsnitt 2B230 en enhet som omvandlar tryckmätningar till en signal. Med noggrannhet avses i avsnitt 2B230 ett värde som innefattar icke-linjäritet, hysteres och repeterbarhet vid omgivningstemperaturen. 2B231 Vakuumpumpar som har alla följande egenskaper: Pumphastigheten bestäms vid mätpunkten med kväve eller luft. Slutvakuumet bestäms i pumpens ingång med pumpens inlopp blockerat. 2B232 Höghastighetskanonsystem (drivmedel, gas, coil-gun, elektromagnetiska och elektrotermiska typer och andra avancerade system) som kan accelerera projektiler till 1,5 km/s eller mer. ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. 2B233 Bälgtätade kompressorer av scrolltyp och bälgtätade vakuumpumpar av scrolltyp med alla följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B350.i. 2B350 Hjälpmedel, utrustning och komponenter för kemisk tillverkning enligt följande: Anmärkning: I avsnitt 2B350 ska inte det material som används för tätningar, packningar, skruvar, tätningsbrickor eller andra material som används för tätning avgöra kontrollstatusen, förutsatt att dessa komponenter är konstruerade för att vara utbytbara. Kolgrafit är en sammansättning som består av amorft kol och grafit, där grafitinnehållet är åtta viktprocent eller mer. För materialen i förteckningarna ovan avses med termen legering, när det inte anges någon specifik koncentration av någon beståndsdel, de legeringar i vilka den identifierade metallen förekommer i en högre viktprocentandel än någon annan beståndsdel. 2B351 Övervakningssystem för giftig gas och för dem avsedda detekteringskomponenter, andra än de som specificeras i avsnitt 1A004, enligt följande, samt detektorer, sensoranordningar och ersättningsbara sensorpatroner 2B352 Utrustning som kan användas vid hantering av biologiska material, enligt följande:

2B Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

avrivningssystem för slipmaskiner,

b)

parallella roterande axlar konstruerade för upphängning av separata arbetsstycken,

c)

kolinjära roterande axlar konstruerade för hantering av samma arbetsstycke genom att detta hålls fast från olika håll i en chuck.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5. a)

Välj ut fem maskiner av en modell som ska få ett värde.

b)

Mät linjära axelns noggrannhet enligt ISO 230/2.

c)

Bestäm A-värdena för varje axel på varje maskin. Hur A-värdet räknas ut beskrivs i ISO-standarden.

d)

Bestäm A-värdenas medelvärde för varje axel. Detta medelvärde  blir det angivna värdet för varje axel på denna modell (Âx, Ây, osv.).

e)

Eftersom kategori 2-förteckningen hänför sig till varje linjär axel kommer det att finnas lika många angivna värden som linjära axlar.

f)

Om någon axel på en maskinmodell som inte omfattas av avsnitt 2B001.a–2B001.c eller 2B201 har en angiven noggrannhet  som är lika med eller mindre än den angivna positioneringsnoggrannheten för varje verktygsmaskinmodell plus 2 μm, bör man kräva att tillverkaren bekräftar noggrannhetsnivån en gång var 18:e månad.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. a)

Kam- eller vevaxlar.

b)

Verktyg eller fräsar.

c)

Matarskruvar.

d)

Graverade eller slipade delar av smycken.

e)

Tandproteser.

a)

Verktygsmaskiner för svarvning som uppfyller följande: Anmärkning: Avsnitt 2B001.a omfattar inte svarvar speciellt konstruerade för att producera kontaktlinser, som uppfyller följande:

1. Positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 3,0 μm enligt ISO 230/2 (2006) eller nationella motsvarigheter längs med en eller flera linjära axlar, och

2. två eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning.

a)

Maskinstyrningen är begränsad till användning av oftalmologiskt baserad programvara för delprogrammering av indata och

b)

vacuumchuck saknas.

b)

Verktygsmaskiner för fräsning som uppfyller något av följande:

1. Har alla följande egenskaper:

1. a)

Positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 3,0 μm enligt ISO 230/2 2006) eller nationella motsvarigheter längs med en eller flera linjära axlar och

b)

tre linjära axlar plus en roterande axel kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning.

2. Fem eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning med något av följande: ANM.: Verktygsmaskiner med parallellmekanism specificeras i avsnitt 2B001.b.2.d.

2. a)

Positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 3,0 μm enligt ISO 230/2 (2006) eller nationella motsvarigheter längs med en eller flera linjära axlar med en förflyttning på mindre än 1 m,

b)

2B001 b) 2. positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 4,5 μm enligt ISO 230/2 (2006) eller nationella motsvarigheter längs med en eller flera linjära axlar med en förflyttning på minst 1 meter och mindre än 2 m,

c)

positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 4,5 + 7(L-2) μm (där L är förflyttningen i meter) enligt ISO 230/2 (2006) eller nationella motsvarigheter längs med en eller flera linjära axlar med en förflyttning på 2 meter eller mer, eller

d) Teknisk anmärkning:

det är en verktygsmaskin med parallellmekanism. En verktygsmaskin med parallellmekanism är en verktygsmaskin med flera armar som är kopplade till en plattform och ett styrdon; varje styrdon driver respektive arm simultant och oberoende av varandra.

3. Positioneringsnoggrannheten för jiggborrmaskiner med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 3,0 μm enligt ISO 230/2 (2006) eller nationella motsvarigheter längs med en eller flera linjära axlar.

4. Kuggbearbetningsmaskiner som uppfyller följande:

4. a)

Spindelns axialkast och radialkast är mindre (bättre) än 0,0004 mm (TIR), och

b)

slidens vinkelfel (gir, lutning, roll) är mindre (bättre) än 2 bågsekunder (TIR) över 300 mm rörelse.

c)

Verktygsmaskiner för slipning som uppfyller något av följande: Anmärkning: Avsnitt 2B001.c omfattar inte slipmaskiner enligt följande:

1. Har alla följande egenskaper:

1. a)

Positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 3 μm enligt ISO 230/2 2006) eller nationella motsvarigheter längs med en eller flera linjära axlar och

b)

tre eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning.

2. Fem eller flera axlar kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning.

a)

Rundslipmaskiner för invändig, utvändig eller kombinerad invändig och utvändig slipning som uppfyller följande:

1. Begränsade till cylindrisk slipning och

2. begränsade till ett arbetsstycke som är högst 150 mm i ytterdiameter eller längd.

b)

Maskiner speciellt konstruerade som jiggslipmaskiner som inte har någon z-axel eller w-axel och vars positioneringsnoggrannhet med alla tillgängliga kompensationer är mindre (bättre) än 3,0 μm enligt ISO 230/2 (2006) eller nationella motsvarigheter.

c)

Planslipmaskiner.

d)

Trådlös elektrisk gnistbearbetningsmaskin (EDM) som har två eller flera roterande axlar som kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning.

e)

2B001 Verktygsmaskiner för borttagning av metaller, keramer eller kompositer som uppfyller följande:

1. Borttagning av material med hjälp av

1. a)

vatten eller andra sprutade vätskor, inklusive sådana som innehåller slipmedelstillsatser,

b)

elektronstrålar eller

c)

laserstråle och

2. som har minst två roterande axlar som både

2. a)

kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning, och

b)

har en positioneringsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 0,003°.

f)

Långhålsborrmaskiner och svarvar som är modifierade för långhålsborrning, som har en borrkapacitet som är större än 5 m.

a)

Slutbearbetar formen till mindre (bättre) än 1,0 μm.

b)

Slutbearbetar till en ojämnhet som är mindre (bättre) än 100 nm rms.

c)

Minst fyra axlar som kan styras samtidigt för konturstyrning.

d)

Använder någon av följande processer:

1. Magnetreologisk slutbearbetning (MRF).

2. Elektroreologisk slutbearbetning (ERF).

3. Slutbearbetning med energirik partikelstråle.

4. Slutbearbetning med tänjbart membran.

5. Slutbearbetning med vätskestråle.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar:

1. MRF: borttagande av material med hjälp av en magnetisk slipvätska vars viskositet styrs av ett magnetfält,

2. ERF: borttagande med hjälp av en slipvätska vars viskositet styrs av ett elektriskt fält,

3. slutbearbetning med energirik partikelstråle: användning av RAP (Reactive Atom Plasmas) eller jonstrålar för selektivt borttagande av material,

4. Slutbearbetning med tänjbart membran: en process som använder ett membran som utsätts för tryck och ändrar form för att komma i kontakt med arbetsstycket över en liten area.

5. Slutbearbetning med vätskestråle: användning av en vätskeström för borttagning av material.

a)

En kontrollerad termisk omgivning i slutet utrymme och ett kammarutrymme med en innerdiameter på minst 406 mm och

b)

som har antingen

1. ett maximalt arbetstryck som överstiger 207 MPa,

2. en kontrollerad termisk omgivning som överstiger 1773 K (1500 °C), eller

3. en anordning för kolväteimpregnering och för bortforsling av uppkomna restgaser.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: a)

Utrustning för produktion med kemisk förångningsdeponering (CVD) som har alla följande angivna egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 2B105.

1. En process som är modifierad till en av följande typer:

1. a)

Pulserande CVD,

b)

styrd nukleär termisk deponering (CNTD, Controlled nucleation thermal deposition), eller

c)

plasmaförstärkt eller plasmaassisterad CVD och

2. något av följande:

2. a)

Fast monterade roterande högvakuumtätningar (tryck lika med eller mindre än 0,01 Pa) eller

b)

fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt.

b)

Produktionsutrustning för jonimplantation som kan leverera 5 mA eller mera i jonstrålen.

c)

Produktionsutrustning för fysisk elektronstråleförångning (EB-PVD) med en systemeffekt specificerad till att överstiga 80 kW och som innefattar något av följande:

1. Vätskenivåkontroll med hjälp av ett laser-assisterat mätsystem som med precision kan styra inmatningen av götet, eller

2. en datorkontrollerad matningshastighet som övervakas med bildskärmar som arbetar med principen att genom luminiscens från de joniserade atomerna i förångningsstrålen mäta beläggninghastigheten för beläggningar som innehåller två eller flera beståndsdelar.

d)

2B005 Produktionsutrustning för plasmasprutning med något av följande:

1. Arbetar med styrd och reducerad atmosfär (lika med eller mindre än 10 kPa mätt ovanför och inom ett avstånd av 300 mm från strålkanonens munstycke) i en vakuumkammare, där trycket före plasmasprutningen kan sänkas ner till 0,01 Pa, eller

2. innehåller fast monterad utrustning för mätning eller styrning av tjockleken av pålagt skikt.

e)

Produktionsutrustning för sputtering som kan avge strömtätheter på minst 0,1 mA/mm2 vid en förångningshastighet på minst 15 μm/tim.

f)

Produktionsutrustning för katodstrålebeläggning med hjälp av en utrustning som innehåller ett galler bestående av elektromagneter för att styra strålningspunkten på katoden.

g)

Produktionsutrustning för jonplätering kapabel till in situ-mätning av någon av följande parametrar:

1. Tjocklek på substratet och matningshastighet, eller

2. optiska egenskaper.

a) Teknisk anmärkning:

Datorstyrda eller numeriskt styrda koordinatmätmaskiner (CMM) som har en tredimensionell (volymetrisk) maximal tillåten längdmåttsavvikelse (E0,MPE) vid varje punkt inom maskinens arbetsområde (dvs. inom axellängden) som är lika med eller mindre (bättre) än (1,7 + L/1000) μm (L är den uppmätta längden i mm), enligt ISO 10360–2 (2009). E0,MPE för den mest noggranna konfigurationen av CMM enligt tillverkarens specifikation (t.ex. bäst av följande: prob, mätstiftslängd, rörelseparametrar, omgivning) och med alla tillgängliga kompensationer ska jämföras med tröskeln på 1,7+L/1000 μm.

b)

Mätinstrument för mätning av linjär- och vinkelförskjutning enligt följande:

1. Teknisk anmärkning:

Instrument för mätning av linjärförskjutning, som har någon av följande egenskaper: Anmärkning: Laser-interferometrar för förskjutningsmätning omfattas bara av avsnitt 2B006.b.1.c. I avsnitt 2B006.b.1 avser linjärförskjutning ändring av avståndet mellan mätprob och mätobjekt. Anmärkning: Avsnitt 2B006.b.1 omfattar inte interferometersystem för mätning, med ett automatiskt kontrollsystem som är konstruerat för att inte använda någon återkopplingsteknik, och som innehåller en laser för att mäta slidens rörelsefel på verktygsmaskiner, mätmaskiner eller liknande utrustning.

a)

System som mäter kontaktlöst med en upplösning som är lika med eller mindre (bättre) än 0,2 μm inom ett mätområde upp till 0,2 mm.

b) Teknisk anmärkning:

2B006 b) 1. System med linjära differentialtransformatorer (LVDT) som uppfyller allt det följande: I avsnitt 2B006.b.1.b avses med full funktionsradie halva LVDT-systemets totala möjliga linjärförskjutning. Exempelvis kan ett LVDT-system med en full funktionsradie på upp till och med ± 5 mm mäta en total möjlig linjärförskjutning på 10 mm.

b)

1. Har något av följande:

1. a)

Linjäriteten är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % mätt från 0 till full funktionsradie för LVDT-system med en full funktionsradie på upp till och med ± 5 mm, eller

b)

linjäriteten är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % mätt från 0 till 5 mm för LVDT-system med en full funktionsradie på över ± 5 mm, och

2. avdrift lika med eller mindre (bättre) än 0,1 % per dag i normal testrumstemperatur ± 1 K.

c)

Mätsystem som har alla följande egenskaper:

1. Innehåller laser och

2. upprätthåller följande under minst 12 timmar, vid en temperatur av 20 ± 1 °C:

2. a)

En upplösning över hela skalområdet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,1 μm och

b)

förmåga att uppnå en mätosäkerhet som är lika med eller mindre (bättre) än (0,2 + L/2000) μm (L är den uppmätta längden i mm) vid varje punkt inom ett mätområde, när det kompenseras för refraktionsindexet för luft,

d)

Elektroniska sammansättningar som är särskilt konstruerade för att ge återkopplingskapacitet i system som specificeras i avsnitt 2B006.b.1.c.

2. Instrument för mätning av vinkelpositioneringsnoggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 0,00025°. Anmärkning: Avsnitt 2B006.b.2 omfattar inte optiska instrument såsom autokollimatorer som använder parallellt ljus (t.ex. laserljus) för att upptäcka vinkelförskjutning hos en spegel.

c)

Utrustning för mätning av ytjämnhet (inklusive ytdefekter), genom att mäta den optiska spridningen smed en känslighet som är 0,5 nm eller mindre (bättre).

a) Teknisk anmärkning:

I realtid kan utföra en fullständig 3-dimensionell bildbehandling eller analys av en bild för att generera eller modifiera program eller data för ett numeriskt program. Begränsningen avseende analys av en bild innefattar inte approximation av den tredje dimensionen genom att man betraktar föremålen med en given vinkel eller genom att man med begränsad gråskaletolkning får en djup- eller mönsterförnimmelse av det analyserade föremålet (2,5-D).

b)

2B007 Speciellt konstruerade för att tillåtas arbeta i en potentiellt explosiv omgivning enligt nationella säkerhetsbestämmelser. Anmärkning: Avsnitt 2B007.b omfattar inte robotar som är särskilt konstruerade för sprutlackeringsbås.

c) Teknisk anmärkning:

Speciellt konstruerade för eller specificerade som strålningståliga för att motstå en total strålningsdos som är större än 5 × 103 Gy (kisel) utan försämrad prestanda. Termen Gy (kisel) avser den energi uttryckt i joule per kg som ett oavskärmat kiselprov absorberar när den utsätts för joniserande strålning.

d)

Specialkonstruerade för drift på höjder över 30000 m.

a)

Linjära återkopplade positioneringsenheter som har en noggrannhet som är mindre (bättre) än (800 + [600 × L/1000]) nm (L är den effektiva längden i mm). ANM.: För lasersystem se även anmärkningen till avsnitt 2B006.b.1.c och d.

b)

Roterande återkopplade positionsenheter som har en noggrannhet som är mindre (bättre) än 0,00025°. ANM.: För laser-system se även anmärkningen till avsnitt 2B006.b.2.

c)

Tipp- och vridbara arbetsbord och tippbara spindlar som enligt tillverkarens specifikationer kan förbättra prestanda hos verktygsmaskiner till eller över de prestandanivåer som specificeras i avsnitt 2B.

a)

Minst tre axlar som kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning, och

b)

kraften från pressrullen är större än 60 kN.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Maximalt arbetstryck av 69 MPa eller högre.

b)

Utformade för att uppnå och bibehålla en termiskt reglerad miljö av 873 K (600 °C) eller mer, och

c)

kammarutrymme med en innerdiameter av 254 mm eller större.

a)

Maskiner för tryckvalsning med alla följande egenskaper:

1. Maskinerna kan enligt tillverkarens tekniska specifikation utrustas med numeriska styrenheter eller en datorkontroll, även om de inte är försedda med sådana enheter, och

2. de har mer än två axlar som kan styras samtidigt för att uppnå konturstyrning.

b)

Särskilt konstruerade komponenter för maskiner för tryckvalsning som specificeras i avsnitt 2B009 eller 2B109.a.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Vibrationsprovsystem med återkoppling och digital styrteknik, som kan vibrera ett system med en acceleration som är lika med eller större än 10 g rms mellan 20 Hz och 2 kHz samtidigt som det överför krafter som är lika med eller större än 50 kN, mätta vid obelastat bord.

b) Teknisk anmärkning:

Digital styrutrustning, tillsammans med särskilt utformad programvara för vibrationsprovning, med en realtidskontrollbandbredd större än 5 kHz och utformad för vibrationsprovsystem som specificeras i avsnitt 2B116.a. I avsnitt 2B116.b avses med realtidskontrollbandbredd den maximala hastighet med vilken en styrutrustning kan utföra fullständiga cykler av insamling, databehandling och utsändning av kontrollsignaler.

c)

Vibratorer (skakutrustningar), med eller utan tillhörande förstärkare, som kan åstadkomma en kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid obelastat bord, och användbara i provningssystem som specificeras i avsnitt 2B116.a.

d)

Stödkonstruktioner och elektroniska enheter utformade för att kombinera flera skakenheter till ett komplett skakbordsystem som kan åstadkomma en sammansatt effektiv kraft som är lika med eller större än 50 kN, mätt vid obelastat bord och användbart i vibrationssystem som specificeras i avsnitt 2B116.a.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a)

Balanseringsmaskiner som har samtliga följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 2B119.a omfattar inte balanseringsmaskiner som är konstruerade eller modifierade för tandläkarutrustning eller annan medicinsk utrustning.

1. Kan inte balansera rotorer/enheter som har en massa som överstiger 3 kg.

2. Kan balansera rotorer/enheter vid hastigheter som överstiger 12500 varv/min.

3. 2B119 a) Kan korrigera obalans i minst två plan.

4. Kan balansera till en specifik återstående obalans av 0,2 g mm per kg rotormassa.

b) Teknisk anmärkning:

Avläsningsenheter som är konstruerade eller modifierade för att användas i maskiner som specificeras i avsnitt 2B119.a. Avläsningsenheter betecknas ibland som balanseringsinstrument.

a)

Minst två axlar.

b)

Konstruerade eller modifierade för att innehålla släpringar eller integrerade kontaktfria anordningar som kan överföra elkraft, signalinformation eller båda delarna.

c)

Har någon av följande egenskaper:

1. Alla följande egenskaper hos varje enskild axel:

1. a)

Kan vridas minst 400 grader/s eller högst 30 grader/s, och

b)

en hastighetsupplösning på högst 6 grader/s och en noggrannhet på lika med eller mindre än 0,6 grader/s.

2. Har en hastighetsstabilitet som i sämsta fall är lika med eller bättre (mindre) än +/- 0,05 % som ett genomsnitt över 10 grader eller mer, eller

3. en positioneringsnoggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 5 bågsekunder.

a)

Minst två axlar, och

b)

en positioneringsnoggrannhet som är lika med eller mindre (bättre) än 5 bågsekunder.

a)

Verktygsmaskiner för fräsning som har någon av följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 2B201.a omfattar inte fräsmaskiner som har följande egenskaper:

1. Positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 6 μm enligt ISO 230/2 (1988) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller

2. minst två roterande axlar som kan utföra konturslipning.

a)

X-axelns förflyttning större än 2 m, och

b)

totala positioneringsnoggrannheten hos x-axeln är mer (sämre) än 30 μm.

b)

Verktygsmaskiner för slipning som har någon av följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 2B201.b omfattar inte följande slipmaskiner:

1. Positioneringsnoggrannheten med alla tillgängliga kompensationer är lika med eller mindre (bättre) än 4 μm enligt ISO 230/2 (1988) eller nationella motsvarigheter längs med någon linjär axel, eller

2. minst två roterande axlar som kan utföra konturslipning.

a)

Rundslipmaskiner för invändig, utvändig eller kombinerad invändig och utvändig slipning som har samtliga följande egenskaper:

1. Kapaciteten är begränsad till ett arbetsstycke som är högst 150 mm i ytterdiameter eller längd.

2. Begränsade till x-, z- och c-axlar.

b.

Jiggslipmaskiner som inte har en z- eller w-axel med en total positioneringsnoggrannhet som är mindre (bättre) än 4μm enligt ISO 230/2 (1988) eller nationella motsvarigheter.

a.

Kuggar.

b.

Kam- eller vevaxlar.

c.

Verktyg eller fräsar.

d.

Matarskruvar.

a)

Isostatiska pressar som har följande två egenskaper:

1. Kan uppnå ett maximalt arbetstryck av 69 MPa eller högre, och

2. har ett kammarutrymme med en innerdiameter över 152 mm.

b)

2B204 Matriser, formar och styrutrustning, speciellt konstruerade för isostatiska pressar som specificeras i avsnitt 2B204.a.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: a) Teknisk anmärkning:

Datorstyrda eller numeriskt styrda koordinatmätningsmaskiner (CMM) med någon av följande egenskaper: E0,MPE för den mest noggranna konfigurationen av CMM enligt tillverkarens specifikation i enlighet med ISO 10360–2(2009) (t.ex. bäst av följande: prob, mätstiftslängd, rörelseparametrar, omgivningar) och med alla tillgängliga kompensationer ska jämföras med tröskeln på 1,7+L/800 μm.

a)

1. Bara två axlar, och en maximalt tillåten längdmåttsavvikelse längs någon (endimensionell) axel, identifierad som någon kombination av E0x,MPE, E0y,MPE, eller E0z,MPE, som är lika med eller mindre (bättre) än (1,25 + L/1000) μm (där L är den uppmätta längden i mm) vid varje punkt inom maskinens arbetsområde (dvs. inom axellängden), enligt ISO 10360–2(2009), eller

2. tre eller fler axlar och en tredimensionell (volymetrisk) maximal tillåten längdmåttsavvikelse (E0,MPE) om är lika med eller mindre (bättre) än (1,7 + L/800) μm (där L är den uppmätta längden i mm) vid varje punkt inom maskinens arbetsområde (dvs. inom axellängden), enligt ISO 10360–2(2009).

b)

System för samtidig linjär mätning och vinkelmätning av ett halvskal som har båda följande egenskaper:

1. Mätosäkerheten längs med någon linjär axel är lika med eller mindre (bättre) än 3,5 μm per 5 mm, och

2. vinkelavvikelsen från en position är lika med eller mindre (bättre) än 0,02°.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: a)

Robotar eller manipulatorer som är speciellt konstruerade för att uppfylla nationella säkerhetsbestämmelser för hantering av högexplosiva ämnen (t.ex. uppfyller elektriska märkdata för högexplosiva ämnen).

b)

Styrsystem speciellt konstruerade för de robotar och manipulatorer som specificeras i avsnitt 2B207.a.

a)

Maskiner som har följande två egenskaper:

1. Tre eller fler rullar (aktiva eller styrnings-), och

2. som enligt tillverkarens tekniska specifikation kan utrustas med numerisk styrning eller datorkontroll.

b)

Rotorskapande dorn konstruerade för att bilda rotorer med en inre diameter på mellan 75 mm och 400 mm.

a)

Maskiner för centrifugalbalansering konstruerade för balansering av böjliga rotorer med en längd av 600 mm eller mer och som uppfyller samtliga följande villkor:

1. Axeltappdiameter större än 75 mm.

2. Balanserar vikter från 0,9 till 23 kg.

3. Kan balansera med en rotationshastighet större än 5000 varv/min.

b)

Maskiner för centrifugalbalansering konstruerade för balansering av ihåliga cylindriska rotorkomponenter, som uppfyller samtliga följande villkor:

1. Axeltappdiameter större än 75 mm.

2. Balanserar vikter från 0,9 kg till 23 kg.

3. Balanserar till en återstående obalans lika med eller mindre än 0,01 kg × mm/kg per plan.

4. Använder remdrift.

a)

Kan arbeta genom en vägg med en tjocklek av 0,6 m eller mer eller

b)

kan överbrygga en skiljevägg med en tjocklek av 0,6 m eller mer.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: a)

Ugnar med alla följande egenskaper:

1. Kan arbeta vid temperaturer över 1123 K (850 °C),

2. Har induktionsspolar med 600 mm i diameter eller mindre.

3. Är konstruerade för en ineffekt på minst 5 kW.

b)

Kraftförsörjning med en specificerad uteffekt på minst 5 kW, särskilt konstruerade för ugnar som specificeras i 2B.226.a.

a)

Omsmältningsugnar (ljusbåge) och gjutugnar med följande två egenskaper:

1. Elektrodåtgång mellan 1000 cm3 och 20000 cm3 och

2. kan arbeta med smälttemperaturer över 1973 K (1700 °C).

b)

Ugnar med elektronstrålesmältning samt plasmaatomisering och smältning med följande två egenskaper:

1. En effekt på minst 50 kW och

2. kan arbeta med smälttemperaturer över 1473 K (1200 °C).

c)

Datorstyrning och datorövervakning speciellt utformade för någon av ugnarna som specificeras i avsnitt 2B227.a eller 2B227.b.

a)

Utrustning för hopsättning av rotorrörsektioner för gascentrifuger, mellanväggar och ändstycken. Anmärkning: Avsnitt 2B228.a omfattar precisionsdorn, inspänningsanordningar och maskiner för krymppassning.

b) Teknisk anmärkning:

Utrustning för upplinjering av rotorrörsektioner längs en gemensam axel. I avsnitt 2B228.b består sådan utrustning vanligen av precisionsmätprobar kopplade till en dator som kontrollerar exempelvis pneumatiska kolvar som används för att rikta rörsektionerna.

c) Teknisk anmärkning:

Bälgformande dorn och formar för produktion av bälgar med en enkel utbuktning. I avsnitt 2B228.c ska bälgarna ha alla följande egenskaper:

1. Innerdiameter mellan 75 mm och 400 mm.

2. Längd 12,7 mm eller mer.

3. Utbuktningsdjup större än 2 mm.

4. Tillverkade av höghållfasta aluminium-legeringar, maråldrat stål eller höghållfasta fibrer eller fiberliknande material.

a)

Tryckkännande element tillverkat av eller skyddat av aluminium eller aluminiumlegering, aluminiumoxid (alumina eller safir), nickel eller nickellegering med mer än 60 viktprocent nickel eller fullständigt fluorerade polymerer.

b)

De eventuella tätningar som krävs för att täta det tryckkännande elementet och som är i direkt kontakt med processmediet är tillverkade av eller skyddade av aluminium eller aluminiumlegering, aluminiumoxid (alumina eller safir), nickel eller nickellegering med mer än 60 viktprocent nickel eller fullständigt fluorerade polymerer.

c)

2B230 De har någon av följande egenskaper:

1. Fullt skalutslag är mindre än 13 kPa och noggrannheten bättre än ± 1 % av fullt skalutslag, eller

2. fullt skalutslag är 13 kPa eller mer och noggrannheten är bättre än ± 130 Pa mätt vid 13 kPa.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Insugningsrör med en diameter 380 mm eller mer.

b)

Pumphastighet av 15 m3/s eller högre.

c)

Kan åstadkomma ett slutvakuum bättre än 13 mPa.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Kapabel till en inloppsflödeshastighet på 50 m3/timme eller mer.

b)

Kan uppnå ett tryckförhållande på 2:1 eller mer.

c)

Alla ytor som kommer i kontakt med processgasen är tillverkade av något av följande material:

1. Aluminium eller aluminiumlegering.

2. Aluminiumoxid.

3. Rostfritt stål.

4. Nickel eller nickellegering.

5. Fosforbrons.

6. Fluorpolymerer.

a)

Reaktorkärl eller reaktorer, med eller utan omrörare, med en total inre (geometrisk) volym större än 0,1 m3 (100 liter) och mindre än 20 m3 (20000 liter), där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

3. 2B350 a) Glas (inklusive keramiskt bunden eller emaljerad beläggning eller glasinfodring).

4. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

5. Tantal eller tantal-legeringar.

6. Titan eller titan-legeringar.

7. Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

8. Niob (columbium) eller niob-legeringar.

b)

Omrörare som är konstruerade för användning i reaktionskärl eller reaktorer som specificeras i avsnitt 2B350.a, samt impellrar, blad eller axlar konstruerade för sådana omrörare, där alla omrörarens ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

3. Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring).

4. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

5. Tantal eller tantal-legeringar.

6. Titan eller titan-legeringar.

7. Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

8. Niob (columbium) eller niob-legeringar.

c)

Lagertankar, reservoarer eller behållare med en total inre (geometrisk) volym större än 0,1 m3 (100 liter) där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

3. Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring).

4. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

5. Tantal eller tantal-legeringar.

6. Titan eller titan-legeringar.

7. Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

8. Niob (columbium) eller niob-legeringar.

d)

Värmeväxlare eller kondensorer med en värmeöverföringsyta större än 0,15 m2, och mindre än 20 m2, samt rör, plattor, slingor eller block (kylpaket) konstruerade för sådana värmeväxlare eller kondensorer, där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som behandlas är gjorda av något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

3. Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring).

4. Grafit eller kolgrafit.

5. 2B350 d) Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

6. Tantal eller tantal-legeringar.

7. Titan eller titan-legeringar.

8. Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

9. Kiselkarbid.

10. Titankarbid.

11. Niob (columbium) eller niob-legeringar.

e)

Destillations- eller absorptionskolonner med en innerdiameter större än 0,1 m, samt vätskefördelare, ångfördelare eller vätskeuppsamlare konstruerade för sådana destillations- eller absorptionskolonner, där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas är gjorda av något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

3. Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring).

4. Grafit eller kolgrafit.

5. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

6. Tantal eller tantal-legeringar.

7. Titan eller titan-legeringar.

8. Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

9. Niob (columbium) eller niob-legeringar.

f)

Fjärrstyrda doseringsutrustningar där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som behandlas är gjorda av något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

g) Tekniska anmärkningar: 1.2.

Ventiler och komponenter enligt följande: Med korrosionsbeständigt material avses i avsnitt 2B350.g följande material: Med nominell storlek avses den mindre av in- och utloppsdiametrarna.

g)

1. Ventiler med båda följande egenskaper:

1. a)

En nominell storlek på mer än 10 mm (3/8″), och

b)

alla ytor som kommer i direkt kontakt med de kemikalier som produceras, processas eller innesluts är tillverkade av korrosionsbeständigt material.

2. Ventiler, andra än de som specificeras i avsnitt 2B350.g.1, med alla följande egenskaper:

2. a)

En nominell storlek på minst 25,4 mm (1″) och högst 101,6 mm (4″),

b)

hus (ventilhus) eller förformade infodringar,

c)

en stängningsanordning som är konstruerad för att vara utbytbar, och

d)

alla ytor i ventilhuset eller den förformade infodringen som kommer i direkt kontakt med de kemikalier som produceras, processas eller innesluts är tillverkade av korrosionsbeständigt material.

3. 2B350 g) Komponenter som är konstruerades för ventiler som specificeras i avsnitt 2B350.g.1 eller 2B350.g.2 där alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som produceras, processas eller innesluts är tillverkade av korrosionsbeständigt material enligt följande:

3. a)

Hus (ventilhus).

b)

Förformade infodringar.

g) Tekniska anmärkningar: 1.

a)

Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

b)

Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

c)

Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

d)

Glas eller glasinfodring (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar).

e)

Tantal eller tantal-legeringar.

f)

Titan eller titan-legeringar.

g)

Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

h)

Niobium (columbium) eller niob-legeringar.

i)

Keramiska material enligt följande:

1. Kiselkarbid med en renhet av minst 80 viktprocent.

2. Aluminiumoxid med en renhet av minst 99,9 viktprocent.

3. Zirkoniumoxid.

h)

Flerväggiga rör försedda med en öppning för läckindikering, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

3. Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring).

4. Grafit eller kolgrafit.

5. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

6. Tantal eller tantal-legeringar.

7. Titan eller titan-legeringar.

8. Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

9. Niob (columbium) eller niob-legeringar.

i) Teknisk anmärkning:

2B350 Multipeltätade och tätningsfria pumpar som har en av tillverkaren specificerad flödeshastighet som är större än 0,6 m3/tim, eller vakuumpumpar med en av tillverkaren specificerad flödeshastighet större än 5 m3/tim (vid standardtemperatur (273 K [0 °C] och tryck [101,3 kPa]), som inte specificeras i avsnitt 2B233; samt hus (pumphus), förformade infodringar, impellrar, rotorer eller strålpumpsmunstycken konstruerade för sådana pumpar, i vilka alla ytor som kommer i direkt kontakt med den kemikalie som bearbetas eller innesluts är gjorda av något av följande material: Med tätning i avsnitt 2B350.i avses endast de tätningar som kommer i direkt kontakt med de kemikalier som processas (eller är avsedda för detta), och som ger en tätningsfunktion där en kolv- eller turbindriven drivaxel passerar genom ett pumphus.

i)

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Keramiska material.

3. Ferrokisel (järnlegeringar med hög kiselhalt).

4. Fluorpolymerer (polymer- eller elastomermaterial som innehåller mer än 35 viktprocent fluor).

5. Glas (inklusive keramiskt bundna eller emaljerade beläggningar eller glasinfodring).

6. Grafit eller kolgrafit.

7. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

8. Tantal eller tantal-legeringar.

9. Titan eller titan-legeringar.

10. Zirkonium eller zirkonium-legeringar.

11. Niob (columbium) eller niob-legeringar.

j)

Förbränningsugnar utformade för att förstöra kemikalier som specificeras i avsnitt 1C350 vilka har särskilt utformade hanteringssystem för förbränningsprodukterna, särskilda hanteringshjälpmedel och en medeltemperatur i förbränningskammaren över 1273 K (1000 °C), i vilka alla ytor i förbränningssystemet som kommer direkt i kontakt med förbränningsprodukterna är gjorda av eller beklädda med något av följande material:

1. Legeringar med mer än 25 viktprocent nickel och 20 viktprocent krom.

2. Keramer.

3. Nickel eller legeringar med mer än 40 viktprocent nickel.

2B Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6. Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: Teknisk anmärkning: Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

som är konstruerade för kontinuerlig drift och i stånd att upptäcka kemiska stridsmedel eller kemikalier som specificeras i avsnitt 1C350 vid en koncentration på mindre än 0,3 mg/m3 eller

b)

som är konstruerade för att upptäcka kemiska föreningar med en kolinesterashämmande funktion.

a) Teknisk anmärkning:

Kompletta biologiska säkerhetslaboratorier (complete biological containment facilities) av P3, P4 säkerhetsklass. P3 eller P4 (BL3, BL4, L3, L4) säkerhetsklass finns specificerad i WHO Laboratory Biosafety manual (tredje upplagan Genève 2004).

b) Teknisk anmärkning:

Fermentorer och komponenter enligt följande: Fermentorer enligt avsnitt 2B352.b omfattar även bioreaktorer, bioreaktorer för engångsbruk, kemostater och system med kontinuerligt flöde.

b)

1. Fermentorer som kan odla patogena mikroorganismer eller levande celler för produktion av patogena virus eller toxiner utan spridning av aerosoler, och som har en total kapacitet av 20 liter eller mer.

2. Komponenter som är konstruerade för fermentorer som omfattas av avsnitt 2B352.b.1, enligt följande:

2. a)

Odlingskammare som är konstruerade för att kunna steriliseras eller desinficeras på plats.

b)

Fasthållningsdon för odlingskammare.

c)

Enheter för processkontroll som simultant kan övervaka och styra två eller fler parametrar i ett fermentationssystem (t.ex. temperatur, pH, näringsämnen, skakning, upplöst syre, luftflöde, skumkontroll).

c) Teknisk anmärkning:

Centrifugalseparatorer som kan användas för kontinuerlig avskiljning, utan spridning av aerosoler, och som har samtliga följande egenskaper: Centrifugalseparatorer omfattar också dekanteringsutrustning.

c)

1. En flödeshastighet högre än 100 liter per timme.

2. Beståndsdelar av polerat rostfritt stål eller titan.

3. En avtätning mot läckage genom en eller flera tätningar mellan vilka upprätthålls ett kontinuerligt ångtryck.

4. En utformning så att de kan steriliseras i slutet tillstånd på plats.

d)

Genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) och komponenter, enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 2B352.d omfattar inte utrustning för omvänd osmos enligt tillverkarens specifikation.

1. Genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) utformad för avskiljning av patogena mikroorganismer, virus, toxiner eller cellodlingar, som har alla följande egenskaper:

1. a)

En total filteryta på 1 m2eller större.

b) Teknisk anmärkning:

Någon av följande egenskaper: Med sterilisera avses i avsnitt 2B352.d.1.b eliminering av alla livskraftiga mikrober från utrustningen, med användning av antingen fysikaliska agens (t.ex. ånga) eller kemiska agens. Med desinficera avses dödande av eventuella mikrobiella smittämnen på utrustningen genom användning av kemiska agens med bakteriedödande effekt. Desinficering och sterilisering skiljer sig från hygienisering, som avser rengöringsåtgärder för att minska antalet mikrober på utrustningen, utan att alla mikrobiella smittämnen eller livskraftiga mikrober nödvändigtvis elimineras.

b)

1. En utformning så att de kan steriliseras eller desinficeras på plats.

2. Använder filtreringskomponenter för engångsbruk.

2. 2B352 d) Komponenter till genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) (t.ex. moduler, element, kassetter, patroner, enheter eller skivor) med en filteryta som är 0,2 m2 eller större för varje komponent och som är konstruerade för användning i genomströmningsfilterutrustning (tangentiell) som specificeras i avsnitt 2B352.d.

e)

Ångsteriliserbar frystorkningsutrustning med en kylkapacitet av 10 kg is eller mer per dygn och mindre än 1000 kg is per dygn.

f)

Skydds- och inneslutningsutrustning enligt följande:

1. Skyddskläder i form av hel- eller halvdräkter, eller kåpor som är beroende av bunden extern lufttillförsel och fungerar med övertryck. Anmärkning.: Avsnitt 2B352.f.1 omfattar inte dräkter som ska bäras med inbyggd andningsapparat.

2. Biologiska säkerhetsskåp eller isolatorer från klass III med liknande prestandanormer. Anmärkning.: Med isolatorer avses i avsnitt 2B352.f.2 flyttbara isolatorer, torkskåp, anaerobatiska kammare, lådor med manövrering via handskar och laminarflowhuvar (slutna med vertikalt flöde).

g)

Kammare vilka konstruerats för aerosoltestning (aerosolinhalationskammare) med mikroorganismer, virus eller toxiner och som har en volym av 1 m3 eller mer.

h)

Sprejtorkningsutrustning som kan torka toxiner eller patogena mikroorganismer, med alla följande egenskaper:

1. En vattenavdunstningskapacitet på ≥ 0,4 kg/timme och ≤ 400 kg/timme.

2. Förmåga att generera en genomsnittlig produktpartikelstorlek på ≤ 10 μm med befintliga tillbehör eller med en minimal ändring av sprejtorkningsutrustningen med atomiseringsmunstycken som möjliggör generering av den önskade partikelstorleken.

3. En utformning så att de kan steriliseras eller desinficeras på plats.

2C Material Ingen.

2D Programvara 2D001 Annan programvara än den som specificeras i avsnitt 2D002, enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 2D001 omfattar inte programvara för delprogrammering som genererar koder för numerisk styrning för bearbetning av olika delar. 2D002 Programvara för elektroniska enheter, även om den finns i en elektronisk utrustning eller i ett elektroniskt system, som möjliggör för denna utrustning eller detta system att fungera som en utrustning för numerisk styrning som simultant kan koordinera mer än fyra axlar för konturstyrning. Anmärkning 1: 2D002 omfattar inte programvara speciellt utformad eller modifierad för drift av produkter som inte specificeras i kategori 2. Anmärkning 2: Avsnitt 2D002 omfattar inte programvara för produkter som specificeras i avsnitt 2B002. Se avsnitt 2D001 och 2D003 för programvara för produkter som specificeras i avsnitt 2B002. Anmärkning 3: Avsnitt 2D002 omfattar inte programvara som exporteras tillsammans med, och som är det minsta som krävs för att driva, produkter som inte specificeras i kategori 2. 2D003 Programvara som är utformad eller modifierad för drift av utrustning som specificeras i avsnitt 2B002, som konverterar optisk design, mätning av arbetsstycken och funktioner för borttagning av material till kommandon för numerisk styrning för att ge arbetsstycket den önskade formen. 2D101 Programvara speciellt utformad eller modifierad för användning av utrustningar som specificeras i avsnitt 2B104, 2B105, 2B109, 2B116, 2B117 eller 2B119-2B122. ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 9D004. 2D201 Programvara speciellt utformad för användning av produkter som specificeras i avsnitt 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B219 eller 2B227. 2D202 Programvara speciellt utformad eller modifierad för utveckling, produktion eller användning av utrustning som specificeras i avsnitt 2B201. Anmärkning: Avsnitt 2D202 omfattar inte programvara för programmering av delar som genererar kommandokoder för numerisk styrning, men som inte medger direkt användning av utrustningen för bearbetning av olika delar. 2D351 Programvara, annan än den som specificeras i avsnitt 1D003, speciellt utformad för användning av utrustning som specificeras i avsnitt 2B351.

2D a)

Programvara som är speciellt utformad eller modifierad för utveckling eller produktion av utrustning som specificeras i avsnitt 2A001 eller 2B001.

b)

Programvara som är speciellt utformad eller modifierad för användning av utrustning som specificeras i avsnitt 2A001.c, 2B001 eller 2B003-2B009.

2E Tabell 1.2.3.A.B.B.1.B.2.B.3.B.4.C.D.E.F.G. Ytbeläggningstekniker

Teknik 2E001 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling av utrustning eller programvara som specificeras i avsnitt 2A, 2B eller 2D. Anmärkning: Avsnitt 2E001 omfattar teknik för integrering av mätprobsystem i de koordinatmätmaskiner som specificeras i avsnitt 2B006.a. 2E002 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för produktion av utrustning som specificeras i avsnitt 2A eller 2B. 2E003 Annan teknik enligt följande: 2E101 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för användning av utrustning eller programvara som specificeras i avsnitt 2B004, 2B009, 2B104, 2B109, 2B116, 2B119-2B122 eller 2D101. 2E201 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för användning av utrustning eller programvara som specificeras i avsnitt 2A225, 2A226, 2B001, 2B006, 2B007.b, 2B007.c, 2B008, 2B009, 2B201, 2B204, 2B206, 2B207, 2B209, 2B225-2B233, 2D201 eller 2D202. 2E301 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för användning av varor som specificeras i avsnitten 2B350-2B352. Beläggningsprocess (1) Substrat Resultat av ytbeläggning Kemisk förångningsdeposition (CVD) Superlegeringar Aluminider för interna genomgångar Keramer (19) och glas med låg expansion (14) Silicider Karbider Dielektriska lager (15) Diamant Diamantlikt kol (17) Kol-kol-, keram- och metall-matrix- kompositer Silicider Karbider Svårsmälta metaller Blandningar därav (4) Dielektriska lager (15) Aluminider Legerade aluminider (2) Bornitrid Hårdmetall innehållande volfram-karbider (16), Kiselkarbider (18) Karbider Volfram Blandningar därav (4) Dielektriska lager (15) Molybden och molybdenlegeringar Dielektriska lager (15) Beryllium och berylliumlegeringar Dielektriska lager (15) Diamant Diamantlikt kol (17) Detektorfönster-material (9) Dielektriska lager (15) Diamant Diamantlikt kol (17) Termisk förångning Fysisk förångningsdeposition (TE-PVD) Fysisk förångningsdeposition (PVD): Elektronstrålar (EB-PVD) Superlegeringar Kisellegeringar Legerade aluminider (2) MCrAlX (5) Modifierat zirkonium (12) Silicider Aluminider Blandningar därav (4) Keramer (19) och glas med låg expansion (14) Dielektriska lager (15) Korrosionsbeständigt stål (7) MCrAlX (5) Modifierat zirkonium (12) Blandningar därav (4) Kol-kol-, keram- och metall-matrix- kompositer Silicider Karbider Svårsmälta metaller Blandningar därav (4) Dielektriska lager (15) Bornitrid Hårdmetall innehållande volfram-karbider (16), Kiselkarbider (18) Karbider Volfram Blandningar därav (4) Dielektriska lager (15) Molybden och molybdenlegeringar Dielektriska lager (15) Beryllium och berylliumlegeringar Dielektriska lager (15) Borider Beryllium Detektorfönster-material (9) Dielektriska lager (15) Titanlegeringar (13) Borider Nitrider Jonassisterad resistivt upphettad fysisk förångningsdeposition (PVD) (Jonplätering) Keramer (19) och glas med låg expansion(14) Dielektriska lager (15) Diamantlikt kol (17) Kol-kol-, keram- och metall- matris-kompositer Dielektriska lager (15) Hårdmetall innehållande volframkarbid (16), Silikonkarbid Dielektriska lager (15) Molybden och molybdenlegeringar Dielektriska lager (15) Beryllium och berylliumlegeringar Dielektriska lager (15) Detektorfönster-material (9) Dielektriska lager (15) Diamantlikt kol (17) Fysisk förångnings-deposition (PVD): Laser-förångning Keramer (19) och glas med låg expansion (14) Silicider Dielektriska lager (15) Diamantlikt kol (17) Kol-kol-, keram- och metall- matris- kompositer Dielektriska lager (15) Hårdmetall innehållande volframkarbid (16), Silikonkarbid Dielektriska lager (15) Molybden och molybdenlegeringar Dielektriska lager (15) Beryllium och berylliumlegeringar Dielektriska lager (15) Detektorfönster-material (9) Dielektriska lager (15) Diamantlikt kol Fysisk förångnings-deposition (PVD): Katodstråleurladdning Superlegeringar Kisellegeringar Legerade aluminider (2) MCrAlX (5) Polymerer (11) och organiska matris- kompositer Borider Karbider Nitrider Diamantlikt kol (17) Pack cementation (se A ovan out-of-pack cementation) (10) Kol-kol-, keram- och metall-matris- kompositer Silicider Karbider Blandningar därav (4) Titanlegeringar (13) Silicider Aluminider Legerade aluminider (2) Svårsmälta metaller och legeringar (8) Silicider Oxider Plasmasprutning Superlegeringar MCrAlX (5) Modifierat zirkonium (12) Blandningar därav (4) Slipbar nickel-grafit Slipbara material som innehåller Ni-Cr-Al Slipbar Al-Si-polyester Legerade aluminider (2) Aluminiumlegeringar (6) MCrAlX (5) Modifierat zirkonium (12) Silicider Blandningar därav (4) Svårsmälta metaller och legeringar (8) Aluminider Silicider Karbider Korrosionsbeständigt stål (7) MCrAlX (5) Modifierat zirkonium (12) Blandningar därav (4) Titaniumlegeringar (13) Karbider Aluminider Silicider Legerade aluminider (2) Slipbar nickel-grafit Slipbara material som innehåller Ni-Cr-Al Slipbar Al-Si-polyester Målningsbeläggning Svårsmälta metaller och legeringar (8) Brända silicider Brända aluminider utom för resistiva värmeelement Kol-kol-, keram- och metall-matris-kompositer Silicider Karbider Blandningar därav (4) Sputteringbeläggning Superlegeringar Legerade silicider Legerade aluminider (2) Ädelmetallmodifierade aluminider (3) MCrAlX (5) Modifierat zirkonium (12) Platina Blandningar därav (4) Keramer och glas med låg expansion (14) Silicider Platina Blandningar därav (4) Dielektriska lager (15) Diamantlikt kol (17) Titanlegeringar (13) Borider Nitrider Oxider Silicider Aluminider Legerade aluminider (2) Karbider Kol-kol, keram och metall matris-kompositer Silicider Karbider Svårsmälta metaller Blandningar därav (4) Dielektriska lager (15) Bornitrid Hårdmetall innehållande volframkarbid (16), Kiselkarbider (18) Karbider Volfram Blandningar därav (4) Dielektriska lager (15) Bornitrid Molybden och molybdenlegeringar Dielektriska lager (15) Beryllium och berylliumlegeringar Borider Dielektriska lager (15) Beryllium Detektorfönster-material (9) Dielektriska lager (15) Diamantlikt kol (17) Svårsmälta metaller och legeringar (8) Aluminider Silicider Oxider Karbider Jonimplantation Lagerstål för höga temperaturer Tillsatser av krom tantal eller niob (columbium) Titanlegeringar (13) Borider Nitrider Beryllium och berylliumlegeringar Borider Hårdmetall innehållande volframkarbid (16) Karbider Nitrider

2E a)

Teknik för utveckling av interaktiv grafik som en integrerad del i enheter för numerisk styrning för förberedelser eller ändringar av delprogram.

b)

Teknik för metallbearbetningsprocesser enligt följande:

1. Teknik för konstruktion av verktyg, formar eller fixturer speciellt konstruerade för någon av följande processer:

1. a)

superplastisk bearbetning,

b)

diffusionsbondning eller

c)

direktverkande hydraulisk pressning.

2. Tekniska data som består av följande processmetoder eller parametrar och som används för att styra följande:

2. a)

Superplastisk bearbetning av aluminiumlegeringar, titanlegeringar eller superlegeringar genom

1. ytpreparering,

2. sträckhastighet,

3. temperatur,

4. tryck.

b)

2E003 b) 2. Diffusionsbondning av superlegeringar eller titanlegeringar genom

1. ytpreparering,

2. temperatur,

3. tryck.

c)

Direktverkande hydraulisk pressning av aluminium- eller titanlegeringar genom

1. tryck,

2. cykeltid.

d)

Varm isostatisk förtätning av titanlegeringar, aluminiumlegeringar eller superlegeringar genom

1. temperatur,

2. tryck,

3. cykeltid.

c)

Teknik för utveckling eller produktion av hydrauliska sträckbearbetningsmaskiner, inklusive formar härför, för tillverkning av flygplansskrov.

d)

Teknik för utveckling av generatorer för verktygsmaskiners instruktioner (t.ex. delprogram) från konstruktionsdata som finns inlagda i enheter för numerisk styrning.

e)

Teknik för utveckling av integrerad programvara för inkorporering av expertsystem i enheter för numerisk styrning för att understödja avancerade beslut i s.k. shop floor operations.

f)

Teknik för applicering av oorganiska ytbeläggningar eller oorganisk ytförändringsbeläggning (specificerade i kolumn 3 i följande tabell) till substrat för icke-elektronisk användning (specificerade i kolumn 2 i följande tabell) med en process som specificeras i kolumn 1 i följande tabell och som definieras i de tekniska anmärkningarna efter tabellen. Anmärkning: Tabell och teknisk anmärkning återfinns efter avsnitt 2E301. ANM.: Denna tabell ska läsas för att specificera tekniken för en särskild beläggningsprocess endast då resultatet av ytbeläggningen i kolumn 3 är i ett stycke direkt mittför det relevanta substratet under kolumn 2. Till exempel, tekniska uppgifter om beläggningsprocessen med kemisk förångningsdeposition (CVD) är inbegripna för applicering av silicider till kol-kol-, keram- och metall-matris-kompositsubstrat, men är inte inbegripna för applicering av silicider till substrat av hårdmetall innehållande volframkarbid (16) och kiselkarbid (18). I det andra fallet är den resulterande ytbeläggningen inte förtecknad i stycket under kolumn 3 direkt mittför stycket under kolumn 2 där hårdmetall innehållande volframkarbid (16) och kiselkarbid (18) är förtecknade.

2E Tabell 1.2.3.A.B.B.1.B.2.B.3.B.4.C.D.E.F.G. Ytbeläggningstekniker TABELL - YTBELÄGGNINGSTEKNIKER - ANMÄRKNINGAR 1.2.3.4.5.6.7.8.9.10.11.12.13.14.15.16.17.18.19.

Termen beläggningsprocess omfattar såväl reparation och förbättring av ytbehandlingen som den ursprungliga ytbehandlingen. Termen legerade aluminidbeläggningar omfattar enkel- eller flerstegsbeläggningar varvid ett eller flera ämnen överförs före eller samtidigt med aluminidbeläggningen även om dessa ämnen överförs med en annan ytbehandlingsmetod. Däremot omfattas inte upprepad användning av s.k. enkelstegs pack cementation-processer för att uppnå legerade aluminider. Termen ädelmetallmodifierade aluminider omfattar flerstegsbeläggningar varvid ädelmetallen eller ädelmetallerna påläggs med någon annan beläggningsprocess före påläggningen av aluminidbeläggningen. Termen blandningar därav omfattar infiltrerade material, sorterade blandningar, hjälpbeläggningar och multilagerbeläggningar och erhålls genom en eller flera av de beläggningsprocesser som specificeras i tabellen. MCrAlX avser en legerad beläggning där M står för kobolt, järn, nickel eller blandningar därav och X står för hafnium, yttrium, kisel, tantal oberoende av mängd eller andra avsiktliga tillsatser som är större än 0,01 viktprocent, i olika proportioner och kombinationer, utom Med termen aluminiumlegeringar avses legeringar som har en brottgräns på minst 190 MPa mätt vid 293 K (20 °C). Med termen korrosionsbeständigt stål avses AISI (American Iron and Steel Institute)-serien 300 eller motsvarande nationella standard för stål. Svårsmälta metaller och legeringar omfattar följande metaller och deras legeringar: niob (columbium), molybden, volfram och tantal. Detektorfönstermaterial enligt följande: aluminiumoxid, kisel, germanium, zinksulfid, zinkselenid, galliumarsenid, diamant, galliumfosfid, safir och följande metallhalogenider: detektorfönstermaterial som har en diameter som är större än 40 mm för zirkoniumfluorid och hafniumfluorid. Tekniken för s.k. enstegs pack-cementation av massiva luftfolier omfattas inte av kategori 2. Polymerer enligt följande: polyimid, polyester, polysulfid, polykarbonater och polyuretaner. Med modifierat zirkonium avses tillsatser av andra metalloxider (t.ex. kalciumoxid, magnesiumoxid, yttriumoxid, hafniumoxid, oxider till sällsynta jordmetaller) till zirkonium för att stabilisera speciella kristallografiska faser och faskompositioner. Termisk barriärbeläggning som görs av zirkonium modifierad med kalciumoxid eller magnesiumoxid genom blandning eller fusion omfattas inte. Med titanlegeringar avses endast rymdlegeringar som har en brottgräns som är minst 900 MPa mätt vid 293 K (20 °C). Med glas med låg expansion avses glas med en termisk expansionskoefficient på högst 1 × 10-7 K-1 mätt vid 293 K (20 °C). Dielektriska lager är beläggningar som är uppbyggda av flera lager isolationsmaterial i vilka interferensegenskaperna hos en konstruktion som är sammansatt av material med olika brytningsindex används så att reflexion, genomsläpplighet eller absorption erhålls vid olika våglängder. Med dielektriskta lager avses minst fyra dielektriska lager eller dielektriska/metall-komposit-lager. Hårdmetall innehållande volframkarbid omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial som består av volframkarbid/(kobolt, nickel), titankarbid/(kobolt, nickel), kromkarbid/nickel-krom och kromkarbid/nickel. Teknik som är särskilt avsedd för beläggning av diamantlikt kol på något av följande omfattas inte: Diskettstationer samt läs- och skrivhuvuden, utrustning för tillverkning av engångsmaterial, ventiler för kranar, akustiska membran för högtalare, motordelar till bilar, skärverktyg, stans- och pressmatriser, kontorsmaskiner, mikrofoner och medicintekniska produkter eller formar för plastgjutning eller plastformning, tillverkade av legeringar som innehåller mindre än 5 % beryllium. Kiselkarbid omfattar inte skärande och bearbetande verktygsmaterial. Keramiska substrat i denna punkt omfattar inte keramiska material som innehåller minst 5 viktprocent lera eller cement, antingen som separata beståndsdelar eller i kombination.

TABELL - YTBELÄGGNINGSTEKNIKER - ANMÄRKNINGAR 1.2.3.4.5.

a)

CoCrAlY-beläggningar som innehåller mindre än 22 viktprocent krom, mindre än 7 viktprocent aluminium och mindre än 2 viktprocent yttrium,

b)

CoCrAlY-beläggningar som innehåller 22–24 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,5–0,7 viktprocent yttrium, eller

c)

NiCrAlY-beläggningar som innehåller 21–23 viktprocent krom, 10–12 viktprocent aluminium och 0,9–1,1 viktprocent yttrium.

TABELL - YTBELÄGGNINGSTEKNIKER - TEKNISKA ANMÄRKNINGAR

De processer som specificeras i kolumn 1 i tabellen definieras enligt följande:

a)

Kemisk förångningsdeposition (CVD) är en ytbehandlings- eller ytförändringsprocess varvid metall, legering, komposit, ett dielektrikum eller en keram deponeras på ett upphettat substrat. Reaktansgaserna sönderdelas eller kombineras i närheten av substratet, varvid en beläggning sker på substratet av det önskade grundämnet, den önskade legeringen eller kompositmaterialet. Energi för denna sönderdelning eller kemiska reaktionsprocess kan erhållas från värmen i substratet, en glimurladdningsplasma eller från upphettning med laser-strålning. ANM. 1: CVD omfattar följande processer: beläggning med ett gasflöde out-of-pack-beläggning, pulserande CVD, styrd termisk kärnbildande nedbrytningsprocess (CNTD), plasmaförstärkta eller plasmaassisterade CVD-processer. ANM. 2: Med pack menas ett substrat som är inbakat i en pulverblandning. ANM. 3: De reaktansgaser som används i en out-of-pack-process produceras med hjälp av samma basreaktioner och parametrar som pack cementation-processen, med undantag av att substratet som ska beläggas inte är i kontakt med pulverblandningen.

b)

Termisk förångning – fysisk förångningsdeposition (TE-PVD) är en ytbeläggningsprocess som sker i vakuum vid ett tryck som är lägre än 0,1 Pa varvid en termisk energikälla används för att förånga beläggningsmaterialet. Denna process resulterar i en kondensation eller en beläggning av det förångade materialet på lämpligt placerade substrat. Tillsatsen av gaser i vakuumkammaren under beläggningsprocessen för att skapa blandad beläggning är en vanlig modifiering av denna process. Användningen av jon- eller elektronstrålar eller plasma för att aktivera eller assistera vid beläggningen är också en vanlig modifikation av denna teknik. Användningen av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek kan utgöra en del av dessa processer. Specifika TE-PVD processer är följande:

1. Elektronstråle-PVD använder en elektronstråle för att upphetta och förånga det material som ska bilda beläggningen.

2. Jonassisterad resistivt upphettad PVD arbetar med elektroresistiva värmekällor i kombination med direkt inverkan från jonstrålar för att producera ett kontrollerat och likformigt flöde av de förångade beläggningsmaterialen.

3. Laserförångning använder antingen pulsade eller kontinuerliga laservågor för att förånga det material som ska bilda beläggning.

4. Katodstrålebeläggning arbetar med en katod av det material som ska bilda beläggning, varvid katoden förbrukas, och vid katoden uppstår en gnisturladdning på ytan genom en kortvarig jordkontakt med hjälp av en trigger. En styrd rörelse av gnistan urholkar katodytan och skapar ett kraftigt joniserat plasma. Anoden kan antingen vara en kon fastsatt till katodens periferi, med hjälp av isolatorer, eller till kammaren. Substratet förspänns så att icke-synlig beläggning kan ske. ANM.: Denna definition omfattar inte slumpmässig katodstrålebeläggning utan förspänt substrat.

5. Jonplätering är en speciell modifikation av den vanliga TE-PVD-processen, varvid ett plasma eller en jonkälla används för att jonisera de ämnen som ska användas för beläggning, och en negativ förspänning läggs på substratet för att underlätta extraktionen av de ämnen som ska deponeras från plasman. Införandet av reaktiva ämnen, förångning av fasta material i kammaren samt användning av monitorer för att under processen mäta beläggningens optiska egenskaper och tjocklek är vanliga modifieringar av denna process.

c)

Pack Cementation är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess varvid substratet packas in i en pulverblandning (pack) som består av Substratet och pulverblandningen placeras i en retort som upphettas till en temperatur mellan 1030 K (757 °C) och 1375 K (1102 °C) i tillräckligt lång tid för att beläggningen ska ske.

1. metallpulver som ska utgöra beläggningen (vanligtvis aluminium, krom, kisel eller kombinationer av dessa),

2. en aktivator (vanligtvis ett halogent salt), och

3. ett ballastpulver, oftast aluminium.

d)

Plasmasprutning är en ytbehandlingsprocess i vilken en kanon (blåslampa), som producerar och styr ett plasma tar emot pulver eller tråd av beläggningsmaterialet, smälter det och skjuter det mot ett substrat, varpå en integrerad sammanfogning sker. Plasmasprutning kan antingen ske som lågtryckssprutning eller höghastighetssprutning. ANM. 1: Med lågtryck avses lägre tryck än omgivande atmosfärtryck. ANM. 2: Med höghastighet avses en gashastighet vid sprutmunstycket som överskrider 750 m/s beräknat vid 293 K (20 °C) och 0,1 MPa.

e)

Målningsbeläggning är en ytförändringsprocess eller en överlagringsbeläggningsprocess i vilken ett metalliskt eller keramiskt pulver med ett organiskt bindemedel uppslammas i en vätska och appliceras på ett substrat genom antingen sprutning, doppning eller målning, med påföljande luft- eller ugnstorkning, samt värmebehandling för att uppnå önskad beläggning.

f)

Sputteringbeläggning är en överlagringsbeläggningsprocess som baseras på impulsöverföringsfenomen, varvid positiva joner accelereras av ett elektriskt fält mot ytan av ett mål (beläggningsmaterialet). Den kinetiska energin hos de laddade jonerna är tillräcklig för att atomer från ytan ska frigöras och beläggas på det lämpligt placerade substratet. ANM. 1: Tabellen hänvisar endast till triod-, magnetron- eller reaktiv sputteringbeläggning som används för att öka vidhäftningen av beläggningen samt radiofrekvent (RF)-förstärkt sputteringbeläggning som används för att tillåta förångning i icke metalliska beläggningsmaterial. ANM. 2: Lågenergijonstrålar (mindre än 5 keV) kan användas för att aktivera beläggningen.

g)

Jonimplantation är en ytförändringsbeläggningsprocess i vilken det ämne som ska legeras joniseras, accelereras genom en potentialgradient och förs in till ytregionen för substratet. Detta inbegriper processer där jonimplantationen sker samtidigt med fysisk förångningsdeposition med elektronstråle eller sputteringbeläggning.

KATEGORI 3 ELEKTRONIK

3A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2.

System, utrustning och komponenter Anmärkning 1: Kontrollstatusen för den utrustning och de komponenter som beskrivs i avsnitt 3A001 eller 3A002, förutom för de som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.10, 3A001.a.12 eller 3A001.a.13 och som är speciellt konstruerade för eller som har samma funktionella egenskaper som annan utrustning, bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus. Anmärkning 2: Kontrollstatusen för de integrerade kretsar som beskrivs i avsnitt 3A001.a.3–3A001.a.9, 3A001.a.12 eller 3A001.a.13 och som är icke föränderligt programmerade till eller konstruerade för en speciell funktion för en annan utrustning bestäms av den andra utrustningens kontrollstatus. ANM.: Om en tillverkare eller sökande inte kan avgöra den andra utrustningens kontrollstatus, bestäms de integrerade kretsarnas kontrollstatus av avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.9, 3A001.a.12 och 3A001.a.13. 3A 3A001 Elektroniska komponenter och speciellt konstruerade komponenter till dessa, enligt följande: 3A002 Elektronisk utrustning med allmän användning enligt följande: 3A003 Värmestyrningssystem för kallsprutning som använder en sluten slinga med inkapslad vätskehanterings- och rekonditioneringsutrustning där en dielektrisk vätska sprutas in i den elektroniska komponenten med hjälp av särskilt konstruerade sprutmunstycken som är konstruerade för att hålla de elektroniska komponenterna inom respektive temperaturområde, och särskilt konstruerade komponenter till dessa. 3A101 Elektroniska utrustningar, enheter och komponenter, andra än de som specificeras i avsnitt 3A001, enligt följande: 3A102 Termiska batterier som är utformade eller modifierade för missiler. Med termiska batterier avses i avsnitt 3A102 engångsbatterier som innehåller ett fast icke-ledande oorganiskt salt som elektrolyt. Dessa batterier innehåller ett pyrotekniskt material som när det antänds smälter elektrolyten och aktiverar batteriet. Med missil avses i avsnitt 3A102 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfarkoster med en räckvidd som överstiger 300 km. 3A201 Elektroniska komponenter som inte specificeras i avsnitt 3A001, enligt följande: 3A225 Frekvensomvandlare eller generatorer, andra än de som specificeras i avsnitt 0B001.b.13, som kan användas som motordrivsystem med variabel eller fast switchfrekvens och som uppfyller samtliga följande villkor: ANM. 1: Programvara som är särskilt konstruerad för att öka eller frigöra prestandan hos en frekvensomvandlare eller generator för att uppfylla kriterierna enligt avsnitt 3A225 specificeras i avsnitt 3D225. ANM. 2: Teknik i form av koder eller nycklar för att öka eller frigöra prestandan hos en frekvensomvandlare eller generator för att uppfylla kriterierna enligt avsnitt 3A225 specificeras i avsnitt 3E225. Anmärkning: Avsnitt 3A225 omfattar inte frekvensomvandlare eller generatorer som har begränsningar i sin maskinvara, programvara eller teknik som begränsar prestandan till att vara lägre än vad som anges ovan, under förutsättning att de uppfyller något av följande: Frekvensomvandlare i avsnitt 3A225 benämns också med de engelska beteckningarna converters eller inverters. Frekvensomvandlare enligt 3A225 kan även saluföras som frekvensomformare, generatorer, elektronisk mätutrustning, AC-kraftaggregat, motorstyrsystem med variabel hastighet, Variable Speed Motors Drives, Variable Speed Drives (VSD), Variable Frequency Drives (VFD), Adjustable Frequency Drives (AFD) eller Adjustable Speed Drives (ASD). 3A226 Likströmsaggregat med hög effekt, andra än de som specificeras i avsnitt 0B001.j.6, och som uppfyller följande båda villkor: 3A227 Högspänning-likströmsaggregat, andra än de som specificeras i avsnitt 0B001.j.5, och som uppfyller följande båda villkor: 3A228 Brytarenheter enligt följande: 3A229 Pulsgeneratorer för hög strömstyrka enligt följande: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. 3A230 Snabba pulsgeneratorer, och pulshuvuden till dessa, som har båda följande egenskaper: I avsnitt 3A230 definieras stigtid för pulsen som tidsintervallet mellan 10 % och 90 % av spänningsamplituden. Pulshuvuden är impulsformande kretsar som är konstruerade för att acceptera ett spänningssteg och omvandla det till olika pulsformer som kan vara av typen rektangulär, triangulär, steg-, impuls-, exponentiell eller monocyklisk. Pulshuvudet kan vara en integrerad del av pulsgeneratorn, vara en plug-in-modul som ansluts till pulsgeneratorn, eller en extern enhet som kopplas till pulsgeneratorn. 3A231 Neutrongeneratorsystem, även rör, som har följande två egenskaper: 3A232 System för flerpunktständning, som inte specificeras i avsnitt 1A007, enligt följande: ANM.: SE ÄVEN KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. ANM.: Se avsnitt 1A007.b för sprängkapslar. Anmärkning.: Avsnitt 3A232 omfattar inte detonatorer som endast använder primära explosiver såsom blyazid. 3A233 Masspektrometrar, andra än de som specificeras i avsnitt 0B002.g, som kan mäta joner med en massa av 230 amu (amu = atommassenhet) eller mer och som har en upplösning bättre än 2/230, samt jonkällor till sådana, enligt följande: Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) enligt 3A233.d kallas också EI-masspektrometrar (electron impact mass spectrometers eller electron ionization mass spectrometers). I avsnitt 3A233.d.2 avses med kylfälla en anordning som fångar in gasmolekylser genom att kondensera eller frysa dem på kalla ytor. I avsnitt 3A233.d.2 omfattas inte kryogeniska vakuumpumpar med helium i ett slutet system av begreppet kylfälla. 3A234 Striplines för att skapa banor med låg induktans för detonatorer med följande egenskaper:

3A a)

Integrerade kretsar för allmänna ändamål, enligt följande: Anmärkning 1: Kontrollstatusen för wafers (färdigbearbetade eller obearbetade), vars funktion har fastställts, ska bedömas efter parametrarna i avsnitt 3A001.a. Anmärkning 2: Integrerade kretsar omfattar följande typer:

Monolitiska integrerade kretsar.

Integrerade hybridkretsar.

Integrerade multikretsar.

Integrerade kretsar av filmtyp inklusive integrerade kretsar av typ kisel på safir.

Optiska integrerade kretsar.

Tredimensionella integrerade kretsar.

1. Integrerade kretsar som har konstruerats eller specificerats för att vara motståndskraftiga mot en total strålning enligt någon av följande parametrar:

1. a)

En total dos om minst 5 × 103 Gy (kisel),

b)

en dosratsändring genom störning om minst 5 × 106 Gy (kisel)/s eller

c)

en fluens (integrerat flöde) av neutroner (1 MeV ekvivalent) på 5 × 1013 n/cm2 eller högre på kisel, eller dess ekvivalent för andra material. Anmärkning: 3A001 a.1.c omfattar inte halvledare av metallisolatortyp (MIS - Metal Insulator Semiconductors).

2. Mikroprocessor-mikrokretsar, mikrodator-mikrokretsar, mikrocontroller-mikrokretsar, integrerade minneskretsar tillverkade av blandade halvledare, analog-till digital omvandlare, digital-till-analog-omvandlare, elektro-optiska eller optiska integrerade kretsar konstruerade för signalbehandling, fältprogrammerbara logiska komponenter, kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kontrollstatusen hos den utrustning i vilken kretsarna ska användas är okänd, processorer för Fast Fourier-transformation (FFT), elektriskt raderbara PROM-minnen (EEPROM), flash-minnen eller statiska RAM (SRAM) med någon av följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 3A001.a.2 omfattar inte integrerade kretsar som konstruerats för civila bil- eller tågapplikationer.

2. a)

Specificerade för drift i omgivningstemperaturer över 398 K (125 °C).

b)

Specificerade för drift i omgivningstemperaturer under 218 K (- 55 °C).

c)

Specificerade för drift i omgivningstemperaturer inkluderande hela intervallet från 218 K (- 55 °C) till och med 398 K (125 °C).

3. Mikroprocessor-mikrokretsar, mikrodator-mikrokretsar och mikrocontroller-mikrokretsar tillverkade av en halvledare med blandade material och som har en klockfrekvens som överstiger 40 MHz. Anmärkning: Avsnitt 3A001.a.3 omfattar digitala signalprocessorer, digitala matrisprocessorer (array processors) och digitala hjälpprocessorer (coprocessors).

4. Används inte.

5. Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. 3A001 a) 5.Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.

3A001 a) Integrerade kretsar med analog-till-digitalomvandlare (ADC) och digital-till-analog-omvandlare (DAC) enligt följande: En upplösning på n bitar motsvarar en kvantisering av 2n nivåer. Antalet bitar i utdataord är lika med upplösningen i ADC:n. Dataöverföringshastigheten är omvandlarens maximala dataöverföringshastighet, oavsett arkitektur eller översampling. För flerkanals-ADC ska dataöverföringshastigheterna inte läggas ihop, och dataöverföringshastigheten är den maximala dataöverföringshastigheten för en enstaka kanal. För interfolierade ADC (interleaved ADC’s) eller för flerkanals-ADC som är specificerad till att drivas interfolierat, ska dataöverföringshastigheterna läggas ihop och dataöverföringshastigheten är den maximala sammanlagda totala dataöverföringshastigheten av all dataöverföring. Säljare kan även med dataöverföringshastighet mena samplingshastigheten, omvandlingshastigheten eller kapaciteten. Den anges ofta i megahertz (MHz) eller miljoner sampel per sekund (Msps). I syfte att mäta överföringshastigheten motsvarar ett utdataord per sekund en hertz eller ett sampel per sekund. Flerkanals-ADC definieras som anordningar som integrerar mer än en ADC och har konstruerats så att varje ADC har en separat analog ingång. Interfolierade ADC (Interleaved ADC’s) definieras som anordningar med flera ADC-enheter som samplar samma analoga ingång vid skilda tidpunkter så att den analoga insignalen, när utsignalerna läggs samman, faktiskt har samplats och konverterats med högre samplingshastighet. Spuriosfritt dynamiskt område (SFDR) definieras som kvoten av RMS-värdet för bärfrekvensen (maximisignalkomponent) på digitalomvandlarens ingång och RMS-värdet av den näst största bruskomponenten eller komponenten av harmonisk distorsion på dess utgång. SFDR fastställs direkt i specifikationstabellen eller med utgångspunkt i karaktäriseringsdiagrammen med SFDR mot frekvens. En signal definieras som fullskalig när amplituden är större än -3 dBfs (full skala). Justerad uppdateringshastighet för DAC:

5. a)

ADC som har någon av följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 3A101.

1. en upplösning på 8 bitar eller mer, men mindre än 10 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 1000 miljoner ord per sekund,

2. en upplösning på 10 bitar eller mer, men mindre än 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 300 miljoner ord per sekund,

3. en upplösning på 12 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 200 miljoner ord per sekund,

4. en upplösning på mer än 12 bitar, men högst 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 125 miljoner ord per sekund, eller

5. en upplösning på mer än 14 bitar med en dataöverföringshastighet som är högre än 20 miljoner ord per sekund.

5. Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. b)

Digital-till-analog-omvandlare (DAC) som har någon av följande egenskaper:

1. En upplösning på minst 10 bitar med en justerad uppdateringshastighet på minst 3500 MSPS.

2. En upplösning på minst 12 bitar med en justerad uppdateringshastighet på minst 1250 Msps och med

2. a)

en inställningstid på mindre än 9 ns till nivån 0,024 % av fullskala från ett fullskalesteg, eller

b)

ett spuriosfritt dynamiskt område (SFDR) som är större än 68 dBc (bärare) vid syntetisering av en fullskalig analog signal på 100 MHz eller den högsta fullskaliga analoga signalen under 100 MHz.

5. Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.5.6.7.8.9. 3A001 a) 5.Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4. a)

För konventionella (icke-interpolerande) DAC:ar avses med justerad uppdateringshastighet den hastighet med vilken den digitala signalen omvandlas till en analog signal och utgångens analoga värden ändras av DAC:en. För DAC där det går att koppla förbi interpoleringsmoden (interpolationsfaktorn är ett), bör DAC anses vara konventionella (icke-interpolerande) DAC.

b)

För en interpolerande DAC (översamplande DAC) definieras justerad uppdateringshastighet som DAC:ens uppdateringshastighet dividerat med den minsta interpolationsfaktorn. För en interpolerande DAC kan justerad uppdateringshastighet även kallas

indatahastighet (input data rate)

inordhastighet (input word rate)

insamplingshastighet (input sample rate)

högsta sammanlagda inbusshastighet (maximum total input bus rate)

högsta DAC-klockfrekvens för DAC-klockinsignalen (maximum DAC clock rate for DAC clock input).

6. Elektro-optiska eller optiska integrerade kretsar konstruerade för signalbehandling som har alla följande egenskaper:

6. a)

En eller flera interna laser-dioder,

b)

ett eller flera interna ljusdetekterande element, och

c)

optiska vågledare.

7. 3A001 a) 7.Tekniska anmärkningar: 1.2.3.

Fältprogrammerbara logiska komponenter med något av följande: Anmärkning: Avsnitt 3A001.a.7 omfattar följande: Fältprogrammerbara logiska komponenter betecknas även fältprogrammerbara grindmatriser eller fältprogrammerbara logiska matriser. Det maximala antalet digitala inmatningar/utmatningar i avsnitt 3A001.a.7.a betecknas också det maximala antalet inmatningar/utmatningar för användaren eller det maximala antalet tillgängliga inmatningar/utmatningar, oavsett om den integrerade kretsen är inkapslad eller ej. Med högsta totala datahastighet för överföring via enkelriktade serietranceivers avses produkten av den högsta dataöverföringshastigheten hos transceivern multiplicerat med antalet tranceivrar i den fältprogrammerbara grindmatrisen (FPGA).

7. a)

Det maximala antalet enpoliga digitala inmatningar/utmatningar är 500 eller mer, eller

b)

en högsta totala datahastighet för överföring via enkelriktade serietranceivers på 200 Gb/s eller mer.

Enkla programmerbara logiska komponenter (SPLD)

Komplexa programmerbara logiska komponenter (CPLD)

Fältprogrammerbara grindmatriser (FPGA)

Fältprogrammerbara logiska matriser (FPLA)

Fältprogrammerbara kopplingar (FPIC)

8. Används inte.

9. Integrerade kretsar för neurala nätverk.

10. Kundanpassade integrerade kretsar för vilka antingen funktionen är okänd eller kretstillverkaren saknar uppgift om kontrollstatusen hos den utrustning där kretsarna ska ingå och där något av följande villkor är uppfyllt:

10. a)

Fler än 1500 anslutningar,

b)

den typiska grindfördröjningstiden är kortare än 0,02 ns, eller

c)

arbetsfrekvensen överstiger 3 GHz.

11. Andra digitala kretsar än de som beskrivits i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.10 och 3A001.a.12 och som baseras på en blandning av halvledarmaterial, med något av följande:

11. a)

Ett antal grindekvivalenter som är större än 3000 (grindar med 2 ingångar), eller

b)

en vippfrekvens som överstiger 1,2 GHz.

12. Teknisk anmärkning:

Processorer för Fast Fourier Transform (FFT) och som har en specificerad verkställighetstid som är mindre än (N log2 N) /20480 ms, för en N-punkters komplex FFT, där N är antalet punkter. När N är lika med 1024 punkter ger formeln i 3A001.a.12 en verkställighetstid på 500 μs.

13. Teknisk anmärkning:

Integrerade kretsar för Direct Digital Synthesizer (DDS) som har något av följande: DAC-klockfrekvensen kan specificeras som masterklockfrekvens eller ingångsklockfrekvens.

13. a)

Digital-till analog-omvandlaren (DAC) som har en klockfrekvens på minst 3,5 GHz och en upplösning på minst 10 bit men mindre än 12 bit, eller

b)

en DAC-klockfrekvens på minst 1,25 GHz och en DAC-upplösning på 12 bit eller mer.

b) Teknisk anmärkning:

Mikrovåg- eller millimetervågutrustning, enligt följande: I samband med avsnitt 3A001.b kan parametern maximal toppeffekt (peak saturated power output) på ett produktdatablad också anges som uteffekt, mättad topputeffekt, maximal uteffekt, uttoppeffekt, eller maximal topputeffekt (PEP).

1. 3A001 b) Elektroniska vakuumrör och katoder enligt följande: Anmärkning 1: Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte sådana rör som är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband och som uppfyller alla följande egenskaper: Anmärkning 2: Avsnitt 3A001.b.1 omfattar inte icke-rymdkvalificerade rör som uppfyller följande:

1. a.

De överstiger inte 31,8 GHz och

b)

de är tilldelade av ITU för radiokommunikationstjänster, men inte för radiobestämning.

a)

De har en genomsnittlig uteffekt på högst 50 W, och

b)

de är tillverkade eller specificerade för att fungera i frekvensband som har alla följande egenskaper:

1. De överstiger 31,8 GHz, men överstiger inte 43,5 GHz, och

2. de är tilldelade av ITU för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning.

a)

Vandringsvågrör, för pulsad eller kontinuerlig drift, enligt följande:

1. Rör som kan arbeta vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.

2. Rör som har en katodupphettning som möjliggör full högfrekvensdrift på kortare tid än 3 s efter tillslag.

3. Rör som har kopplade kaviteter eller är utvecklingar av sådana rör med en relativ bandbredd som är större än 7 % eller en toppeffekt som överskrider 2,5 kW.

4. Helix-rör, eller utvecklingar av dessa, som uppfyller något av följande:

4. a)

De har en effektbandbredd som är mer än en oktav och produkten av den specificerade genomsnittliga uteffekten (uttryckt i kW) och den högsta arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 0,5,

b)

de har en effektbandbredd som är en oktav eller mindre, och produkten av den specificerade uteffekten (uttryckt i kW) och den maximala specificerade arbetsfrekvensen (uttryckt i GHz) överstiger mätetalet 1, eller

c)

de är rymdkvalificerade.

b)

Korsfältsförstärkarrör med en förstärkning på mer än 17 dB.

c)

Impregnerade katoder konstruerade för elektronrör som producerar en kontinuerlig emissionsströmtäthet på mer än 5 A/cm2.

2. Effektförstärkare för monolitiska integrerade kretsar som arbetar inom mikrovågsområdet (MMIC-effektförstärkare) som är något av följande: Anmärkning 1: Används inte. Anmärkning 2: Kontrollstatusen för MMIC vars specificerade arbetsfrekvens omfattar frekvenser i mer än ett frekvensområde, enligt definitionerna i avsnitten 3A001.b.2.a–3A001.b.2.h, bestäms genom angivna parametrar för lägsta tröskelvärde för maximal toppeffekt. Anmärkning 3: Anmärkningarna 1 och 2 i 3A innebär att avsnitt 3A001.b.2 inte omfattar MMIC som speciellt är konstruerade för andra tillämpningar, t.ex. telekommunikation, radar och bilar.

2. a)

De är specificerade för frekvenser över 2,7 GHz och upp till och med 6,8 GHz med en relativ bandbredd som är större än 15 % och har någon av följande egenskaper:

1. En maximal toppeffekt på mer än 75 W (48,75 dBm) vid frekvenser över 2,7 GHz till och med 2,9 GHz,

2. en maximal toppeffekt på mer än 55 W (47,4 dBm) vid frekvenser över 2,9 GHz till och med 3,2 GHz,

3. en maximal toppeffekt på mer än 40 W (46 dBm) vid frekvenser över 3,2 GHz till och med 3,7 GHz, eller

4. en maximal toppeffekt på mer än 20 W (43 dBm) vid frekvenser över 3,7 GHz till och med 6,8 GHz.

b)

3A001 b) 2. De är specificerade för frekvenser över 6,8 GHz och upp till och med 16 GHz med en relativ bandbredd som är större än 10 % och har någon av följande egenskaper:

1. En maximal toppeffekt på mer än 10 W (40 dBm) vid frekvenser över 6,8 GHz till och med 8,5 GHz, eller

2. en maximal toppeffekt på mer än 5 W (37 dBm) vid frekvenser över 8,5 GHz till och med 16 GHz.

c)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 3 W (34,77 dBm) vid frekvenser över 16 GHz till och med 31,8 GHz, och med en relativ bandbredd på över 10 %.

d)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 0,1 nW (-70 dBm) vid frekvenser över 31,8 GHz till och med 37 GHz.

e)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 1 W (30 dBm) vid frekvenser över 37 GHz till och med 43,5 GHz, och med en relativ bandbredd på över 10 %.

f)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 31,62 mW (15 dBm) vid frekvenser över 43,5 GHz till och med 75 GHz, och med en relativ bandbredd på över 10 %.

g)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 10 mW (10 dBm) vid frekvenser över 75 GHz till och med 90 GHz, och med en relativ bandbredd på över 5 %.

h)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 0,1 nW (-70 dBm) vid frekvenser över 90 GHz.

3. Diskreta mikrovågstransistorer som är något av följande: Anmärkning 1: Kontrollstatusen för transistorer vars specificerade arbetsfrekvens omfattar frekvenser i mer än ett frekvensområde, enligt definitionen i avsnitten 3A001.b.3.a–3A001.b.3.e, bestäms genom angivna parametrar för lägsta tröskelvärde för maximal toppeffekt. Anmärkning 2: Avsnitt 3A001.b.3 omfattar rena chip, chip moterat på bärare eller chip monterat i kapslingar. Vissa diskreta transistorer kan även refereras till som effektförstärkare, men status för dessa diskreta transistorer bestäms av avsnitt 3A001.b.3.

3. a)

De är specificerade för frekvenser över 2,7 GHz och upp till och med 6,8 GHz och har någon av följande egenskaper:

1. En maximal toppeffekt på mer än 400 W (56 dBm) vid frekvenser över 2,7 GHz till och med 2,9 GHz,

2. en maximal toppeffekt på mer än 205 W (53,12 dBm) vid frekvenser över 2,9 GHz till och med 3,2 GHz,

3. en maximal toppeffekt på mer än 115 W (50,61 dBm) vid frekvenser över 3,2 GHz till och med 3,7 GHz, eller

4. en maximal toppeffekt på mer än 60 W (47,78 dBm) vid frekvenser över 3,7 GHz till och med 6,8 GHz.

b)

De är specificerade för frekvenser över 6,8 GHz och upp till och med 31,8 GHz och har någon av följande egenskaper:

1. En maximal toppeffekt på mer än 50 W (47 dBm) vid frekvenser över 6,8 GHz till och med 8,5 GHz,

2. 3A001 b) 3. b) en maximal toppeffekt på mer än 15 W (41,76 dBm) vid frekvenser över 8,5 GHz till och med 12 GHz,

3. en maximal toppeffekt på mer än 40 W (46 dBm) vid frekvenser över 12 GHz till och med 16 GHz, eller

4. en maximal toppeffekt på mer än 7 W (38,45 dBm) vid frekvenser över 16 GHz till och med 31,8 GHz.

c)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 0,5 W (27 dBm) vid frekvenser över 31,8 GHz till och med 37 GHz.

d)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 1 W (30 dBm) vid frekvenser över 37 GHz till och med 43,5 GHz.

e)

De är specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 0,1 nW (-70 dBm) vid frekvenser över 43,5 GHz.

4. Halvledarbestyckade mikrovågsförstärkare och mikrovågsutrustningar/moduler som innehåller halvledarbestyckade mikrovågsförstärkare, som är något av följande: ANM.: MMIC-effektförstärkare ska bedömas mot bakgrund av kriterierna i avsnitt 3A001.b.2. Anmärkning 1: Används inte. Anmärkning 2: Kontrollstatusen för en produkt vars specificerade arbetsfrekvens omfattar frekvenser i mer än ett frekvensområde, enligt definitionen i avsnitten 3A001.b.4.a–3A001.b.4.e bestäms genom angivna parametrar för lägsta tröskelvärde för maximal toppeffekt. Anmärkning 3: Avsnitt 3A001.b.4 omfattar sändar/mottagarmoduler och sändarmoduler.

4. a)

Specificerade för frekvenser över 2,7 GHz och upp till och med 6,8 GHz med en relativ bandbredd som är större än 15 % och som har någon av följande egenskaper:

1. En maximal toppeffekt på mer än 500 W (57 dBm) vid frekvenser över 2,7 GHz till och med 2,9 GHz,

2. en maximal toppeffekt på mer än 270 W (54,3 dBm) vid frekvenser över 2,9 GHz till och med 3,2 GHz,

3. en maximal toppeffekt på mer än 200 W (53 dBm) vid frekvenser över 3,2 GHz till och med 3,7 GHz, eller

4. en maximal toppeffekt på mer än 90 W (49,54 dBm) vid frekvenser över 3,7 GHz till och med 6,8 GHz.

b)

Specificerade för frekvenser över 6,8 GHz och upp till och med 31,8 GHz med en relativ bandbredd som är större än 10 % och som har någon av följande egenskaper:

1. En maximal toppeffekt på mer än 70 W (48,54 dBm) vid frekvenser över 6,8 GHz till och med 8,5 GHz,

2. en maximal toppeffekt på mer än 50 W (47 dBm) vid frekvenser över 8,5 GHz till och med 12 GHz,

3. en maximal toppeffekt på mer än 30 W (44,77 dBm) vid frekvenser över 12 GHz till och med 16 GHz, eller

4. en maximal toppeffekt på mer än 20 W (43 dBm) vid frekvenser över 16 GHz till och med 31,8 GHz.

c)

Specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 0,5 W (27 dBm) vid frekvenser över 31,8 GHz till och med 37 GHz.

d)

3A001 b) 4. Specificerade för drift med en maximal toppeffekt på mer än 2 W (33 dBm) vid frekvenser över 37 GHz till och med 43,5 GHz, och med en relativ bandbredd på över 10 %.

e)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 43,5 GHz och uppfyller något av följande villkor:

1. Maximal toppeffekt på mer än 0,2 W (23 dBm) vid frekvenser över 43,5 GHz till och med 75 GHz, och med en relativ bandbredd på över 10 %,

2. maximal toppeffekt på mer än 20 mW (13 dBm) vid frekvenser över 75 GHz till och med 90 GHz, och med en relativ bandbredd på över 5 %, eller

3. maximal toppeffekt på mer än 0,1 nW (-70 dBm) vid frekvenser över 90 GHz.

f)

De är specificerade för frekvenser som överstiger 2,7 GHz och uppfyller samtliga följande villkor:

1. En topputeffekt (i watt), Psat, som överstiger 400 dividerat med en maximal arbetsfrekvens (i GHz) i kvadrat [Psat > 400 W*GHz2/fGHz2].

2. De har en relativ bandbredd på 5 % eller mer.

3. Teknisk anmärkning:

Två av sidorna är vinkelräta med en längd d, (i cm) som är lika med eller mindre än 15 dividerat med den lägsta arbetsfrekvensen i GHz [d≤ 15 cm*GHz/ fGHz]. 2,7 GHz bör användas som den lägsta arbetsfrekvensen (fGHz) i formeln i avsnitt 3A001.b.4.f.3, för förstärkare som har en specificerad arbetsfrekvens som sträcker sig ner till 2,7 GHz och lägre [d≤ 15 cm*GHz/2,7 GHz].

5. Elektroniskt eller magnetiskt avstämbara bandpass- eller bandstoppfilter, som har mer än 5 avstämbara resonatorer och som kan avstämmas inom ett frekvensband (fmax./fmin.) = 1,5:1 på mindre än 10 μs, och som har något av följande:

5. a)

En bandbredd på mer än 0,5 % av mittfrekvensen för bandpassfiltret, eller

b)

en bandbredd på mindre än 0,5 % av mittfrekvensen för bandstoppfiltret.

6. Används inte.

7. Omvandlare och harmoniska blandare som är konstruerade för att utöka frekvensområdet för utrustning som beskrivs i avsnitt 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e eller 3A002.f utanför vad som stadgas i dessa avsnitt.

8. 3A001 b) Effektförstärkare för mikrovåg som innehåller rör som specificeras i avsnitt 3A001.b.1 och som har alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 3A001.b.8 omfattar inte utrustning som är konstruerad eller specificerad för att arbeta i frekvensband som är tilldelade av ITU för radiokommunikationstjänster men inte för radiobestämning.

8. a)

Arbetsfrekvensen är över 3 GHz,

b)

ett genomsnittligt förhållande mellan effekt och massa som överstiger 80 W/kg, och

c)

en volym som är mindre än 400 cm3.

9. Tekniska anmärkningar: 1.2.

Effektmoduler för mikrovåg (MPM) som består av åtminstone ett vandringsvågrör, en monolitisk integrerad krets för mikrovåg och en integrerad elektronisk effektkonditionerare och som har följande egenskaper: För beräkning av volymen i avsnitt 3A001.b.9.b ges följande exempel: För en maximal specificerad effekt på 20 W blir volymen 20 W × 10 cm3/W = 200 cm3. Tillslagstiden i avsnitt 3A001.b.9.a avser tiden från helt avstängd till full drift, dvs. inklusive uppvärmningstiden för MPM.

9. a)

En tillslagstid från avstängd till full drift som är mindre än 10 sekunder,

b)

en volym som understiger den maximala specificerade effekten i W multiplicerad med 10 cm3/W, och

c)

en effektbandbredd som större än en (1) oktav (fmax. > 2fmin.) och med någon av följande egenskaper:

1. För frekvenser som är högst 18 GHz, en uteffekt i radiofrekvensområdet som överstiger 100 W, eller

2. 2. en frekvens som överstiger 18 GHz.

10. Teknisk anmärkning:

Oscillatorer eller sammansättningar av oscillatorer som specificerats för drift med alla följande egenskaper: I avsnitt 3A001.b.10 är F frekvensförskjutningen från arbetsfrekvensen i Hz och f är arbetsfrekvensen i MHz.

10. a)

Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än - (126 + 20log10F-20log10f) någonstans i bandet 10 Hz < F < 10 kHz.

b)

Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som är bättre än - (114 + 20log10F-20log10f) någonstans i bandet 10 kHz ≤ F < 500 kHz.

11. Frekvenssyntesutrustning med elektroniska sammansättningar med en tid för att byta frekvens enligt något av följande: ANM.: För signalanalysatorer, signalgeneratorer, nätverksanalysatorer och testmottagare för mikrovåg avsedda för allmän användning se avsnitten 3A002.c, 3A002.d, 3A002.e respektive 3A002.f.

11. a)

Mindre än 156 ps.

b)

Mindre än 100 μs för varje frekvensbyte som överstiger 1,6 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 4,8 GHz men inte 10,6 GHz.

c)

Mindre än 250 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 10,6 GHz men inte 31,8 GHz.

d)

Mindre än 500 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 31,8 GHz men inte 43,5 GHz.

e)

3A001 b) 11. Mindre än 1 ms för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 56 GHz.

f)

Mindre än 1 ms för varje frekvensbyte som överstiger 2,2 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 56 GHz men inte 75 GHz.

g)

Mindre än 1 ms inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 75 GHz.

c)

Anordningar för akustiska vågor, enligt följande, och speciellt konstruerade komponenter till dessa: Anmärkning: Avsnitt 3A001.c omfattar inte anordningar för akustiska vågor som begränsas till enkelbandpass-, lågpass-, högpass- eller notch-filtrering eller resonansfunktion.

1. Teknisk anmärkning:

Anordningar för akustiska ytvågor samt för akustiska vågor nära ytan (shallow bulk) som har någon av följande egenskaper: Frekvensundertryckningen av sidloben är det maximala undertryckningsvärde som anges i databladet.

1. a)

Bärfrekvensen överstiger 6 GHz.

b)

Bärfrekvensen överstiger 1 GHz, men inte 6 GHz, och de har någon av följande egenskaper:

1. Frekvensundertryckningen av sidloben överstiger 65 dB,

2. produkten av maximala fördröjningstiden och bandbredden (tid i μs och bandbredd i MHz) överstiger 100,

3. bandbredden överstiger 250 MHz,

4. dispersionsfördröjningen är mer än 10 μs,

c)

Bärfrekvensen är 1 GHz eller lägre och den har någon av följande egenskaper:

1. Produkten av maximala fördröjningstiden och bandbredden (tid i μs och bandbredd i MHz) överstiger 100,

2. dispersionsfördröjningen är mer än 10 μs, eller

3. frekvensundertryckningen av sidloben överstiger 65 dB och bandbredden är större än 100 MHz,

2. Anordningar för s.k. bulk-vågor som direkt kan behandla signaler med frekvenser som överstiger 6 GHz.

3. Akustisk-optiska anordningar för signalbehandling som medger ömsesidig påverkan mellan akustiska vågor (s.k. bulk-vågor eller ytvågor) och ljusvågor och som tillåter direkt signal- eller bildbehandling, inklusive spektralanalys, korrelation och konvolution.

d)

Elektroniska enheter och kretsar som innehåller komponenter tillverkade av supraledande material, speciellt konstruerade för drift vid temperaturer under den kritiska temperaturen för åtminstone en av dess supraledande beståndsdelar, och som är försedda med något av följande:

1. Strömomkoppling i digitala kretsar med användning av supraledande grindar och där produkten av grindfördröjningstiden per grind (i sekunder) och effektförlusten per grind (i watt) är mindre än 10-14 J, eller

2. frekvensval för alla frekvenser med användning av resonanskretsar med Q-värden som överstiger 10000.

e)

3A001 Högenergienheter enligt följande:

1. Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.

Celler enligt följande: I avsnitt 3A001.e.1 beräknas energitäthet (Wh/kg) utifrån den nominella spänningen multiplicerad med den nominella kapaciteten i amperetimmar (Ah) dividerat med massan i kg. Om den nominella kapaciteten inte är specificerad beräknas energitätheten utifrån den nominella spänningen i kvadrat multiplicerad med urladdningstiden i timmar dividerat med urladdningsbelastningen i ohm och massan i kg. I avsnitt 3A001.e.1 definieras cell som en elektrokemisk enhet som har positiva och negativa elektroder och elektrolyt samt är en källa till elektrisk energi. Den är grundkomponenten i ett batteri. I avsnitt 3A001.e.1.a definieras primärcell som en cell som inte är avsedd att laddas genom någon annan källa. I avsnitt 3A001.e.1.b definieras sekundärcell som en cell som är avsedd att laddas genom en extern elektrisk källa. Anmärkning: Avsnitt 3A001.e.1 omfattar inte batterier, inbegripet batterier som består av en enda cell.

1. a)

Primärceller som har en energitäthet som överstiger 550 Wh/kg vid 20 °C.

b)

Sekundärceller som har en energitäthet som överstiger 300 Wh/kg vid 20 °C.

2. Högenergikondensatorer enligt följande: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 3A201.a. och kontrollbestämmelserna för varor med militär användning.

2. a)

Kondensatorer med en repetitionsfrekvens som understiger 10 Hz (enkelpulskondensatorer) och som har samtliga följande egenskaper:

1. En specificerad spänning lika med eller överstigande 5 kV,

2. en energitäthet lika med eller högre än 250 J/kg och

3. en total energi lika med eller större än 25 kJ.

b)

Kondensatorer med en repetitionsfrekvens som är lika med eller överstiger 10 Hz (repetitionsspecificerade kondensatorer) och som har samtliga följande egenskaper:

1. En specificerad spänning lika med eller överstigande 5 kV,

2. en energitäthet lika med eller högre än 50 J/kg,

3. en total energi lika med eller större än 100 J, och

4. en laddnings/urladdnings-livslängd som är lika med eller överstiger 10000 cykler.

3. Supraledande elektromagneter eller solenoider, speciellt konstruerade för att kunna helt laddas eller urladdas på mindre än 1 sekund och som har samtliga följande egenskaper: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 3A201.b. Anmärkning: Avsnitt 3A001.e.3 omfattar inte supraledande elektromagneter och solenoider som är speciellt konstruerade för att användas i medicinsk utrustning till magnetisk resonans bildbehandling (MRI).

3. a)

Energin som levereras vid urladdning överstiger 10 kJ under den första sekunden,

b)

innerdiametern på den strömförande lindningen är större än 250 mm, och

c)

är specificerad för en magnetisk induktion som är större än 8 T eller en total strömtäthet i lindningen som är större än 300 A/mm2.

4. Teknisk anmärkning:

3A001 e) Solceller, CIC-hopsättningar (cell-interconnect-coverglass), solpaneler och solmoduler som är rymdkvalificerade och har en minsta genomsnittlig verkningsgrad som överstiger 20 % vid en driftstemperatur på 301 K (28 °C) under simulerad AM0-belysning med en irradians på 1367 watt per kvadratmeter (W/m2). AM0 eller luftmassenollpunkt avser solljusets spektrala irradians i jordens yttre atmosfär där avståndet mellan jorden och solen är en astronomisk enhet (AU).

f)

Roterande kodare som anger positionens absolutvärde med en noggrannhet som är mindre (bättre) än ± 1,0 bågsekunder.

g) Teknisk anmärkning:

Pulsade effektomriktande halvledartyristorenheter och tyristormoduler som använder elektriskt eller optiskt styrda eller elektronstrålestyrda omriktningsmetoder och som har någon av följande egenskaper: Anmärkning 1: Avsnitt 3A001.g omfattar följande: Anmärkning 2: Avsnitt 3A001.g omfattar inte tyristorenheter och tyristormoduler som ingår i utrustning som är konstruerad för civila järnvägstillämpningar eller civila luftfartygs-tillämpningar. En tyristormodul i avsnitt 3A001.g innehåller en eller flera tyristorenheter.

g)

1. En maximal strömökningstakt vid påslagning (di/dt) som överstiger 30000 A/μs och en spänning i avstängt tillstånd som överstiger 1100 V.

2. En maximal strömökningstakt vid påslagning (di/dt) som överstiger 2000 A/μs och som har alla följande egenskaper:

2. a)

En toppspänning i avstängt tillstånd som är minst 3000 V.

b)

En toppström (strömstöt) som är minst 3000 A.

Kiselstyrda likriktare (SRC).

T-tyristorer (Electrical Triggering Thyristors).

LT-tyristorer (Light Triggering Thyristors).

IGC-tyristorer (Integrated Gate Commutated Thyristors).

GTO-tyristorer (Gate Turn-off Thyristors).

MOS-styrda tyristorer (MCT).

Solidtroner.

h) Teknisk anmärkning:

Effektomriktande halvledare, dioder eller moduler som har samtliga följande egenskaper: Anmärkning 1: I avsnitt 3A001.h inbegriper repetitiv toppspänning i frånläge drain till source-spänning, collector till emitter-spänning, repetitiv toppbackspänning och repetitiv toppblockeringsspänning i frånläge. 3A001 h)Anmärkning 2: Avsnitt 3A001.h omfattar följande: Anmärkning 3: Avsnitt 3A001.h omfattar inte effektomriktare, dioder eller moduler som ingår i utrustning som är konstruerad för civila motorfordonstillämpningar, civila järnvägstillämpningar eller civila luftfartygs-tillämpningar. En modul i avsnitt 3A001.h innehåller en eller flera effektomriktande halvledare eller dioder.

h)

1. Specificerade för en maximal gränsskiktstemperatur vid drift som överstiger 488 K (215 °C).

2. En repetitiv toppspänning i frånläge (blockeringsspänning) som överstiger 300 V.

3. En kontinuerlig strömstyrka som överstiger 1 A.

JFE-transistorer (Junction Field Effect Transistors).

VJFE-transistorer (Vertical Junction Field Effect Transistors).

MOSFE-transistorer (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors).

DMOSFE-transistorer (Double Diffused Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors).

IGB-transistorer (Insulated Gate Bipolar Transistors).

HEM-transistorer (High Electron Mobility Transistors).

BJ-transistorer (Bipolar Junction Transistors).

Tyristorer och kiselstyrda likriktare (SRC).

GTO-tyristorer (Gate Turn-off Thyristors).

ETO-tyristorer (Emitter Turn-off Thyristors).

PiN-dioder.

Schottkydioder.

a)

Inspelningsutrustning och oscilloskop enligt följande:

1. Används inte.

2. Används inte.

3. Används inte.

4. Används inte.

5. Tekniska anmärkningar: 1.2.

Utrustning för digitalisering av vågformer samt utrustning för registrering av transienter (transient recorders), med alla följande egenskaper: För sådana instrument, som är uppbyggda med en parallell bussarkitektur, är den kontinuerliga kapaciteten lika med högsta ordhastigheten multiplicerat med antalet bitar i ordet. Kontinuerlig kapacitet är den högsta datahastigheten som instrumentet kontinuerligt kan förse ett massminne med information utan att någon information går förlorad med bibehållen samplingsfrekvens och analog-till-digital konvertering.

5. a)

Digitaliseringshastigheten är lika med eller bättre än 200 miljoner samplingar per sekund och en upplösning på 10 bitar eller mer, och

b)

en kontinuerlig kapacitet på 2 Gbit/s eller mer.

6. Teknisk anmärkning:

3A002 a) Digital instrumentdataupptagningsutrustning som använder teknik för lagring av data på magnetskivor och har alla följande egenskaper, samt särskilt konstruerade digitala inspelare för detta: System med digital instrumentdataupptagningsutrustning kan konfigureras med en digitaliseringsenhet som är integrerad antingen inom eller utanför den digitala inspelningsutrustningen.

6. a)

Digitaliseringstakten för instrumentdata är lika med eller bättre än 100 miljoner samplingar per sekund och en upplösning på 8 bitar eller mer och

b)

en kontinuerlig kapacitet på 1 Gbit/s eller mer.

7. Realtidsoscilloskop med ett vertikalt effektivvärde (rms) för brusspänning på mindre än 2 % av fullt skalutslag på den vertikalskaleinställning som ger det lägsta brusspänningsvärdet för en ingående 3 dB-bandbredd på 60 GHz eller mer per kanal. Anmärkning: Avsnitt 3A002.a.7 omfattar inte oscilloskop för ekvivalent tidssampling.

b)

Används inte.

c)

Radiofrekvens-signalanalysatorer enligt följande:

1. Signalanalysatorer som har en upplösningsbandbredd (RBW) på 3 dB som överstiger 10 MHz varsomhelst i frekvensområdet över 31,8 GHz men inte över 37,5 GHz.

2. Signalanalysatorer som har en visad genomsnittlig brusnivå (DANL) som är lägre (bättre) än -150 dBm/Hz varsomhelst i frekvensområdet över 43,5 GHz men inte över 75 GHz.

3. Signalanalysatorer med en frekvens som överstiger 75 GHz.

4. Signalanalysatorer som har alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 3A002.c.4 omfattar inte de signalanalysatorer som endast använder filter som har en konstant procentuell bandbredd (kallas även oktavfilter eller filter för del av en oktav).

4. a)

Realtidsbandbredd som överstiger 85 MHz, och

b) Tekniska anmärkningar: 1.2.

100 % sannolikhet för upptäckt med mindre än 3 dB dämpning från full amplitud på grund av luckor eller fönstereffekter hos signaler med en varaktighet på 15 μs eller mindre. Sannolikhet för upptäckt (probability of discovery) i avsnitt 3A002.c.4.b betecknas på engelska även probability of intercept eller probability of capture. Varaktigheten för den 100-procentiga sannolikhet för upptäckt som avses i avsnitt 3A002.c.4.b ska vara lika med den minsta nödvändiga varaktighet på signalen för den specificerade mätosäkerheten.

5. Signalanalysatorer med en frekvensmasktrigg-funktion med 100 % sannolikhet för triggning (uppfångande) då signalens varaktighet är 15 μs eller mindre.

d) Tekniska anmärkningar: 1.2.

Signalgeneratorer där utgångssignalen genereras genom frekvenssyntes, där noggrannheten, kort- och långtidsstabiliteten kontrolleras från, avleds från eller korrigeras av en intern masterreferensoscillator och som har någon av följande egenskaper: Anmärkning 1: I avsnitt 3A002.d inkluderar signalgeneratorer där utgångssignalen genereras genom frekvenssyntes även godtyckliga vågforms- och funktionsgeneratorer. Anmärkning 2: Avsnitt 3A002.d omfattar inte utrustningar där utgångsfrekvensen produceras antingen genom addition eller subtraktion av två eller flera frekvenser från kristalloscillatorer eller genom en addition eller subtraktion följd av en multiplikation av resultatet. Den maximala syntetiskt erhållna frekvensen för en godtycklig vågform eller en funktionsgenerator beräknas genom att dividera samplingshastigheten i samplingar/sekund, med en faktor på 2,5. Med pulslängd avses i avsnitt 3A002.d.1.a tidsintervallet från pulsens framkant (50 % av amplituden) till pulsens bakkant (50 % av amplituden).

d)

1. Specificerad för att alstra pulsmodulerade signaler med alla följande egenskaper, varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 31,8 GHz men inte 75 GHz.

1. a)

En pulslängd på mindre än 100 ns, och

b)

en till/från-kvot på minst 65 dB.

2. 3A002 d) En uteffekt som överstiger 100 mW (20 dBm) varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 75 GHz.

3. En tid för att byta frekvens enligt något av följande:

3. a)

Används inte.

b)

Mindre än 100 μs för varje frekvensbyte som överstiger 1,6 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 4,8 GHz men inte 10,6 GHz.

c)

Mindre än 250 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 10,6 GHz men inte 31,8 GHz.

d)

Mindre än 500 μs för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 31,8 GHz men inte 43,5 GHz.

e)

Mindre än 1 ms för varje frekvensbyte som överstiger 550 MHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 56 GHz.

f)

Mindre än 1 ms för varje frekvensbyte som överstiger 2,2 GHz inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 56 GHz men inte 75 GHz.

4. Teknisk anmärkning:

Ett fasbrus i enkelt sidbandsläge (SSB), uttryckt i dBc/Hz, som enligt specifikationen är allt det följande: I avsnitt 3A002.d.4 är F frekvensförskjutningen från arbetsfrekvensen i Hz och f är arbetsfrekvensen i MHz.

4. a)

Mindre (bättre) än - (126 + 20log10F-20log10f) var som helst i området 10 Hz < F < 10 kHz varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområde som överstiger 3,2 GHz men inte 75 GHz.

b)

Mindre (bättre) än - (114 + 20log10F-20log10f) var som helst i området 10 kHz ≤ F < 500 kHz varsomhelst inom det syntetiskt erhållna frekvensområdet över 3,2 GHz men inte över 75 GHz.

5. En maximal syntetiskt erhållen frekvens som överstiger 75 GHz.

e)

Nätverksanalysatorer med något av följande:

1. En uteffekt som överstiger 31,62 mW (15 dBm) varsomhelst inom det arbetsfrekvensområde som överstiger 43,5 GHz men inte 75 GHz.

2. En uteffekt som överstiger 1 mW (0 dBm) varsomhelst inom det arbetsfrekvensområde som överstiger 75 GHz men inte 110 GHz.

3. Teknisk anmärkning:

3A002 e) Funktion för mätning på ickelinjära vektorer vid frekvenser som överstiger 50 GHz men inte 110 GHz, eller Med funktion för mätning på ickelinjära vektorer avses ett instruments förmåga att analysera testresultat från komponenter drivna till storsignal-domän eller ickelinjära störningsomfång.

4. En maximal arbetsfrekvens som överstiger 110 GHz.

f)

Testmottagare för mikrovåg som har alla följande egenskaper:

1. En maximal arbetsfrekvens som överstiger 110 GHz, och

2. kan mäta amplitud och fas simultant.

g)

Atomfrekvensstandarder som har någon av följande egenskaper:

1. Är rymdkvalificerad.

2. Icke-rubidium och med en långtidsstabilitet som är mindre (bättre) än 1 × 10-11/månad.

3. Icke-rymdkvalificerad och med alla följande egenskaper:

3. a)

En rubidiumstandard.

b)

Långtidsstabilitet som är mindre (bättre) än1 × 10-11/månad.

c)

En total effektförbrukning som understiger 1 W.

a)

Analog-till-digitalomvandlare, användbara i missiler, konstruerade för att uppfylla militära krav för miljötålig utrustning.

b)

Radiografisk utrustning (acceleratorer) i stånd att alstra elektromagnetisk strålning framkallad av bromsstrålning från accelererade elektroner på 2 MeV eller mer, samt system som innehåller denna radiografiska utrustning (accelerators). Anmärkning.: Avsnitt 3A101.b omfattar inte utrustning som är speciellt konstruerad för medicinska ändamål.

3A Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Kondensatorer som har någon av följande uppsättning egenskaper:

1. a)

Märkspänning större än 1,4 kV,

b)

energiinnehåll större än 10 J,

c)

kapacitans större än 0,5 μF, och

d)

serieinduktans mindre än 50 nH, eller

2. a)

märkspänning större än 750 V,

b)

kapacitans större än 0,25 μF, och

c)

serieinduktans mindre än 10 nH.

b)

Elektromagneter med supraledande solenoider och som uppfyller samtliga följande krav: Anmärkning: Avsnitt 3A201.b omfattar inte magneter som är speciellt konstruerade för och exporterade som del av bildsystem för medicinsk tillämpning baserade på kärnspinnresonans (NMR). Frasen som del av avser inte nödvändigtvis fysisk del av samma skeppning; separata skeppningar från olika källor är tillåtna, under förutsättning att ifrågavarande exportdokument tydligt anger att skeppningarna används som del av bildsystemen.

1. Kan producera magnetfält kraftigare än 2 T.

2. Längdens förhållande till innerdiametern är större än 2.

3. En inre diameter större än 300 mm.

4. Ett magnetfält som är homogent, bättre än 1 % över de centrala 50 % av den inre volymen.

c) Tekniska anmärkningar: 1.2.3.4.

Röntgenblixtaggregat eller pulsade elektronacceleratorer som har någon av följande uppsättning egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 3A201.c omfattar inte acceleratorer som ingår som delar i apparatur konstruerad för annat än användning av elektronstråle eller röntgenstrålning (t.ex. elektronmikroskop) och sådana som konstruerats för medicinska ändamål: Godhetstalet (K) definieras som K = 1,7 × 103 × V2,65 × Q V är elektronernas toppenergi i millioner elektronvolt. Om pulslängden i acceleratorstrålen är kortare än eller lika med 1 μs, så är Q den totala accelererade laddningen i coulomb. Om strålens pulslängd är längre än 1 μs, så är Q den maximala accelererade laddningen på 1 μs. Q är lika med integralen av i med avseende på t, över den tidslängd som är kortast av 1 μs eller tidslängden av pulsen(Q = ∫ idt), där i är strålströmmen i ampere och t tiden i sekunder. Toppeffekt= (toppspänning i volt) × (toppström i ampere). 3A201 c) I maskiner baserade på accelerations-kaviteter för mikrovågor är pulsens tidsutsträckning det mindre av 1 μs och längden av det sammanpressade (bunchade) vågpaketets varaktighet genererad av en modulatorpuls. I maskiner baserade på accelerationskaviteter för mikrovågor är strålens toppström lika med medelströmmen under det sammanpressade (bunchade) vågpaketets varaktighet.

c)

1. a)

En toppenergi för de accelererade elektronerna om 500 keV eller mer men mindre än 25 MeV, och

b)

ett godhetstal (K) lika med 0,25 eller mer, eller

2. a)

en toppenergi för de accelererade elektronerna om 25 MeV eller mer, och

b)

en toppeffekt större än 50 MW.

a)

Flerfasig utgång och som producerar en effekt av 40 VA eller mer.

b)

Arbetar vid en frekvens på 600 Hz eller mer.

c)

Frekvensstyrning bättre (lägre) än 0,2 %.

1. De måste returneras till originaltillverkaren för att öka prestandan eller frigöra begränsningarna,

2. de kräver programvara enligt vad som specificeras i avsnitt 3D225 för att öka eller frigöra prestandan för att uppfylla de kriterier som anges i avsnitt 3A225, eller

3. de kräver teknik i form av nycklar eller koder enligt vad som specificeras i avsnitt 3E225 för att öka eller frigöra prestandan för att uppfylla de kriterier som anges i avsnitt 3A225.

3A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 100 V eller mer med en utgångsström av 500 A eller mer, och

b)

en ström- eller spänningsstabilitet som är bättre än 0,1 % över en tidsperiod om 8 timmar.

a)

Kan kontinuerligt producera, över en tidsperiod om 8 timmar, 20 kV eller mer med en utgångsström av 1 A eller mer, och

b)

en ström- eller spänningsstabilitet som är bättre än 0,1 % över en tidsperiod om 8 timmar.

a)

Kallkatodrör, oavsett om de är gasfyllda eller ej, vilka fungerar på liknande sätt som gnistgap, och uppfyller samtliga följande krav: Anmärkning: Avsnitt 3A228 omfattar krytroner och sprytroner.

1. Har tre eller flera elektroder.

2. Anodens märkta toppspänning är minst 2,5 kV.

3. Anodens märkta toppström minst 100 A.

4. Anodens fördröjning är högst 10 μs.

b)

Triggade gnistgap som uppfyller följande båda villkor:

1. En anodfördröjning om 15 μs eller mindre och

2. en märkt toppström om minst 500 A.

c)

Moduler eller delsystem med en snabb slutarfunktion, andra än de som specificeras i avsnitt 3A001.g eller 3A001.h, som uppfyller samtliga följande krav:

1. Anodens märkta toppspänning är större än 2 kV,

2. anodens märkta toppström minst 500 A, och

3. tillslagstiden är 1 μs eller mindre.

a)

Tändaggregat (detonatorer), inbegripet med elektronisk laddning, explosiv laddning och optisk laddning, andra än de som specificeras i avsnitt 1A007.a, avsedda att initiera flerpunktständning av sprängkapslar som specificeras i avsnitt 1A007.b.

b)

Moduluppbyggda elektriska pulsgeneratorer som har alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 3A229.b omfattar drivaggregat till xenonblixtar.

1. Portabla, mobila eller konstruerade för svåra förhållanden.

2. Kapabla att leverera sin energi inom loppet av 15 μs vid lägre belastning än 40 ohm.

3. Kapabla att leverera en strömstyrka överstigande 100 A.

4. Ingen dimension är större än 30 cm.

5. Väger mindre än 30 kg.

6. Specificerad för användning i ett brett temperaturområde 223 K (-50 °C) till 373 K (100 °C) eller specificerad som lämplig för rymdanvändning.

c)

Mikroavfyrningsenheter som har alla följande egenskaper:

1. Ingen dimension är större än 35 mm.

2. Märkspänning lika med eller högre än 1 kV.

3. Kapacitans lika med eller större än 100 nF.

a)

Utgående spänning högre än 6 V vid en resistiv belastning av mindre än 55 ohms, och

b)

en stigtid för pulsen som är kortare än 500 ps.

3A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Utformade för drift utan yttre vakuumsystem, och

b)

använder något av följande:

1. Elektrostatisk acceleration för att inducera en kärnreaktion mellan tritium och deuterium, eller

2. elektrostatisk acceleration för att inducera en kärnreaktion mellan deuterium och deuterium och som är kapabel till en uteffekt på 3 × 109 neutroner/s eller mer.

a)

Används inte.

b)

Anordningar som, utlösta av en enda puls, använder en eller flera sprängkapslar i syfte att nästan samtidigt initiera detonation i en sprängämnesyta över en area större än 5000 mm2 med en spridning i tändtid över hela ytan som är mindre än 2,5 μs.

a)

Masspektrometrar med induktivt kopplad plasmajonkälla (ICP/MS).

b)

Masspektrometrar med glimurladdningsjonkälla (GDMS).

c)

Masspektrometrar med jonkälla som bygger på termisk jonisation (TIMS).

d)

Masspektrometrar med jonkälla som använder indirekt upphettning (electron bombardment) med båda följande egenskaper:

1. Ett molekylärt instrålningssystem som injekterar ett kollimerat strålknippe av de molekyler som analyseras till ett område i jonkällan där molekylerna joniseras av en elektronstråle, och

2. en eller flera kylfällor som kan kylas ned till 193 K (-80 °C).

e)

Används inte.

f)

Masspektrometrar utrustade med jonkälla med mikrofluorering konstruerad för att användas med aktinider eller aktinidfluorider.

3A Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. Tekniska anmärkningar: 1.2. a)

Märkspänning större än 2 kV och

b)

induktans mindre än 20 nH.

3B Test-, inspektions- och produktionsutrustning 3B001 Utrustning konstruerad för tillverkning av halvledarenheter eller material, enligt följande, och för dessa utrustningar speciellt konstruerade komponenter och tillbehör: 3B002 Provutrustning som är speciellt konstruerad för provning av färdiga halvledarenheter eller halvfabrikat enligt följande, samt tillhörande komponenter och tillbehör:

3B a)

Utrustning för epitaxiell tillväxt enligt följande:

1. Utrustning som kan producera ett lager av ett annat material än kisel med en jämnhetsavvikelse mindre än ± 2,5 % över en sträcka av minst 75 mm. Anmärkning: Avsnitt 3B001.a.1 omfattar utrustning för atomskiktsepitaxi (ALE).

2. Metallorganiska kemiska förångningsreaktorer (MOCVD) konstruerade för att ge epitaxiell tillväxt av halvledarblandningar av material med två eller fler av följande beståndsdelar: aluminium, gallium, indium, arsenik, fosfor, antimon eller kväve.

3. Utrustning för epitaxiell tillväxt med hjälp av molekylärstrålar och gaskällor.

b)

Utrustning konstruerad för jonimplantation som har någon av följande egenskaper:

1. Används inte.

2. Konstruerade och optimerade för att arbeta vid en strålenergi på 20 keV eller mer och en strålström på 10 mA eller mer för väte-, deuterium- eller heliumimplantering.

3. Direkt skrivmöjlighet.

4. En strålenergi som är 65 keV eller mer och en strålström som är 45 mA eller mer för att med hög energi införa syre i det upphettade halvledar-substratet.

5. Konstruerad och optimerad för att arbeta vid en strålenergi på 20 keV eller mer och en strålström på 10 mA eller mer för kiselimplantering i ett halvledarsubstrat upphettat till 600 °C eller mer.

c)

Utrustning för torr anisotropisk plasmaetsning med alla följande egenskaper:

1. Den är speciellt konstruerad för att optimalt kunna producera kritiska dimensioner på 65 nm eller mindre, och

2. det föreligger ojämn fördelning inom wafern lika med eller mindre än 10 % 3σ mätt med en kantuteslutning på 2 mm eller mindre.

d)

Används inte.

e) Tekniska anmärkningar: 1.2.

Automatiskt laddningssystem för flera kammare för tillverkning av halvledare med alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 3B001.e omfattar inte automatisk robothantering av wafers särskilt konstruerade för parallell waferbehandling. I 3B001.e avses med halvledarbearbetningsverktyg modulära verktyg som möjliggör fysiska processer för halvledarframställning vilka är funktionellt olika, såsom deponering, etsning, implantering eller värmebehandling. I 3B001.e avses med sekventiell bearbetning av wafers i flera steg möjligheten att bearbeta varje wafer i olika halvledarbearbetningsverktyg, t.ex. genom att överföra varje wafer från ett verktyg till ett annat och vidare till ett tredje via de automatiska centrala klustersystemen för hantering av wafers.

e)

1. Gränssnitt för såväl in- som utgång för wafers till vilket minst två funktionellt olika halvledarprocessverktyg enligt avsnitt 3B001.a, 3B001.b eller 3B001c. är avsedda att anslutas, och

2. vara konstruerade för att bilda ett integrerat system i vakuumomgivning för sekventiell bearbetning av wafers i flera steg.

f)

3B001 Litografisk utrustning med egenskaper enligt följande:

1. Utrustning för uppriktning samt exponering med repetermöjlighet (step and repeat, direkt step on wafer) eller scanner (step and scan) som använder röntgen eller foto-optiska metoder, och som har någon av följande egenskaper:

1. a)

Ljuskällans våglängd är kortare än 245 nm, eller

b) Teknisk anmärkning:

kan producera ett mönster med en minsta upplösning för systemdimensionen (MRF) på 95 nm eller mindre. Den minsta upplösningen för systemdimensionen (MRF) beräknas med följande formel: MRFljuskällansvåglängd i nmskalfaktorn Knumeriska aperturen där K är en skalfaktor = 0,35

2. Litografisk präglingsutrustning som kan framställa detaljer på 95 nm eller mindre. Anmärkning: Avsnitt 3B001.f.2 omfattar följande:

Verktyg för mikrokontakttryck.

Verktyg för värmeprägling.

Verktyg för nanopräglingslitografi.

S-FIL-verktyg (step and flash imprint lithography).

3. Utrustning som är speciellt konstruerad för att tillverka masker eller halvledarenheter med hjälp av direkta skrivmetoder, och som uppfyller följande:

3. a)

Den använder avlänkade fokuserade elektron-, jon- eller laser strålar, och

b)

har något av följande:

1. En strålpunkt som är mindre än 0,2 μm.

2. Förmåga att producera mönster med en karaktäristisk ledningsbredd som är mindre än1 μm.

3. En passningsnoggrannhet som är bättre än ± 0,20 μm (3 sigma).

g)

Masker eller mastermasker som är konstruerade för tillverkning av integrerade kretsar som specificeras i avsnitt 3A001.

h)

Flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager som inte specificeras i avsnitt 3B001.g och som har någon av följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 3B001.h omfattar inte flerlagermasker som är försedda med ett fasskiftlager konstruerat för tillverkning av minnen som inte omfattas av avsnitt 3A001.

1. Tillverkad på mask skiva (substrate blank) av glas som angivits ha en dubbelbrytning på mindre äm 7 nm/cm, eller

2. konstruerad för att användas med litografisk utrustning där ljuskällans våglängd är kortare än 245 nm.

i)

Schabloner för litografisk prägling som är konstruerade för integrerade kretsar som specificeras i avsnitt 3A001.

a)

Utrustning för provning av transistorers S-parametrar vid frekvenser som överstiger 31,8 GHz.

b)

Används inte.

c)

Utrustning som kan prova integrerade mikrovågskretsar som specificeras i avsnitt 3A001.b.2.

3C Material 3C001 Hetero-epitaxiella material som består av ett substrat med ovanpå varandra liggande epitaxiellt tillvuxna multipelskikt av något av följande: Anmärkning: Avsnitt 3C001.d omfattar inte substrat som har ett eller fler epitaxiella lager av P-typ av GaN, InGaN, AlGaN, InAlN, InAlGaN, GaP, InGaP, AlInP eller InGaAlP, oberoende av elementens sekvens, utom i det fall det epitaxiella lagret av P-typ ligger mellan lager av N-typ. 3C002 Resistmaterial enligt följande, och substrat belagda med följande resistmaterial: 3C003 Organiska-oorganiska blandningar enligt följande: Anmärkning: Avsnitt 3C003 omfattar endast blandningar vars metalliska, delvis metalliska eller icke metalliska element är direkt bundna till kolet i den organiska delen av molekylen. 3C004 Hydrider av fosfor, arsenik eller antimon som har en renhet som är bättre än 99,999 %, även utspädd i ädelgaser eller väte. Anmärkning: Avsnitt 3C004 omfattar inte hydrider som innehåller 20 % molar eller mer av ädelgaser eller väte. 3C005 Substrat av kiselkarbid (SiC), galliumnitrid (GaN), aluminumnitrid (AlN) eller aluminiumgalliumnitrid (AlGaN), eller halvledar-substrat, eller tackor, halvrunda stycken eller andra förformer av dessa material, med en resistivitet som överstiger 10000 ohm-cm vid 20 °C. 3C006 Substrat som specificeras i avsnitt 3C005 med minst ett epitaxiellt lager av kiselkarbid, galliumnitrid, aluminiumnitrid eller alluminiumgalliumnitrid.

3C a)

Kisel (Si).

b)

Germanium (Ge).

c)

Kiselkarbid (SiC).

d)

III/V-föreningar av gallium eller indium.

a)

Resistmaterial som är konstruerade för halvledarlitografi enligt följande:

1. Positiva resistmaterial som är justerade (optimerade) för användning vid våglängder under 245 nm men lika med eller över än 15 nm.

2. Resistmaterial som är justerade (optimerade) för användning vid våglängder under 15 nm men över 1 nm.

b)

Alla resistmaterial som är konstruerade för att användas tillsammans med elektron- eller jonstrålar och vars känslighet är 0,01 μC/mm2 eller bättre.

c)

Används inte.

d)

Alla resistmaterial som optimerats för ytbildstekniker.

e)

Alla resistmaterial som är utformade eller optimerade för att användas tillsammans med litografisk präglingsutrustning som specificeras i avsnitt 3B001.f.2 och som använder antingen en värmeprocess eller en photo-curable-process.

a)

Metallorganiska blandningar av aluminium, gallium eller indium, med en renhetsgrad (på metallbasen) som är bättre än 99,999 %.

b)

Organiska blandningar med antimon, arsenik eller fosfor som har en renhet (baserat på det oorganiska elementet) som är bättre än 99,999 %.

3D Teknisk anmärkning:

Programvara 3D001 Programvara som är speciellt utformad för utveckling eller produktion av utrustning som specificeras i avsnitt 3A001.b–3A002.g eller 3B. 3D002 Programvara som är speciellt utformad för användning av utrustning som specificeras i avsnitt 3B001.a–f, 3B002 eller 3A225 3D003 Fysikbaserad simulerings programvara speciellt konstruerad för utveckling av litografiska, etsnings- eller uppbyggnads(depositions) -processen så att maskvärdena omvandlas till specifika typografiska mönster i de olika ledar-, dielektriska eller halvledarlagren. Med fysikbaserad avses i avsnitt 3D003 beräkningar för att fastställa en sekvens av fysiska samband mellan orsak och verkan på grundval av fysiska egenskaper (t.ex. temperatur, tryck, diffusionskonstanter och halvledare). Anmärkning: Bibliotek, konstruktionsanvisningar eller liknande data för konstruktion av halvledarenheter eller integrerade kretsar ska betraktas som teknik. 3D004 Programvara som är speciellt utformad för utveckling av utrustning som specificeras i avsnitt 3A003. 3D101 Programvara som är speciellt utformad eller modifierad för användning av utrustning som specificeras i avsnitt 3A101.b. 3D225 Programvara som är särskilt konstruerad för att öka eller frigöra prestandan hos frekvensomvandlare eller generatorer för att uppfylla kriterierna enligt avsnitt 3A225.

3E Teknik 3E001 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling eller produktion av utrustning eller material som specificeras i avsnitt 3A, 3B eller 3C. Anmärkning 1: Avsnitt 3E001 omfattar inte teknik för produktion av utrustning eller komponenter som omfattas av avsnitt 3A003. Anmärkning 2: Avsnitt 3E001 omfattar inte teknik för utveckling eller produktion av integrerade kretsar som specificeras i avsnitten 3A001.a.3–3A001.a.12 som har båda följande egenskaper 3E002 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik, som inte specificeras i avsnitt 3E001, för utveckling eller produktion av mikroprocessor-mikrokretsar, mikrodator-mikrokretsar och mikrokretsar för mikrostyrsystem med en aritmetisk logisk enhet som kan hantera minst 32 bitar och som har någon av följande egenskaper: Anmärkning 1: Avsnitt 3E002 omfattar inte teknik för utveckling eller produktion av mikroprocessorer med följande egenskaper: Anmärkning 2: Avsnitt 3E002 omfattar teknik för digitala signalprocessorer och digitala grupprocessorer. 3E003 Annan teknik för utveckling eller produktion av följande: 3E101 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för användning av utrustning eller programvara som specificeras i avsnitt 3A001.a.1 eller 2, 3A101, 3A102 eller 3D101. 3E102 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling av programvara som specificeras i avsnitt 3D101. 3E201 Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för användning av utrustning som specificeras i avsnitten 3A001.e.2, 3A001.e.3, 3A001.g, 3A201 och 3A225-3A234. 3E225 Teknik i form av koder eller nycklar för att öka eller minska prestandan hos frekvensomvandlare eller generatorer för att uppfylla kriterierna enligt avsnitt 3A225.

3E a)

använder en teknik för lägst 0,130 μm, och

b)

strukturer i flera lager med tre eller färre metallager.

a) Teknisk anmärkning:

En vektorprocessorenhet som är utformad för att utföra mer än två beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt. En vektorprocessenhet är ett processorelement med inbyggda instruktioner som utför multipla beräkningar på flyttalsvektorer (32-bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt, och som har minst en aritmetisk logisk vektorenhet.

b)

Utformad för att utföra mer än fyra 64-bitars eller större flyttalsoperationsresultat per cykel.

c)

3E002 Utformad för att utföra mer än fyra 16-bitars ackumulerade fasttalsmultiplikationsresultat per cykel (t.ex. digital manipulering av analog information som tidigare omvandlats till digital form, även känd som digital signalbehandling). Anmärkning: Avsnitt 3E002.c omfattar inte teknik för multimediaanslutningar.

a)

Använder en teknik på eller över 0,130 μm.

b)

Innehåller strukturer i flera lager med högst fem metallager.

a)

Vakuumenheter för mikroelektronik.

b)

Elektroniska enheter med halvledare med heteroövergång (hetero-structure) såsom transistorer med hög elektronmobilitet (HEMT), hetero-bipolära transistorer (HBT), quantum well och super lattice element. Anmärkning: Avsnitt 3E003.b omfattar inte teknik för transistorer med hög elektronmobilitet (HEMT) som arbetar vid frekvenser under 31,8 GHz och hetero-bipolära transistorer (HBT) som arbetar vid frekvenser under 31,8 GHz.

c)

Supraledande elektroniska element.

d)

Filmsubstrat av diamant för elektroniska kretsar.

e)

Substrat av kisel på insulator (SOI) för integrerade kretsar i vilka insulatorn är kiseldioxid.

f)

Substrat av kiselkarbid för elektroniska komponenter.

g)

Elektroniska vakuumrör som arbetar vid frekvenser på 31,8 GHz eller mer.

KATEGORI 4 DATORER

Anmärkning 1: Datorer, kringutrustning och programvara som utför telekommunikations- eller lokala nät-funktioner ska också utvärderas i förhållande till prestandaegenskaper i kategori 5 del 1 (telekommunikation). Anmärkning 2: Styrenheter som direkt kopplar samman bussar eller kanaler i datorers centralenheter, styrenheter för huvudminne eller skivminne ska inte betraktas som telekommunikationsutrustning enligt kategori 5 del 1 (telekommunikation). ANM.: När det gäller kontrollstatus för programvara, särskilt konstruerad för paketväxlar, se avsnitt 5D001. Anmärkning 3: För datorer, kringutrustning eller programvara som utför kryptografi, kryptoanalys, certifierbar säkerhet i flera nivåer eller certifierbar användarisolering, eller som begränsar den elektromagnetiska kompatibiliteten (EMC), ska också utvärderas i förhållande till prestandakarakteristika i kategori 5 del 2 (informationssäkerhet).

4A System, utrustning och komponenter 4A001 Elektroniska datorer och därmed sammanhörande utrustning, med någon av följande egenskaper, och elektroniska sammansättningar, och speciellt konstruerade komponenter till dessa: ANM.: SE ÄVEN AVSNITT 4A101. 4A003 Digitala datorer, elektroniska sammansättningar och därmed sammanhörande utrustning, enligt följande, och specialkonstruerade komponenter därtill. Anmärkning 1: Avsnitt 4A003 omfattar följande: Anmärkning 2: Kontrollstatus för digitala datorer och därmed sammanhörande utrustning enligt beskrivningen i avsnitt 4A003 bestäms av kontrollstatus för annan utrustning eller andra system, under förutsättning att 4A004 Datorer enligt följande och specialkonstruerad därmed sammanhörande utrustning, elektroniska sammansättningar och komponenter till dessa: 4A005 System, utrustning och komponenter till dessa som är särskilt konstruerade eller modifierade för att generera, styra eller leverera, eller kommunicera med intrångsprogram. 4A101 Analoga datorer, digitala datorer eller digitala differentialanalysatorer andra än dem som beskrivs i avsnitt 4A001.a.1, och som är motståndskraftiga och utformade eller modifierade för användning i rymduppskjutningsfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104. 4A102 Hybriddatorer som är särskilt konstruerade för modellering, simulering eller konstruktionsintegrering av rymduppskjutningsfarkoster som specificeras i avsnitt 9A004 eller sondraketer som specificeras i avsnitt 9A104. Anmärkning: Denna kontroll ska endast tillämpas om utrustningen levereras med programvara som specificeras i avsnitt 7D103 eller 9D103.

4A a)

Speciellt konstruerade för att ha någon av följande egenskaper:

1. Specificerade för att arbeta vid omgivande temperaturer under 228 K (-45 °C) eller över 358 K (85 °C). Anmärkning: Avsnitt 4A001.a.1 omfattar inte datorer som konstruerats särskilt för att användas i civila bil-, tåg- eller civila luftfartygs-tillämpningar.

2. Strålningståliga så att de överträffar någon av följande specifikationer: a) Total dos 5 × 103 Gy (kisel), b) Dosratsändring genom störning 5 × 106 Gy (kisel)/s eller c) Enstaka fel på grund av strålning ej överstigande 1 × 10-8 fel/bit/dag. Anmärkning: 4A001.a.2 omfattar inte datorer särskilt konstruerade för tillämpningar för civila luftfartyg.

b)

Används inte.

Vektorprocessorer.

Grupp- (array-) processorer.

Digitala signalprocessorer.

Logikprocessorer.

Utrustning konstruerad för bildbehandling.

Utrustning konstruerad för signalbehandling.

a)

de digitala datorerna eller den därmed sammanhörande utrustningen är väsentliga för den andra utrustningens eller de andra systemens funktion,

b)

de digitala datorerna eller den därmed sammanhörande utrustningen inte är en huvudbeståndsdel i den andra utrustningen eller de andra systemen och ANM. 1: Kontrollstatus för signalbehandlings- eller bildbehandlings-utrustning särskilt konstruerad för en annan utrustning med funktioner, som är begränsade till dem, som krävs för den andra utrustningen, ska bestämmas av kontrollstatus för den andra utrustningen även om den överskrider värdena för huvudbeståndsdelen. ANM. 2: När det gäller kontrollstatus för digitala datorer eller därmed tillhörande utrustning för telekommunikation, se kategori 5 del 1 (telekommunikation).

c)

teknik för digitala datorer och tillhörande utrustning bestäms av avsnitt 4E.

a)

Används inte.

b)

Digitala datorer som har en justerad topprestanda (APP) som överstiger 8,0 vägda Teraflops (WT).

c)

4A003 Elektroniska sammansättningar som är särskilt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom sammankoppling av processorer så att aggregatets APP överskrider den gräns som specificeras i avsnitt 4A003.b. Anmärkning 1: Avsnitt 4A003.c omfattar endast elektroniska sammansättningar och programmerbara anslutningar som inte överskrider den gräns som anges i avsnitt 4A003.b när de levereras som icke inmonterade elektroniska sammansättningar. Det omfattar inte elektroniska sammansättningar som på grund av sin konstruktion har begränsad användning som sammanhörande utrustning som specificeras i avsnitt 4A003.e. Anmärkning 2: Avsnitt 4A003.c omfattar inte elektroniska sammansättningar som är specialkonstruerade för en produkt eller familj av produkter vars maximala konfiguration inte överskrider den gräns som specificeras i avsnitt 4A003.b.

d)

Används inte.

e)

Utrustning som kan utföra analog-till-digital-omvandling som överskrider de gränser som specificeras i avsnitt 3A001.a.5.

f)

Används inte.

g)

Utrustning som är specialkonstruerad för aggregering av digitala datorers prestanda genom att möjliggöra externa sammankopplingar som tillåter kommunikation med en enkelriktad datahastighet som överskrider 2,0 Gbyte/s per länk. Anmärkning: Avsnitt 4A003.g omfattar inte intern utrustning för sammankoppling (t.ex. backplan, bussar), passiva kopplingselement, styrenheter för åtkomst till nätverk eller styrenheter för kommunikationskanaler.

a)

Datorer för systoliska kedjor.

b)

Neurala datorer.

c)

Optiska datorer.

4B Test-, inspektions- och produktionsutrustning Ingen.

4C Material Ingen.

4D Programvara Anmärkning: Exportkontrollstatus för programvara utrustning som beskrivs i andra kategorier ska behandlas enligt tillhörande kategori. 4D 4D001 Programvara enligt följande: 4D002 Programvara som är speciellt utformad eller modifierad för att understödja teknik som specificeras i avsnitt 4E. 4D003 Används inte. 4D004 Programvara som är särskilt konstruerad eller modifierade för att generera, styra eller leverera, eller kommunicera med intrångsprogram.

4D a)

Programvara som är särskilt konstruerad eller modifierad för utveckling, produktion av utrustning eller programvara som specificeras i avsnitt 4A001-4A004 eller 4D.

b)

Programvara, annan än sådan som specificeras i avsnitt 4D001.a, speciellt konstruerad eller modifierad för utveckling eller produktion av utrustning enligt följande:

1. Digitala datorer som har en justerad topprestanda (APP) som överstiger 0,60 vägda Teraflops (WT).

2. Elektroniska enheter, speciellt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom aggregering av processorer så att aggregatets APP överstiger gränsen i avsnitt 4D001.b.1.

4E Teknik 4E001

4E a)

Teknik enligt den allmänna anmärkningen rörande teknik för utveckling, produktion eller användning av utrustning eller programvara som specificeras i avsnitt 4A eller 4D.

b)

Teknik, annan än sådan som specificeras i avsnitt 4E001.a, speciellt konstruerad eller modifierad för utveckling eller produktion av utrustning enligt följande:

1. Digitala datorer som har en justerad topprestanda (APP) som överstiger 0,60 vägda Teraflops (WT).

2. Elektroniska enheter, speciellt konstruerade eller modifierade för att förbättra prestandan genom aggregering av processorer så att aggregatets APP överstiger gränsen i avsnitt 4E001.b.1.

c)

Teknik för utveckling av intrångsprogram.

TEKNISK ANMÄRKNING OM JUSTERAD TOPPRESTANDA (Adjusted Peak Performance, APP)

APP är en justerad topphastighet vid vilken digitala datorer utför 64 bitars eller större flyttalsadditioner och flyttalsmultiplikationer. APP uttrycks i vägda Teraflops (WT), i enheter om 1012 justerade flyttalsoperationer per sekund.

Förkortningar som används i denna tekniska anmärkning

n Antalet processorer i den digitala datorn i processornummer (i, … n) ti processorcykeltid (ti = 1/Fi) Fi processorfrekvens Ri högsta beräkningshastighet för flyttalsoperationer Wi justeringsfaktor för arkitektur

Sammanfattning av beräkningsmetoden för APP 1.2.3.4. Teknisk anmärkning:

För varje processor i, bestäm det högsta antalet 64 bitars eller större flyttalsoperationer, FPOi, som utförs per cykel för varje processor i den digitala datorn. Anmärkning: För bestämningen av FPO ska endast inkluderas 64 bitars eller större flyttalsadditioner och/eller flyttalsmultiplikationer. Alla flyttalsoperationer ska uttryckas i operationer per processorcykel. Operationer som kräver flera cykler kan uttryckas i delresultat per cykel. För processorer som inte kan utföra beräkningar på 64 bitars eller större flyttalsoperander, är den effektiva beräkningshastigheten lika med noll. Beräkna flyttalshastigheten R för varje processor Ri = FPOi/ti. Beräkna APP som APP = W1 × R1 + W2 × R2 + … + Wn × Rn. För vektorprocessorer, Wi = 0,9. För övriga processorer, Wi = 0,3. Anmärkning 1: För processorer som utför sammansatta operationer i en cykel, exempelvis addition och multiplikation, räknas varje operation. Anmärkning 2: För en kanalprocessor (pipelined processor) är den effektiva beräkningshastigheten R kanalens hastighet efter det att kanalen är full, eller hastigheten utan denna kanal om denna är högre. Anmärkning 3: Beräkningshastigheten R för varje bidragande processor ska beräknas vid dess högsta teoretiskt möjliga värde innan kombinationens APP beräknas. Samtidiga operationer antas förekomma när datortillverkaren i en manual eller broschyr för datorn hävdar förekomsten av samverkande, parallella eller samtidiga operationer eller verkställighet. Anmärkning 4: Processorer som är begränsade till in- eller utgångar och perifera funktioner (t.ex. diskettenhet, gränssnitt för kommunikation eller video) ska inte tas med vid beräkningen av APP. Anmärkning 5: APP-värden ska inte beräknas för processorer som är sammankopplade genom lokala nätverk, stora nätverk, anslutningar/enheter med delade in- och utgångar, in- och utgångsgränssnitt samt alla kommunikationsanslutningar som införts genom programvara. Anmärkning 6: APP-värden ska beräknas för Lägg samman alla processorer och acceleratorer som arbetar samtidigt och ligger på samma chip. Anmärkning 7: En vektorprocessor definieras som en processor med inbyggda instruktioner som utför multipla beräkningar på flyttalsvektorer (64 bitars eller större endimensionella matriser) samtidigt, och som har minst två vektorfunktionsenheter och minst åtta vektorregister på vardera minst 64 element.

Sammanfattning av beräkningsmetoden för APP 1.2.3.4.

1. processorkombinationer som innehåller processorer som är särskilt konstruerade för att förbättra prestandan genom aggregering, samtidiga operationer och delat minne eller

2. multipelminne/processorkombinationer som arbetar samtidigt och utnyttjar särskilt konstruerad hårdvara.

KATEGORI 5 TELEKOMMUNIKATION OCH INFORMATIONSSÄKERHET

DEL 1 TELEKOMMUNIKATION

5A1 Teknisk anmärkning:

System, utrustning och komponenter 5A001 System, utrustning, komponenter och tillbehör för telekommunikation enligt följande: 5A101 Telemetri- och fjärrmanövreringsutrustning, däribland markutrustning, som är konstruerad eller modifierad för missiler. Med missil avses i avsnitt 5A101 kompletta raketsystem och system för obemannade luftfartyg med en räckvidd som överstiger 300 km. Anmärkning: Avsnitt 5A101 omfattar inte följande:

5A1 a)

Alla typer av telekommunikationsutrustning som har någon av följande egenskaper, funktioner eller kännetecken: Anmärkning: Avsnitten 5A001.a.2 och 5A001.a.3 omfattar inte utrustning som konstruerats eller modifierats för användning ombord på satelliter.

1. Särskilt konstruerade för att motstå de övergående elektroniska effekterna eller elektromagnetiska pulserna från en nukleär explosion.

2. Särskilt förstärkta för att kunna motstå gamma–, neutron– eller joniserad strålning

3. Särskilt konstruerade för drift utanför temperaturintervallet 218 K (- 55 °C) till 397 K (124 °C), Anmärkning: Avsnitt 5A001.a.3 omfattar endast elektronisk utrustning.

b)

Telekommunikationssystem och telekommunikationsutrustning, och särskilt konstruerade komponenter och tillbehör för dessa, som har någon av följande egenskaper, funktioner eller kännetecken:

1. Icke trådstyrda (frisimmande) kommunikationssystem för undervattensbruk som har något av följande:

1. a)

En akustisk bärfrekvens som ligger utanför frekvensområdet 20–60 kHz.

b)

En elektromagnetisk bärfrekvens som ligger under 30 kHz.

c)

Teknik för elektronstrålestyrning.

d)

Lasrar eller lysdioder (LED) med en utgångsvåglängd som är större än 400 nm och mindre än 700 nm, i ett lokalt nät.

2. Radioutrustning som arbetar i frekvensområdet 1,5–87,5 MHz och som har båda följande egenskaper:

2. a)

Automatisk förutsägelse och val av frekvenser och total digital överföringshastighet för varje kanal för att optimera överföringen.

b)

En linjär effektförstärkningskonfiguration med kapacitet att simultant stödja multipla signaler vid en uteffekt av minst 1 kW i frekvensområdet 1,5 MHz eller över men under 30 MHz eller vid en uteffekt av minst 250 W i frekvensområdet 30 MHz eller över, men inte över 87,5 MHz, allt mätt över en effektbandbredd på minst 1 oktav och med en harmonisk distorsion bättre än -80 dB.

3. Radioutrustning som utnyttjar bandspridningsteknik, bland annat hoppfrekvensteknik, som inte specificeras i avsnitt 5A001.b.4, och som har någon av följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 5A001.b.3 omfattar inte utrustning konstruerad för drift vid en uteffekt av högst 1 W.

3. a)

För användaren programmerbara spridningskoder.

b)

En total bandbredd som är minst 100 gånger större än bandbredden hos någon informationskanal och som överstiger 50 kHz. Anmärkning: Avsnitt 5A001.b.3.b omfattar inte radioutrustning som är särskilt konstruerad för att användas tillsammans med något av följande:

a)

Civila cellulära radiokommunikationssystem, eller

b)

fasta eller mobila jordstationer för kommersiella civila telekommunikationer via satellit.

4. 5A001 b) Radioutrustning som utnyttjar teknik för ultrabredbandsmodulering, som har programmerbara kanaliserings-, förvrängnings- eller nätidentifikationskoder och som har någon av följande egenskaper:

4. a)

En bandbredd som överstiger 500 MHz eller

b)

en relativ bandbredd på minst 20 %.

5. Tekniska anmärkningar:

Digitalt kontrollerade radiomottagare som har samtliga följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 5A001.b.5 omfattar inte radioutrustning som är särskilt konstruerad för att användas inom civila cellulära radiokommunikationssystem. Med uttrycket tid för att byta kanal avses den tid (dvs. fördröjning) det tar att byta från en mottagningsfrekvens till en annan, för att komma fram till den slutliga angivna mottagningsfrekvensen, eller inom intervallet ± 0,05 % från den. Produkter med ett angivet frekvensområde som omfattar mindre än ± 0,05 % kring deras mittfrekvens definieras som oförmögna till byte av kanalfrekvens.

5. a)

Mer än 1000 kanaler.

b)

Tid för att byta kanal på mindre än 1 ms.

c)

Automatisk sökning över en del av det elektromagnetiska bandet.

d)

Identifiering av mottagen signal eller sändartyp.

6. Tekniska anmärkningar: 1.2.

Funktioner för digital signalbehandling för att tillhandahålla talkodnings effekt (voice coding output) med omvandlingshastigheter på mindre än 2400 bit/s. För talkodning med variabel hastighet gäller avsnitt 5A001.b.6 för talkodnings effekten för löpande tal. I avsnitt 5A001.b.6 avses med talkodning den teknik som används för att samla prov på mänskliga röster och sedan omvandla dessa prov till en digital signal, med hänsyn till det mänskliga talets specifika egenskaper.

c) Teknisk anmärkning:

Optiska fibrer som är längre än 500 m och som av tillverkaren anges ha kapacitet att kunna klara ett hållfasthetsprov med en dragpåkänning som är minst 2 × 109 N/m2. ANM.: För undervattensfiberoptikkablar, se avsnitt 8A002.a.3. Hållfasthetsprovet är ett produktionsprov som görs inom eller utanför produktionsbandet som ett draghållfasthetsprov på en fiber med en längd av 0,5–3 m när denna rör sig med en hastighet av 2–5 m/s mellan kapstanhjul med cirka 150 mm diameter. Omgivningstemperaturen ska vara nominell 293 K (20 °C) och den relativa luftfuktigheten 40 %. Likvärdiga nationella standarder får användas vid utförandet av provet.

d)

Fasstyrda antennsystem med elektronisk styrning som arbetar över 31,8 GHz. Anmärkning: Avsnitt 5A001.d omfattar inte fasstyrda antennsystem med elektronisk styrning för landningssystem med instrument som uppnår Icao-standard för mikrovågslandningssystem (MLS).

e)

5A001 Radiopejlutrustning som arbetar vid frekvenser över 30 MHz och som har alla följande egenskaper, samt därtill särskilt konstruerade komponenter:

1. Effektbandbredden är 10 MHz eller mera.

2. Kan finna en bäringslinje (LOB) till icke-samarbetande radiosändare där signalens varaktighet understiger 1 ms.

f)

Utrustning för inhämtning eller störning av mobil telekommunikation och övervakningsutrustning för denna, enligt följande, samt särskilt konstruerade komponenter till denna: Anmärkning: Avsnitten 5A001.f.1 och 5A001.f.2 omfattar inte något av följande: ANM. 1: Se även KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING. ANM. 2.: För radiomottagare se avsnitt 5A001.b.5.

1. Inhämtningsutrustning som är konstruerad för extraktion av röst eller data som överförs via luftgränssnittet.

2. Inhämtningsutrustning som inte specificeras i avsnitt 5A001.f.1, konstruerad för extraktion av klientenhetens eller abonnentens unika parametrar (t.ex. IMSI, TIMSI eller IMEI), signalering eller annan metadata som överförs via luftgränssnittet.

3. Störningsutrustning som är särskilt konstruerad eller modifierad för att avsiktligt och selektivt störa, vägra tillträde till, hindra, försämra eller avleda tjänster för mobil telekommunikation och för att utföra någon av följande funktioner:

3. a)

Simulera funktionerna hos utrustning för radioaccessnät (RAN).

b)

Upptäcka och utnyttja särskilda egenskaper hos det protokoll för mobil telekommunikation som används (t.ex. GSM).

c)

Utnyttja särskilda egenskaper hos det protokoll för mobiltelefonkommunikationer som används (t.ex. GSM).

4. Övervakningsutrustning för radiofrekvens (RF) som är konstruerad eller modifierad för att kunna identifiera drift av de enheter som specificeras i avsnitt 5A001.f.1, 5A001.f.2 eller 5A001.f.3.

a)

Utrustning som är särskilt konstruerad för inhämtning av analog privatmobilradio (PMR), IEEE 802.11 WLAN,

b)

utrustning som är konstruerad för mobiloperatörer, eller

c)

utrustning som är konstruerad för utveckling eller produktion av utrustning eller system för mobil telekommunikation.

g) Teknisk anmärkning:

PCL-system (Passive Coherent Location) eller utrustning som är särskilt konstruerad för att upptäcka och spåra rörliga föremål genom mätning av reflexioner av omgivande radiofrekvensemissioner, som tillhandahålls av icke-radarsändare. Icke-radarsändare kan omfatta kommersiella radio- eller tv-stationer eller basstationer för mobiltelefoni. Anmärkning: Avsnitt 5A001.g omfattar inte följande:

a.

Radioastronomisk utrustning.

b.

System eller utrustning som kräver radiosändning från målet.

h)

5A001 Utrustning för motverkan av improviserade sprängladdningar (IED) och därtill hörande utrustning, enligt följande: ANM.: Se även KONTROLLBESTÄMMELSERNA FÖR VAROR MED MILITÄR ANVÄNDNING.

1. Radiosändare, som inte specificeras i 5A001.f, och som är utformad eller modifierad för att i förtid aktivera improviserade sprängladdningar (IED) eller för att förhindra att de utlöses.

2. Utrustning som använder teknik som är konstruerad för att medge radiokommunikation på samma frekvenskanaler som den samlokaliserade utrustning som specificeras i avsnitt 5A001.h.1. sänder på.

i)

Används inte.

j) Teknisk anmärkning:

System eller utrustning för övervakning av kommunikation via internetprotokollnät (IP-nät) och särskilt konstruerade komponenter till dessa, med alla följande egenskaper: Anmärkning: Avsnitt 5A001.j omfattar inte kontrollsystem eller utrustning som är särskilt konstruerad för något av följande: Med hårda selektorer avses uppgifter eller datauppsättningar som hör samman med en individ (t.ex. efternamn, förnamn, e-postadress, gatuadress, telefonnummer eller grupptillhörigheter).

j)

1. Utför allt av det följande på ett IP-nät av carrier-klass (t.ex. ett nationellt IP-stamnät):

1. a)

Analys i applikationslagret (t.ex. skikt 7 i OSI-modellen [ISO/IEC 7498–1]),

b)

extraktion av utvald metadata och applikationsinnehåll (t.ex. röst, video, meddelande, bilagor), och

c)

indexering av extraherad data.

2. Speciellt konstruerade för att utföra allt av det följande:

2. a)

Exekvering av sökningar på grundval av hårda selektorer, och

b)

kartläggning av en individs eller en grupps kontaktnät.

a.

Marknadsföring,

b.

nätverkets servicekvalitet (QoS), eller

c.

upplevelsekvalitet (QoE).

5A1 Teknisk anmärkning: a)

Utrustning som är konstruerad eller modifierad för bemannade luftfartyg eller satelliter.

b)

Markbaserad utrustning som är konstruerad eller modifierad för tillämpningar på land eller till sjöss.

c)

Utrustning som är konstruerad för kommersiella eller civila GNSS-tjänster, eller GNSS-tjänster avseende Safety of Life (t.ex. dataintegritet, flygsäkerhet).

5B1 a)

Utrustning och därtill hörande särskilt konstruerade komponenter eller tillbehör, som är särskilt konstruerade för utveckling eller produktion av utrustning, funktioner eller egenskaper som specificeras i avsnitt 5A001. Anmärkning: Avsnitt 5B001.a omfattar inte utrustning för att fastställa egenskaperna hos optiska fibrer.

b)

1. Används inte.

2. a)

En överföringsvåglängd som överstiger 1750 nm.

b)

Optisk förstärkning med användning av praseodymbehandlade fluoridfiberförstärkare (PDFFA).

1286 more provisions are not shown here; each has its own address.

Versions

1. 2014-10-22